
C-25X300型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
主要用途:
本機(jī)針對(duì)各大專院校主要抓手、企業(yè)及科研單位。對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī)構建,三層減震創新科技,組合式,拆卸方便共創輝煌。
它主要用于中小規(guī)模集成電路具有重要意義、半導(dǎo)體元器件、光電子器件大部分、聲表面波器件強大的功能、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)解決方案,適合硅片優勢、玻璃片、陶瓷片增產、銅片結構、不銹鋼片、寶石片的曝光貢獻,而且也適合易碎片如:砷化鉀規模最大、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。
主要性能指標(biāo):
1. 多種版夾盤
l C-25X300型4英寸有四種版夾盤,能真空吸附5"×5"或4"×4"或3"×3"方形掩板統籌。對(duì)版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)最深厚的底氣。
l C-25X300型6英寸有六種版夾盤,能真空吸附7"×7"或6"×6"或5"×5"或4"×4"或3"×3"或2.5"×2.5"方形掩板。對(duì)版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)振奮起來。
2. 真空吸附基片的“承片臺(tái)”
l C-25X300型4英寸設(shè)有相對(duì)應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺(tái)”三個(gè)品質,分別適用于φ2、φ3勞動精神、φ4開展攻關合作。對(duì)于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片製度保障,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附的有效手段。
l C-25X300型6英寸設(shè)有相對(duì)應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺(tái)”五個(gè)統籌推進,分別適用于φ2、φ3關鍵技術、φ4了解情況、φ5、φ6技術研究。對(duì)于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片重要的,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附姿勢。
3. 照明
l 曝光面積:100mm*100mm
l 曝光不均勻性≤3%
l 曝光強(qiáng)度≥40mW/cm2可調(diào)
l 紫外光束角≤3°
l 紫外光中心波長365nm相互融合、404nm、435nm可選
l 紫外光源壽命:≥2萬小時(shí)
4. 采用進(jìn)口時(shí)間繼電器(該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè))控制氣動(dòng)快門綠色化,動(dòng)作準(zhǔn)確可靠技術交流。
5. 該機(jī)為接觸式曝光機(jī),但可實(shí)現(xiàn):
l 硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸拓展。真空≤-0.05MPa創造更多。
l 軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之間。
l 微力接觸曝光:小于軟接觸不斷進步。真空≥-0.02MPa工藝技術。
6. 分辯率估計(jì)
如果用戶的“版”、“片”精度符合國家規(guī)定規模,環(huán)境近年來、溫度、濕度發展目標奮鬥、塵埃得到嚴(yán)格控制技術先進,采用進(jìn)口正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制延伸。加之前后工藝的話認為,硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上
7. 對(duì)準(zhǔn)
觀察系統(tǒng)為兩個(gè)單筒顯微鏡上裝二個(gè)CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上新趨勢。
a.單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡(也可為1.6X~10X)長效機製。
b.CCD攝像機(jī)靶面對(duì)角線尺寸為:1/3,(6mm);
c.采用19"液晶監(jiān)視器數字技術,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍奮戰不懈;
d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù)),4.5×57≈256倍(倍數(shù))或(91倍~570倍)措施。
對(duì)準(zhǔn)臺(tái):(采用片動(dòng)大大縮短,版不動(dòng)方式)
X要落實好、Y調(diào)整:±5mm。
θ調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤5°
對(duì)準(zhǔn)間隙(分離間隙)0~5mm任意可調(diào)更默契了。
對(duì)準(zhǔn)精度:1μm
套刻精度:1μm
整個(gè)對(duì)準(zhǔn)臺(tái)相對(duì)于顯微鏡可作±20mm掃描運(yùn)動(dòng)先進技術。
“接觸、分離”20μm情況下順滑地配合,片相對(duì)于版的“漂移量”深入,可調(diào)到≤±0.5μm效高。
8. 設(shè)備所需能源:
主機(jī)電源: 220V±10% 50HZ
潔凈空氣≥0.4MPα前沿技術。
真空:-0.07~-0.08MPα。
9. 尺寸和重量:
尺寸:機(jī)體720 mm(長)×720 mm(寬)×882mm(高)性能。
重量:≤100Kg多種方式。
機(jī)體放在專用工作臺(tái)上。
工作臺(tái):1100 mm(長)×750 mm(寬)×645 mm(高)技術創新。
高度可調(diào)范圍0~30mm深入交流研討。
重量50Kg(工作臺(tái)后側(cè)裝有電氣部分)。
總重量≤200Kg
10. C-25XB型光刻機(jī)的組成
l 主機(jī)
主機(jī)(含機(jī)體和工作臺(tái))
對(duì)準(zhǔn)用單筒顯微鏡
LED曝光頭
l 附件
主機(jī)附件
3"□型掩版夾盤
4"□型掩版夾盤(出廠時(shí)安裝到機(jī)器上)
用于2"基片的真空夾持承片臺(tái)廣泛應用。
用于3"基片的真空夾持承片臺(tái)(出廠時(shí)安裝到機(jī)器上)
(若需特殊的基片承片臺(tái)關註度,訂貨時(shí)用戶提出)
顯微鏡組成
單筒顯微鏡二個(gè)
兩個(gè)CCD
視頻連接線。
計(jì)算機(jī)和22"液晶監(jiān)視器哪些領域。