C-25X200型 4英寸/6英寸 單面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備
主要用途：
本機(jī)針對(duì)各大專院校初步建立、企業(yè)及科研單位。對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī)供給，三層減震的方法，組合式，拆卸方便進行探討。
它主要用于中小規(guī)模集成電路落到實處、半導(dǎo)體元器件、光電子器件再獲、聲表面波器件產品和服務、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)，適合硅片增多、玻璃片活動上、陶瓷片、銅片進一步推進、不銹鋼片導向作用、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如:砷化鉀應用的選擇、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光十大行動。
主要性能指標(biāo)：
1. 多種版夾盤
l C-25X200型4英寸光刻機(jī)有四種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求（1～4mm皆可）背景下。
l C-25X200型6英寸光刻機(jī)有六種版夾盤,能真空吸附7" ×7"或6" ×6"或5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板綜合措施。對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求（1～4mm皆可）。
2. 真空吸附基片的“承片臺(tái)”
l C-25X200型4英寸光刻機(jī)設(shè)有相對(duì)應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺(tái)”三個(gè)自然條件，分別適用于φ2設計標準、φ3、φ4片互動互補。對(duì)于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片發揮重要帶動作用，只要堵塞相應(yīng)的小孔，同樣能真空吸附意料之外。
l C-25X200型6英寸光刻機(jī)設(shè)有相對(duì)應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺(tái)”五個(gè)文化價值，分別適用于φ2、φ3效果、φ4有所應、φ5、φ6片合作關系。對(duì)于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片認為，只要堵塞相應(yīng)的小孔，同樣能真空吸附增強。
3. 照明
l 光源：采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈重要意義。
l 照明范圍：≤ф100mm
l 不均勻性：ф100mm內(nèi)±3%
l 可使用的波長(zhǎng)：g線、h線更加廣闊、I線的組合規劃。根據(jù)用戶要求，可增加I線濾光片可以使用。
l 成象面照明：光照度10～15毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時(shí),照明度調(diào)在10mw/cm2)進入當下。
曝光分辨率:1μm
l 對(duì)準(zhǔn)精度： 1μm
l 套刻精度： 1μm
4. 采用進(jìn)口時(shí)間繼電器（該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè)）控制氣動(dòng)快門，動(dòng)作準(zhǔn)確可靠效高化。
5. 該機(jī)為接觸式曝光機(jī)新體系，但可實(shí)現(xiàn)：
l 硬接觸曝光：用管道真空來(lái)獲得高真空接觸投入力度。真空≤-0.05MPa。
l 軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間不難發現。
l 微力接觸曝光：小于軟接觸貢獻法治。真空≥-0.02MPa。
6. 分辯率估計(jì)
如果用戶的“版”發展需要、“片”精度符合國(guó)家規(guī)定攻堅克難，環(huán)境、溫度顯示、濕度雙向互動、塵埃得到嚴(yán)格控制，采用進(jìn)口正性光刻膠設計能力，且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制品牌。加之前后工藝的話，硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上
7. 對(duì)準(zhǔn)
觀察系統(tǒng)為兩個(gè)單筒顯微鏡上裝二個(gè)CCD攝像頭更為一致，通過(guò)視屏線連接到顯視屏上紮實做。
a.單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續(xù)變倍顯微鏡（也可為1.6X～10X）。
b.CCD攝像機(jī)靶面對(duì)角線尺寸為：1/3至關重要，（6mm）;
c.采用19"液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍用的舒心；
d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：0.7×57≈40倍（最小倍數(shù)）技術發展，4.5×57≈256倍（倍數(shù)）或（91倍～570倍）。
對(duì)準(zhǔn)臺(tái)：（采用片動(dòng)集成，版不動(dòng)方式）
X重要手段、Y調(diào)整：±5mm。
θ調(diào)整：轉(zhuǎn)角≤5°
對(duì)準(zhǔn)間隙（分離間隙）0～5mm任意可調(diào)穩定性。
整個(gè)對(duì)準(zhǔn)臺(tái)相對(duì)于顯微鏡可作±20mm掃描運(yùn)動(dòng)像一棵樹。
“接觸、分離”20μm情況下去突破，片相對(duì)于版的“漂移量”能運用，可調(diào)到≤±0.5μm。
8. 設(shè)備所需能源：
主機(jī)電源： 220V±10% 50HZ
潔凈空氣≥0.4MPα智能設備。
真空：-0.07～－0.08MPα不可缺少。
9. 尺寸和重量：
尺寸：機(jī)體720 mm（長(zhǎng)）×720 mm（寬）×882mm（高）。
重量：≤100Kg特點。
機(jī)體放在專用工作臺(tái)上積極回應。
工作臺(tái):1100 mm（長(zhǎng)）×750 mm（寬）×645 mm（高）。
高度可調(diào)范圍0～30mm又進了一步。
重量50Kg（工作臺(tái)后側(cè)裝有電氣部分）多種場景。
總重量≤200Kg
10. C-25X200型光刻機(jī)的組成
l 主機(jī)
主機(jī)（含機(jī)體和工作臺(tái)）
對(duì)準(zhǔn)用單筒顯微鏡
蠅眼曝光頭
l 附件
主機(jī)附件
3"□型掩版夾盤
4"□型掩版夾盤（出廠時(shí)安裝到機(jī)器上）
用于2"基片的真空夾持承片臺(tái)多元化服務體系。
用于3"基片的真空夾持承片臺(tái)（出廠時(shí)安裝到機(jī)器上）
（若需特殊的基片承片臺(tái)，訂貨時(shí)用戶提出）
顯微鏡組成
單筒顯微鏡二個(gè)
兩個(gè)CCD
視頻連接線擴大公共數據。
計(jì)算機(jī)和22"液晶監(jiān)視器深度。
