C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對準(zhǔn)光刻機(jī)

主要用途

  主要用于中小規(guī)模集成電路機製、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)集成應用。

  由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)探討，找平力小、使本機(jī)適合硅片高效流通、玻璃片調解製度、陶瓷片、銅片統籌發展、不銹鋼片深化涉外、寶石片等的曝光。

（1） 這是一臺雙面對準(zhǔn)單面曝光的光刻機(jī)生產製造；

（2） 這臺機(jī)器又能完成普通光刻機(jī)的任何工作開展試點；

（3） 同時又是一臺檢查雙面對準(zhǔn)精度的檢查儀。

主要性能指標(biāo)

（1） 高均勻性LED曝光頭共同。

  光強(qiáng)≤20mw推進一步；曝光面積：100mm×100mm

  曝光不均勻性≤3%

  曝光強(qiáng)度≥30mW/cm2可調(diào)

  紫外光束角≤3°

  紫外光中心波長365nm、404nm簡單化、435nm可選

  紫外光源壽命：≥2萬小時

  電子快門精準(zhǔn)控制

  對準(zhǔn)精度1微米力度、曝光精度1微米、套刻精度1微米

（2） 觀察系統(tǒng)為上下各兩個單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機(jī)到液晶顯視屏上系統性。

a勇探新路、 單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續(xù)變倍顯微鏡單產提升；

b、 CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸為：1/3″,6mm試驗；

c勞動精神、 采用19″液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍製度保障；

d保供、 觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：0.7×57≈40倍（最小倍數(shù)）

    4.5×57≈256(倍數(shù)）或(91倍～570倍）

e、 右表板上有一視屏轉(zhuǎn)換開關(guān)：向左為下二個CCD進行部署，向右為上二個CCD責任。

（3） 計算機(jī)硬軟件系統(tǒng)：

a、鼠標(biāo)單擊“開始對準(zhǔn)”保護好，能將監(jiān)視屏上的圖形記憶下來組建，并處理成透明的，以便對新進(jìn)入的圖形進(jìn)行對準(zhǔn)特點；

b深刻變革、鼠標(biāo)雙擊左面或右面圖形，就分別全屏顯示左或右面圖形和諧共生。

（4） 非常特殊的板架裝置：

a質生產力、該裝置能分別裝入152×152板架，對版進(jìn)行真空吸附技術交流；

b推動、該裝置安裝在機(jī)座上，能圍繞A點(diǎn)作翻轉(zhuǎn)運(yùn)動資源配置，相對于承片臺而言作上下翻轉(zhuǎn)運(yùn)動信息，以便于上下版和上下片；

c大力發展、該裝置來回反復(fù)翻轉(zhuǎn)豐富內涵，回到承片臺上平面的位置，重復(fù)精度為≤±1.5µ產能提升；

d適應性、該裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差之功能，保證版下平面與片上平面之良好接觸通過活化，以便提高曝光質(zhì)量落地生根。

（5） 承片臺調(diào)整裝置：

a、 配備有Φ75研學體驗、Φ100承片臺各一個建設項目，這二種承片臺有二個長方孔最為突出，下面二個CCD通過該孔能觀察到版或片的下平面落實落細；

b相結合、 承片臺能作X、Y製高點項目、Z為產業發展、θ運(yùn)動，X有所增加、Y各項要求、Z可作±5mm運(yùn)動，θ運(yùn)動為±5°越來越重要的位置；

c新技術、 承片臺密著環(huán)相對于版，能實現(xiàn)“真空密著”：

真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸順滑地配合；

真空密著力≤-0.05Mpa～-0.02Mpa為軟接觸深入；

           真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸；