C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備

主要用途和主要性能指標(biāo)：

C-33型國產(chǎn)雙面光刻機(jī)主要用途：

C-33型國產(chǎn)雙面光刻機(jī)被廣泛應(yīng)用于中小規(guī)模集成電路競爭力、半導(dǎo)體元器件調整推進、以及聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。它的高級找平機(jī)構(gòu)使其適用于各種材料的曝光機製性梗阻，包括硅片機製、玻璃片、陶瓷片提供了遵循、銅片參與水平、不銹鋼片、寶石片等服務效率。

雙面對準(zhǔn)單面曝光：這臺機(jī)器具備雙面對準(zhǔn)單面曝光功能明確相關要求，可以在一個工藝中對準(zhǔn)并曝光兩側(cè)，提高了生產(chǎn)效率統籌發展。

普通光刻機(jī)工作：除了雙面對準(zhǔn)單面曝光體製，它還可以執(zhí)行普通光刻機(jī)的各種工作任務(wù)。

雙面對準(zhǔn)精度檢查：此外創新科技，它還充當(dāng)了一個檢查雙面對準(zhǔn)精度的檢查儀服務延伸，確保產(chǎn)品的高質(zhì)量和精確度。

C-33型國產(chǎn)雙面光刻機(jī)主要性能指標(biāo)：

高均勻性LED曝光頭：

光強(qiáng)：不超過20毫瓦

曝光面積：100毫米×100毫米

曝光不均勻性：不超過3%

曝光強(qiáng)度：可調(diào)至不低于30毫瓦/平方厘米

紫外光束角度：不超過3度

紫外光中心波長：365納米具有重要意義、404納米進一步、435納米可選擇

紫外光源壽命：不低于2萬小時

電子快門精準(zhǔn)控制

對準(zhǔn)精度：1微米

曝光精度：1微米

套刻精度：1微米

觀察系統(tǒng)：

采用上下各兩個單筒顯微鏡，每個上裝有四個CCD攝像頭強大的功能，通過視屏線連接到計算機(jī)和液晶顯示屏實際需求。

單筒顯微鏡可連續(xù)變倍，范圍從0.7倍至4.5倍優勢。

CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸：1/3英寸善謀新篇，6毫米。

使用19英寸液晶監(jiān)視器便利性，數(shù)字放大倍率可達(dá)57倍方法。

觀察系統(tǒng)的放大倍數(shù)范圍：最小40倍行動力，256倍，或者介于91倍至570倍之間切實把製度。

右側(cè)板上設(shè)有一個視屏轉(zhuǎn)換開關(guān)保供，向左為下面兩個CCD，向右為上面兩個CCD進行部署。

計算機(jī)硬件和軟件系統(tǒng)：

鼠標(biāo)單擊“開始對準(zhǔn)”按鈕責任，可以將監(jiān)視屏上的圖形記錄下來，并將其處理為透明的保護好，以便對新進(jìn)圖形進(jìn)行對準(zhǔn)組建。

鼠標(biāo)雙擊左側(cè)或右側(cè)的圖形，可以分別在整個屏幕上顯示左側(cè)或右側(cè)的圖形特點。

特殊的板架裝置：

該裝置可以裝入152×152的板架首次，并對版進(jìn)行真空吸附。

裝置安裝在機(jī)座上統籌推進，能夠圍繞點(diǎn)A進(jìn)行翻轉(zhuǎn)運(yùn)動方案，相對于承片臺進(jìn)行上下翻轉(zhuǎn)運(yùn)動關鍵技術，以便對上下版和上下片進(jìn)行操作了解情況。

該裝置可以反復(fù)翻轉(zhuǎn)，回到承片臺上的平面位置技術研究，重復(fù)精度不超過±1.5微米重要的。

此裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差的功能，確保上下版平面與上下片平面緊密接觸姿勢，提高曝光質(zhì)量相互融合。

承片臺調(diào)整裝置：

配備Φ75和Φ100兩種承片臺，每個承片臺都有兩個長方形孔綠色化，下面的兩個CCD可以通過這些孔觀察到板或片的下平面不同需求。

承片臺可以進(jìn)行X、Y保持穩定、Z和θ運(yùn)動總之，X、Y支撐作用、Z的運(yùn)動范圍為正負(fù)5毫米研學體驗，θ運(yùn)動范圍為正負(fù)5度。

承片臺密著環(huán)可以實(shí)現(xiàn)“真空密著”最為突出，真空密著力可調(diào)落實落細，分為硬接觸、軟接觸和微力接觸高效化。