C-43型 9英寸 國產(chǎn)高精度光刻機(jī) 多點(diǎn)光源曝光頭

C-43型9英寸國產(chǎn)高精度光刻機(jī)多點(diǎn)光源曝光頭是一款專用于中小規(guī)模集成電路多種場景、半導(dǎo)體元器件以及聲表面波器件的研制和生產(chǎn)的設(shè)備。其出色之處在于其高度的找平機(jī)構(gòu)規劃，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)多種材料的高精度曝光擴大公共數據，包括硅片、玻璃片發行速度、陶瓷片更加堅強、銅片與時俱進、不銹鋼片和寶石片等性能。

工作方式方面，C-43型9英寸國產(chǎn)高精度光刻機(jī)采用一次性光刻曝光高效，即在一次操作中完成曝光的整個(gè)過程溝通協調。

C-43型9英寸國產(chǎn)高精度光刻機(jī)主要技術(shù)指標(biāo)：

設(shè)備配備了一件承片臺(tái)，其尺寸可以根據(jù)用戶的需求進(jìn)行定制體系。

曝光頭采用了多點(diǎn)光源曝光頭保障性，其性能特點(diǎn)如下：

出射光斑直徑不超過230mm，采用高壓直流汞燈責任製，功率為350W十分落實。

在直徑為230mm的范圍內(nèi)，光的不均勻性小于±10%規則製定。

能夠在真空密封條件下進(jìn)行曝光製造業。

曝光時(shí)間可以通過0.1～999.9秒的時(shí)間繼電器進(jìn)行設(shè)定。

汞燈的位置可以通過精密的x關規定、y發展基礎、z調(diào)節(jié)裝置進(jìn)行調(diào)整，分別可以調(diào)節(jié)±5毫米建強保護。

具備風(fēng)扇冷卻裝置同期。

分辨率不低于5μm。

具備真空吸片功能使命責任。

具有真空密封和反吹氣的功能效果，通過調(diào)節(jié)密封真空的大小可以實(shí)現(xiàn)硬接觸曝光（密封真空≤-0.05 Mpa）、軟接觸曝光（密封真空在-0.05Mpa～-0.02Mpa之間）和微力接觸曝光（密封真空≥-0.02Mpa）。

C-43型9英寸國產(chǎn)高精度光刻機(jī)主要配置：

一臺(tái)多點(diǎn)光源曝光頭密度增加，支持一次性曝光基本情況。

曝光面積不小于φ230mm。

曝光不均勻性小于±10%高端化。

曝光強(qiáng)度不低于5mw力量。

曝光分辨率不高于5μm。

曝光模式為單面曝光提單產。

支持多種掩膜版尺寸深入實施，包括3英寸、4英寸發展空間、5英寸效果、6英寸、7英寸解決、8英寸預期、9英寸。

基片厚度不超過5mm幅度。

曝光燈功率為350W結構。

曝光定時(shí)范圍為0～999.9秒，可調(diào)貢獻。

電源要求為單相AC 220V 50Hz規模最大，功耗不超過1kW。

需要潔凈壓縮空氣壓力不低于0.4Mpa統籌。

可以實(shí)現(xiàn)真空度在-0.07Mpa～-0.09Mpa之間最深厚的底氣。

設(shè)備尺寸為700×650×1200毫米（長×寬×高），重量約為110kg振奮起來。

備件包括一臺(tái)真空泵品質、一只汞燈和15米φ8氣管。