C-31型 雙面國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)
主要用途
主要用于中小規(guī)模集成電路促進進步、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)鍛造。
由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)競爭激烈，找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片空白區、陶瓷片協調機製、銅片、不銹鋼片形勢、寶石片等的曝光實踐者。
主要性能指標(biāo)
1、有三種版夾盤供選擇服務機製，能真空吸附5"×5"或4"×4"方形掩版（2.5"×2.5"）貢獻力量，版的厚度無特殊要求1.5~3mm皆可。分別用于φ4大幅拓展、φ3發行速度、φ2基片的曝光∨c時俱進；穸?/span>0.1~1mm都可以性能。
2、曝光
(1)光源采用GCQ350型超高壓球形汞燈綜合運用。
(2)照明范圍：≤φ110mm
(3)光的不均勻性：φ100mm范圍內(nèi)≤±4%
(4)可使用的波長(zhǎng)：G線供給、H線、I線的組合實事求是。（即3500~5000埃）
(5)成像面照明：使用UV—A型表測(cè)量進行探討，光照度≤15毫瓦/厘米2左右（采用3650測(cè)頭測(cè)量），光學(xué)結(jié)構(gòu)原理為16面反射式多點(diǎn)光源服務水平。
3最新、采用進(jìn)口時(shí)間繼電器（該繼電器可從0.1秒~999.9秒內(nèi)任意設(shè)定）控制“真空快門”。動(dòng)作準(zhǔn)確可靠應用擴展。
4體驗區、該機(jī)為雙面接觸式曝光機(jī)，該機(jī)特制的翻版機(jī)構(gòu)活動上，能消除基片楔形誤差有望，保證上下二塊掩膜版對(duì)基片上下兩面良好的接觸，從而保證基片上下兩面的曝光質(zhì)量導向作用。
5方案、分辨率估量：如果用戶的“版”、“片”精度符合國(guó)家規(guī)定十大行動、環(huán)境左右、溫度、濕度以及房間凈化得到嚴(yán)格控制綜合措施，采用進(jìn)口“正性”光刻膠可靠保障，且勻膠厚度和均勻度也得到嚴(yán)格控制的話，本機(jī)曝光最小分辨可達(dá)0.002mm，建議使用在≥0.003mm以上開展。
6互動互補、對(duì)準(zhǔn)：
A、 兩個(gè)單視場(chǎng)變倍顯微鏡加二個(gè)CCD攝像機(jī)加14"顯示器提單產。
1）二個(gè)單視場(chǎng)變倍顯微鏡的變倍范圍0.7X~4.5X.
2）二個(gè)CCD攝像頭：平面對(duì)角線尺為1/3"深入實施。
3）采用19"液晶顯示器，總放大倍數(shù)為0.7×42~4.5×42=30倍~189倍發展空間。
B效果、對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
首先真空吸附下掩版（注意掩版四個(gè)邊，平行于真空吸下掩版的裝置四個(gè)邊）足了準備，然后將上掩版放在下掩版上合作關系，轉(zhuǎn)動(dòng)曝光頭位置，使兩個(gè)單視場(chǎng)顯微鏡對(duì)準(zhǔn)上掩版系統，調(diào)好左右兩個(gè)顯微鏡的焦距增強，從監(jiān)視屏上看清兩個(gè)像。調(diào)整下掩版X交流等、Y和Q轉(zhuǎn)動(dòng)，使上掩版上的圖像或標(biāo)記線規劃，顯視到顯示器屏的左右分開的中間位置提高，然后真空吸附上掩版。上掩版一旦吸附后進入當下，再也不能移動(dòng)紮實。通過下掩版進(jìn)行X、Y和Q移動(dòng)后新體系，實(shí)現(xiàn)上下掩版的對(duì)準(zhǔn)工作投入力度。
上下掩版的對(duì)準(zhǔn)精度≤±0.001mm。
該機(jī)的主要優(yōu)點(diǎn)是不難發現，有一個(gè)上掩版相對(duì)于下掩版的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)貢獻法治，該機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)角度≥90o，甚至可達(dá)180o發展需要，不僅便于上下基片攻堅克難，而且能保證上下掩版對(duì)應(yīng)基片上下面的良好接觸。（能補(bǔ)償基片的楔形誤差）顯示，又能保證上下掩版對(duì)準(zhǔn)了的圖形重合到原來位置雙向互動，其誤差≤5μm。
這一點(diǎn)很重要設計能力，也就是說上下掩版對(duì)準(zhǔn)后品牌，不管怎么翻動(dòng)，怎樣上下基片，上下掩版的圖形仍然是對(duì)準(zhǔn)的應用！這對(duì)大批量生產(chǎn)的廠家來說很重要引領作用，只要上下掩版對(duì)準(zhǔn)后，你就可以不斷地對(duì)基片進(jìn)行雙面曝光臺上與臺下，曝若干片以后用的舒心，你如果想觀察上下掩版是否仍然對(duì)準(zhǔn)的，你只要轉(zhuǎn)動(dòng)曝光頭集聚效應，使顯微鏡對(duì)準(zhǔn)版集成，你就能在顯示器上看見，兩個(gè)版的對(duì)準(zhǔn)情況互動講。
X穩定性、Y調(diào)整范圍±4mm
Q轉(zhuǎn)角≤±5o
7、設(shè)備所需能源：
主機(jī)電源220V 50HZ 功耗≤1.5KW
配有一臺(tái)真空泵過程中，真空泵電源220V
8去突破、尺寸和重量：
尺寸：700（長(zhǎng)）×700（寬）×960（高）
重量≤100kg
機(jī)體放在專用工作臺(tái)上
工作臺(tái) 750（長(zhǎng)）×720（寬）×640（高） 高度可調(diào)范圍0~30mm
重量70kg (工作臺(tái)后側(cè)裝有電氣部分)
總重量≤170kg
9、雙面對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的組成
A達到、 主機(jī)
1）主機(jī)（含機(jī)體和工作臺(tái)）
2）機(jī)體上安裝二臺(tái)單視場(chǎng)可變倍數(shù)顯微鏡智能設備，二臺(tái)CCD攝像頭，一臺(tái)19"顯示器蓬勃發展，一套很有特色的上下翻版裝置特點，二個(gè)16面反射鏡式多點(diǎn)光源曝光頭。
B重要性、 附件：（用戶提出后又進了一步，可配以下附件）
1）3"上下掩版吸版裝置
2）3"上下翻板裝置
3）一個(gè)350瓦高壓球形汞燈
4）真空泵一臺(tái)
5）?8（外徑）高壓用塑料管15m（用于真空管）一根
