C-43型 國(guó)產(chǎn)高精度光刻機(jī) 多點(diǎn)光源曝光頭

C-43型國(guó)產(chǎn)高精度光刻機(jī)主要用途是在中小規(guī)模集成電路全技術方案、半導(dǎo)體元器件和聲表面波器件的研制和生產(chǎn)中使用。C-43的出色之處在于其的找平機(jī)構(gòu)共享，這使得它適用于對(duì)不同類型的材料進(jìn)行曝光信息化，包括硅片、玻璃片生動、陶瓷片新型儲能、銅片、不銹鋼片和寶石片等新品技。

C-43型國(guó)產(chǎn)高精度光刻機(jī)的工作方式是一次性光刻曝光範圍，即一次完成曝光過(guò)程。以下是其主要技術(shù)指標(biāo)：

配置壹件承片臺(tái)紮實做，其尺寸可以根據(jù)用戶需求進(jìn)行制造空間廣闊。

曝光頭采用多點(diǎn)光源，具備以下特性：

出射光斑直徑不超過(guò)110mm提供深度撮合服務。

在直徑為100mm的范圍內(nèi)服務品質，光的不均勻性小于±4%。

能夠在真空密封條件下進(jìn)行曝光組成部分。

曝光時(shí)間可以通過(guò)0.1～999.9秒的時(shí)間繼電器進(jìn)行設(shè)定影響。

汞燈的位置可以通過(guò)精密的x、y的過程中、z調(diào)節(jié)裝置進(jìn)行調(diào)整穩定性，分別可以調(diào)節(jié)±5毫米像一棵樹。

具備風(fēng)扇冷卻裝置。

分辨率不低于1μm更高效。

具備真空吸片功能全面協議。

具備真空密封和反吹氣的功能，通過(guò)調(diào)節(jié)密封真空的大小可以實(shí)現(xiàn)硬接觸曝光（密封真空≤-0.05 Mpa）具體而言、軟接觸曝光（密封真空在-0.05Mpa～-0.02Mpa之間）和微力接觸曝光（密封真空≥-0.02Mpa）。

C-43型國(guó)產(chǎn)高精度光刻機(jī)主要配置：

一臺(tái)多點(diǎn)光源曝光頭智慧與合力，支持一次性曝光喜愛。

曝光面積不小于φ100mm。

曝光不均勻性小于±4%開放要求。

曝光強(qiáng)度不低于15mw向好態勢。

曝光分辨率不高于2μm。

曝光模式為單面曝光服務機製。

控制膜版尺寸為5英寸貢獻力量。

基片尺寸為100mm×100mm，厚度不超過(guò)5mm大幅拓展。

曝光燈功率為350W發行速度。

曝光定時(shí)范圍為0～999.9秒，可調(diào)與時俱進。

電源要求為單相AC 220V 50Hz性能，功耗不超過(guò)1kW。

需要潔凈壓縮空氣壓力不低于0.4Mpa綜合運用。

可以實(shí)現(xiàn)真空度在-0.07Mpa～-0.09Mpa之間供給。

尺寸為700×650×1200毫米（長(zhǎng)×寬×高），重量約為110kg實事求是。

備件包括一臺(tái)真空泵進行探討、一只汞燈和15米φ8氣管。