C-25型單面光刻機(jī) 高精度
主要用途
主要用于中小規(guī)模集成電路貢獻力量、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)大幅拓展。
由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)發行速度，找平力小、使本機(jī)不僅適合硅片與時俱進、玻璃片性能、陶瓷片、銅片綜合運用、不銹鋼片供給、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀實事求是、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光進行探討。
主要構(gòu)成
主要由高精度對準(zhǔn)工作臺落到實處、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、采用高均勻性的多點光源再獲、 蠅眼產品和服務、LED、曝光頭體驗區，PLC電控系統(tǒng)增多、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)新格局、直聯(lián)式無油真空泵明顯、二級防震工作臺和附件箱等組成。
主要性能指標(biāo)
1有三種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"方形掩板顯示。對版的厚度無特殊要求（1～4mm皆可）創新為先。如果不同于上述尺寸的版，真空無法吸附科普活動，但可采用夾盤上的螺孔創新延展，和特殊的壓片固定版。
2設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺”三個長期間，分別適用于φ4基本情況，φ3，φ2片高端化。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片力量，只要堵塞相應(yīng)的小孔，同樣能真空吸附提單產。
3照明
光源：采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈深入實施。
照明范圍：≤110mm
不均勻性：ф100mm內(nèi)±3%
可使用的波長：g線、h線發展空間、I線的組合效果。
成象面照明：光照度2～20毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時,照明度調(diào)在4mw/cm2)。
4采用進(jìn)口時間繼電器（該繼電器可從0.1秒～999.9秒預(yù)設(shè)）控制真空快門足了準備，動作準(zhǔn)確可靠快速融入。
5該機(jī)為接觸式光刻機(jī)，但可實現(xiàn)：
a. 硬接觸曝光：用管道真空來獲得高真空接觸,真空≤-0.05MPα系統。
b. 軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPα～-0.05MPα之間。
c. 微力接觸曝光：小于軟接觸,真空≥-0.02MPα重要意義。
6分辯率估計
如果用戶的“版”交流等、“片”精度符合國家規(guī)定，環(huán)境規劃、溫度提高、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制，采用正性光刻膠紮實，且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制效高化。加之前后工藝的話，硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上等地。如果作為批量生產(chǎn),建議使用在1.5μm以上最為顯著。
7對準(zhǔn)
對準(zhǔn)顯微鏡：
1、由兩支變焦顯微鏡規定，兩支CCD攝像頭環境，一臺液晶顯示器和X.Z方向調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)組成。
2高質量、該顯微鏡雙物鏡距離可調(diào)相對簡便。
3、該顯微鏡既可通過顯示屏同時看見兩物鏡的象流程，也可轉(zhuǎn)換成只看左物鏡或右物鏡的象合作。
4、總放大倍數(shù)：0.7×42～4.5×42=30X～189X助力各業。
對準(zhǔn)臺：（采用片動極致用戶體驗，版不動方式）
X、Y調(diào)整：硅片X深入交流、Y的對準(zhǔn)采用切斯曼機(jī)構(gòu)或微分頭調(diào)節(jié)引領作用。
粗調(diào)≥±3mm
細(xì)調(diào)≤±0.3mm。
Q調(diào)整：轉(zhuǎn)角≤3°（另設(shè)粗調(diào)機(jī)構(gòu)臺上與臺下，可進(jìn)行±15°粗調(diào)）
對準(zhǔn)間隙（分離間隙）0∽50μm任意可調(diào)用的舒心。
整個對準(zhǔn)臺相對于顯微鏡可作±15mm掃描運(yùn)動。
“接觸集聚效應、分離”20μm情況下集成，片相對于版的“漂移量”，可調(diào)到≤0.5μm互動講。
8設(shè)備所需能源
主機(jī)電源： 220V±10% 50HZ
潔凈空氣≥0.4mpα
真空：-0.07～－0.08MPα穩定性。
9尺寸和重量
尺寸：機(jī)體900（長）×674（寬）×882（高）。
重量：150Kg過程中。
機(jī)體放在專用工作臺上去突破。
工作臺630（長）×654（寬）×645（高）。
高度可調(diào)范圍0～30mm達到。
重量180Kg（工作臺后側(cè)裝有電氣部分）智能設備。
總重量≤330Kg
10光刻機(jī)的組成
l 主機(jī)
主機(jī)（含機(jī)體和工作臺）
對準(zhǔn)采用CCD雙視場系統(tǒng)
蠅眼光源曝光頭
l 附件
主機(jī)附件
3"□型掩版夾盤
4"□型掩版夾盤（出廠時安裝到機(jī)器上）
5"□型掩版夾盤。
用于φ2"基片的真空夾持承片臺蓬勃發展。
用于φ3"基片的真空夾持承片臺（出廠時安裝到機(jī)器上）特點。
用于φ4"基片的真空夾持承片臺提高鍛煉。
