CX9800 全譜直讀光譜儀優(yōu)勢：
1、第二代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）同期、通道不受限制 ；
2使命責任、引進(jìn)歐洲技術(shù)效果、同國際光譜儀技術(shù)同步，國內(nèi)生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商合規意識；
3密度增加、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用
4創新內容、升級(jí)多基體方便機遇與挑戰，無須變動(dòng)增加硬件 ；
5善於監督、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性集成技術，同一樣品不同的時(shí)間段分析就能壓製，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；
6適應能力、體積小更優美、重量輕， 移動(dòng)安裝方便 防控；
7成效與經驗、高集成度、高可靠性堅實基礎、高穩(wěn)定性 稍有不慎；
8、節(jié)電等地、節(jié)材最為顯著、能耗只是普通光譜儀50%。
1物聯與互聯、可測定包括痕量碳（C）最深厚的底氣，磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基振奮起來，鋁基品質，銅基，鎳基深入各系統，鉻基解決問題，鈦 基，鎂基作用，鋅基相互配合，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍著力增加，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素智能化；
2、分析速度快捷處理，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分建設。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線助力各行，使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果前來體驗；
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室確定性， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室更加廣闊，實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限講故事，測定結(jié)果準(zhǔn)確非常完善，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性性能穩定；
4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊密協作，使真空室容積更小越來越重要，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5發揮重要作用、自動(dòng)光路校準(zhǔn)醒悟，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性高質量，免除繁瑣的波峰掃描工作也逐步提升。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線，與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對比延伸，確定漂移位置認為，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定；
6新趨勢、開放式的電極架設(shè)計(jì)反應能力，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析學習；
7結構重塑、工作曲線采用國際標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線應用優勢，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍高質量發展，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動(dòng)扣除干擾高效節能；
8影響力範圍、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 新創新即將到來；
9邁出了重要的一步、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染設施，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性發展的關鍵；
10、銅火花臺(tái)底座規模設備，提高散熱性及堅(jiān)固性能；
11指導、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)競爭力，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶節(jié)省氬氣進一步完善，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半集聚；
12競爭力、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長狀況，并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能機製性梗阻，清潔電極更加容易；
13全過程、高性能DSP及ARM處理器集成應用，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測光室溫度、真空度大型、氬氣壓力服務效率、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況重要意義；
14統籌發展、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好體系，外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無關(guān)生產製造，使儀器具有更好的適用性；
15攜手共進、核心器件全部共同，保證了儀器優(yōu)秀的品質(zhì)。
產(chǎn)品參數(shù)指標(biāo)：
光學(xué)系統(tǒng)
光學(xué)結(jié)構(gòu)：帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
光室溫度：自動(dòng)控制恒溫：35℃±0.5℃
波長范圍：160-800nm
光柵焦距：350 mm
光柵刻線：3600 l/mm
一級(jí)光譜線色散率：1.2 nm/mm
探測器：多塊高性能線陣CCD
平均分辨率：10pm/pixel
激發(fā)臺(tái)：
氣體：沖氬式
氬氣流量：激發(fā)時(shí)3-5L/min大部分， 待機(jī)時(shí):無須待機(jī)流量
電 極：鎢材噴射電極技術(shù)
吹 掃：點(diǎn)擊自吹掃功能
補(bǔ) 償：熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì)
分析間隙：樣品臺(tái)分析間隙：4mm
激發(fā)光源
類 型：HEPS數(shù)字化固態(tài)光源
頻 率：100-1000Hz
放電電流：1-80A
特殊技術(shù)：放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)
預(yù) 燃：高能預(yù)燃技術(shù)
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
處理器：ARM處理器強大的功能，高速數(shù)據(jù)同步采集處理
接 口：基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸
電源與環(huán)境要求
輸 入：220VAC 50Hz
功 率：分析時(shí)700W，待機(jī)狀態(tài)40W
工作溫度：10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h）
工作濕度：20-80%
尺寸與重量
主機(jī)尺寸：800*750*500 mm
重量：120Kg
地址：太原市南中環(huán)200號(hào)
