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CX-9800(T)全譜直讀光譜分析儀

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優(yōu)勢:1提高、第二代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))可以使用、通道不受限制

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優(yōu)勢:


1、第二代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))各領域、通道不受限制 應用領域;

2、引進歐洲技術(shù)進行培訓、同國際光譜儀技術(shù)同步發展機遇,國內(nèi)能生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商;
3物聯與互聯、基體范圍內(nèi)通道改變穩定、增加不需費用
4、升級多基體方便供給,無須變動增加硬件 優勢與挑戰;
5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性解決方案,同一樣品不同的時間段分析趨勢,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ;
6上高質量、體積小一站式服務、重量輕廣度和深度, 移動安裝方便 ;
7引領作用、高集成度加強宣傳、高可靠性、高穩(wěn)定性 用的舒心;

8技術發展、節(jié)電、節(jié)材集成、能耗只是普通光譜儀50%重要手段。


主要特點:


1、可測定包括痕量碳(C)技術的開發,磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體研究與應用,如:鐵基,鋁基更高效,銅基全面協議,鎳基,鉻基具體而言,鈦基工具,鎂基,鋅基喜愛,錫基和鉛基重要的角色。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素高質量;

2也逐步提升、分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分註入了新的力量。針對不同的分析材料重要的作用,通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線,使儀器用短的時間達到優(yōu)的分析效果去創新;

3足夠的實力、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室, 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室結構,實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗更適合,提高檢出限,測定結(jié)果準(zhǔn)確溝通協調,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性要素配置改革;

4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計保障性,使真空室容積更小帶動產業發展,抽真空速度不到普通光譜儀的一半開拓創新;

5、自動光路校準(zhǔn)必然趨勢,光學(xué)系統(tǒng)自動進行譜線掃描,確保接收的正確性擴大,免除繁瑣的波峰掃描工作多樣性。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進行對比新格局,確定漂移位置明顯,找出分析線當(dāng)前的像素位置進行測定;

6顯示、開放式的電極架設(shè)計創新為先,可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析科普活動;

7創新延展、工作曲線采用國際標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線長期間,可根據(jù)需要延伸及擴展范圍基本情況,每條曲線由多達幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動扣除干擾全過程;

8集成應用、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 不負眾望;

9高效流通、固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染精準調控,提高長期運行穩(wěn)定性功能;

10、銅火花臺底座機遇與挑戰,提高散熱性及堅固性能廣泛關註;

11、合理的氬氣氣路設(shè)計集成技術,使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短就能壓製,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半適應能力;

12更優美、采用鎢材料電極,電極使用壽命更長防控,并設(shè)計了電極自吹掃功能成效與經驗,清潔電極更加容易適應性;

13、高性能DSP及ARM處理器稍有不慎,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度重要作用、真空度、氬氣壓力最為顯著、光源尤為突出、激發(fā)室等模塊 的運行狀況;

14環境、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接空間載體,抗干擾性能好,外部計算機升級與儀器配置無關(guān)相對簡便,使儀器具有更好的適用性重要組成部分;

15、核心器件全部合作,保證了儀器優(yōu)秀的品質(zhì)特點。


技術(shù)指標(biāo)



光學(xué)系統(tǒng)


光學(xué)結(jié)構(gòu):帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

光室溫度:自動控制恒溫:35℃±0.5℃

波長范圍:160-800nm

光柵焦距:350 mm

光柵刻線:3600 l/mm

一級光譜線色散率:1.2 nm/mm

探測器:多塊高性能線陣CCD

平均分辨率:10pm/pixel


激發(fā)臺


氣體:沖氬式

氬氣流量:激發(fā)時3-5L/min, 待機時:無須待機流量

電極:鎢材噴射電極技術(shù)

吹掃:點擊自吹掃功能

補償:熱變形自補償設(shè)計

分析間隙:樣品臺分析間隙:4mm


激發(fā)光源


類型:HEPS數(shù)字化固態(tài)光源

頻率:100-1000Hz

放電電流:1-80A

特殊技術(shù):放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計

預(yù)燃:高能預(yù)燃技術(shù)


數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)


處理器:ARM處理器結論,高速數(shù)據(jù)同步采集處理

接口:基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸


電源與環(huán)境要求


輸入:220VAC 50Hz

功率:分析時700W慢體驗,待機狀態(tài)40W

工作溫度:10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h)

工作濕度:20-80%


尺寸與重量


尺寸:800*450*500 mm

重量:85Kg




地址:太原市南中環(huán)200號 



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