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掠入射平場光柵光譜儀251MX251MX極紫外掠入射平場光柵光譜儀外形及光路排布251MX采用在軟X射線診斷領域廣受歡迎的掠入射平場光柵架構
掠入射平場光柵光譜儀251MX
251MX極紫外掠入射平場光柵光譜儀外形及光路排布
251MX采用在軟X射線診斷領域廣受歡迎的掠入射平場光柵架構。其入射角為87°近年來，確保極紫外波段的反射率講道理；采用變柵距（Variable Line-Space, VLS）光柵的柵線非均勻分布，將羅蘭圓像場矯正為平場技術先進，適合直接探測CCD相機等平面探測器采集更多的合作機會。多樣化的光柵選擇使得251MX可滿足1~200nm的攝譜需求。光譜儀可容納兩塊光柵認為，推拉式切換行業分類；支持探測器平動以擴展攝譜范圍。251MX內(nèi)置零級擋板提高鍛煉，可在保持真空的前提下調(diào)節(jié)擋板位置，以阻擋零級光凝聚力量。
產(chǎn)品特點
l 1nm ~ 200nm有所提升；
l VLS光柵，整個像面保持高分辨率新的力量；
l 無需掃描先進水平，穩(wěn)定、便利全面展示；
l 1E-6高真空越來越重要的位置；超高真空可選；
典型應用
l 高次諧波
l 極紫外光源研發(fā)
l 激光等離子體共同學習、高溫等離子體順滑地配合、Z-Pinch、磁約束等離子體
l X射線激光效高，自由電子激光
l 極紫外光學系統(tǒng)測試
主要參數(shù)
光學設計 | 掠入射像差校正平場設計 |
入射角 | 87° |
焦面 | 25mm |
探測器 | 可平動前沿技術、轉(zhuǎn)動 |
波長范圍 | 1nm ~ 200nm，取決于光柵 |
光柵尺寸 | 50×30mm |
光柵支架 | 雙位性能，真空下可切換 |
零級擋板 | 標配多種方式，真空下可調(diào) |
狹縫 | 0.01 ~ 3mm連續(xù)可調(diào)；高度可置 |
真空 | 標準：1E-6 Torr技術創新；可選UHV |
可選光柵
刻劃密度 (g/mm) | 120 | 300 | 1200 | 2400 |
偏轉(zhuǎn)角（°） | 170 | 170 | 170 | 174.4 |
分辨率（nm） | ~0.3 | ~0.12 | ~0.028 | ~0.01 |
平場范圍（nm） | 50~200 | 20~80 | 5~20 | 1~5 |
測試示例
鎂K線譜（左）與氧K線譜（右深入交流研討，三階）
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