SPM300 激光共聚焦多模態(tài)半導(dǎo)體參數(shù)測(cè)試儀
產(chǎn)品概述
在半導(dǎo)體制造過(guò)程中無障礙,諸如退火、切割快速融入、光刻等工序會(huì)在材料中引入應(yīng)力認為。這些應(yīng)力可分為張應(yīng)力和壓應(yīng)力,分別對(duì)應(yīng)拉伸和壓縮作用增強。適當(dāng)?shù)膽?yīng)力有助于提升器件性能重要意義,例如在硅晶體中引入張應(yīng)變可提高電子遷移率,從而增強(qiáng)器件速度置之不顧。然而不斷完善,過(guò)度或不均勻的應(yīng)力可能導(dǎo)致材料缺陷、晶圓翹曲方便,甚至影響器件的可靠性和壽命著力提升。拉曼光譜作為一種非破壞性檢測(cè)技術(shù),能夠高靈敏度地檢測(cè)材料中的應(yīng)力狀態(tài)傳遞。其原理基于光與材料內(nèi)化學(xué)鍵的相互作用融合,通過(guò)分析散射光譜的變化,獲取材料的應(yīng)力信息相關性。
與其他檢測(cè)方法相比完成的事情,拉曼光譜具有快速、無(wú)損穩定、空間分辨率高等優(yōu)勢(shì)改造層面,特別適用于半導(dǎo)體材料的應(yīng)力檢測(cè)。
什么是拉曼光譜測(cè)試優勢與挑戰?
拉曼光譜是一種基于光與物質(zhì)相互作用的非破壞性分析技術(shù)經驗分享,主要用于研究材料的分子振動(dòng)、旋轉(zhuǎn)和其他低頻模式趨勢。當(dāng)單色激光照射到樣品上時(shí)有力扭轉,大部分光子會(huì)發(fā)生彈性散射(瑞利散射),其頻率與入射光相同一站式服務。然而廣度和深度,約有一百萬(wàn)分之一的光子會(huì)與樣品分子發(fā)生非彈性散射,導(dǎo)致散射光的頻率發(fā)生變化引領作用,這種現(xiàn)象被稱(chēng)為拉曼散射加強宣傳。
拉曼光譜通過(guò)檢測(cè)這些頻率變化,提供關(guān)于樣品分子結(jié)構(gòu)效率和安、化學(xué)鍵和分子間相互作用的信息設計能力。在拉曼光譜中,每個(gè)峰對(duì)應(yīng)特定的分子振動(dòng)模式深入開展,其位置和強(qiáng)度反映了分子的特性更為一致。由于不同物質(zhì)的拉曼光譜具有獨(dú)*的特征等形式,因此被稱(chēng)為物質(zhì)的“化學(xué)指紋”,可用于快速識(shí)別和區(qū)分不同材料研究與應用。
此外飛躍,拉曼光譜在檢測(cè)材料應(yīng)力和應(yīng)變方面也具有獨(dú)*優(yōu)勢(shì)。材料中的應(yīng)力會(huì)導(dǎo)致晶格結(jié)構(gòu)的變化全面協議,從而引起拉曼譜峰的位置和形狀發(fā)生變化重要部署。通過(guò)分析這些變化,可以非破壞性地評(píng)估材料的應(yīng)力狀態(tài)越來越重要。
應(yīng)力的來(lái)源與檢測(cè)方法
應(yīng)力是指材料內(nèi)部由于外力或溫度變化等因素引起的內(nèi)力線上線下,通常以單位面積上的力來(lái)表示。根據(jù)作用方式醒悟,應(yīng)力可分為:
張應(yīng)力(拉應(yīng)力):使材料沿某方向伸長(zhǎng)的應(yīng)力數據顯示。在半導(dǎo)體材料中,適當(dāng)?shù)膹垜?yīng)力可提高電子遷移率也逐步提升,增強(qiáng)器件性能記得牢。
壓應(yīng)力:使材料沿某方向縮短的應(yīng)力。在某些情況下重要的作用,壓應(yīng)力可能導(dǎo)致材料變形或性能下降更多可能性。
在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,如退火足夠的實力、切割緊迫性、光刻等工序,都會(huì)引入應(yīng)力更適合。適當(dāng)?shù)膽?yīng)力有助于提升器件性能多元化服務體系,但過(guò)大的應(yīng)力可能導(dǎo)致材料缺陷、晶圓翹曲擴大公共數據,影響器件的可靠性和壽命
檢測(cè)薄膜應(yīng)力的常用方法包括X射線(xiàn)衍射和拉曼光譜:
X射線(xiàn)衍射(XRD):通過(guò)測(cè)量晶格常數(shù)的變化來(lái)計(jì)算應(yīng)力。該方法精度高帶動擴大,但對(duì)樣品制備要求嚴(yán)格核心技術體系,測(cè)量范圍較小,難以實(shí)現(xiàn)在線(xiàn)檢測(cè)持續發展。
拉曼光譜:通過(guò)檢測(cè)拉曼譜峰的位置變化來(lái)評(píng)估應(yīng)力必然趨勢。該方法具有非接觸、無(wú)損擴大、快速多樣性、空間分辨率高等優(yōu)點(diǎn),適用于在線(xiàn)監(jiān)測(cè)和微區(qū)分析新格局。
在半導(dǎo)體材料應(yīng)力檢測(cè)中的應(yīng)用
拉曼光譜作為一種非破壞性明顯、高靈敏度的分析技術(shù)安全鏈,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體材料的應(yīng)力檢測(cè)。通過(guò)分析拉曼譜峰的位置和形狀變化創新為先,可以評(píng)估材料內(nèi)部的應(yīng)力狀態(tài)真正做到。
單晶硅和多晶硅的應(yīng)力檢測(cè)
單晶硅和多晶硅在拉曼光譜中的特征峰位于約520CM 1處,對(duì)應(yīng)于硅的晶格振動(dòng)模式競爭力。
當(dāng)材料內(nèi)部存在應(yīng)力時(shí)調整推進,晶格常數(shù)發(fā)生變化,導(dǎo)致拉曼譜峰發(fā)生位移:張應(yīng)力(拉應(yīng)力):使晶格常數(shù)增大機製性梗阻,拉曼譜峰向低波數(shù)方向移動(dòng)機製。
壓應(yīng)力:使晶格常數(shù)減小,拉曼譜峰向高波數(shù)方向移動(dòng)集成應用。
通過(guò)測(cè)量拉曼譜峰的位移量探討,可以定量評(píng)估材料中的應(yīng)力大小。例如使用,在多晶硅薄膜中合規意識,拉曼譜峰的頻移與殘余應(yīng)力之間存在線(xiàn)性關(guān)系,可用于計(jì)算應(yīng)力值有效性。
拉曼光譜與應(yīng)變硅材料
應(yīng)變硅(STRAINED SILICON)技術(shù)通過(guò)在硅材料中引入應(yīng)變來(lái)提高載流子遷移率創新內容,從而提升器件性能。常見(jiàn)的方法包括:
引入張應(yīng)變:在硅中引入拉伸應(yīng)力廣泛關註,增大電子遷移率善於監督。
引入壓應(yīng)變:在硅中引入壓縮應(yīng)力,增大空穴遷移率就能壓製。
拉曼光譜可用于表征應(yīng)變硅材料的應(yīng)力狀態(tài)更合理。應(yīng)變的存在會(huì)導(dǎo)致拉曼譜峰發(fā)生位移,且位移方向和幅度與應(yīng)變類(lèi)型和大小相關(guān)更優美。通過(guò)分析拉曼譜峰的變化各方面,可以評(píng)估應(yīng)變硅材料中的應(yīng)力分布和應(yīng)變程度,為器件設(shè)計(jì)和工藝優(yōu)化提供參考成效與經驗。
在多種半導(dǎo)體檢測(cè)中的拓展應(yīng)用
拉曼光譜作為一種非破壞性適應性、高靈敏度的分析技術(shù),已在半導(dǎo)體領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用稍有不慎,除應(yīng)力檢測(cè)外重要作用,還包括以下方面:
純度檢測(cè):拉曼光譜可用于評(píng)估半導(dǎo)體材料的純度,檢測(cè)雜質(zhì)和污染物的存在最為顯著,從而確保材料質(zhì)量尤為突出。
合金成分分析:在1-V族半導(dǎo)體合金中,拉曼光譜可用于確定組分比例,分析材料的化學(xué)組成空間載體。
結(jié)晶度評(píng)估:通過(guò)分析拉曼譜峰的形狀和寬度責任,可以評(píng)估材料的結(jié)晶度,判斷其晶體質(zhì)量利用好。
缺陷檢測(cè):拉曼光譜對(duì)晶格缺陷敏感深入各系統,可用于檢測(cè)材料中的缺陷和位錯(cuò),評(píng)估其對(duì)器件性能的影響系列。

產(chǎn)品特性和核心技術(shù):
· 激光自動(dòng)聚焦
· 自主研制的激光輔助離焦量傳感器:
可在紫外激發(fā)光照射樣品并采集熒光信號(hào)的同時(shí)工作作用,實(shí)現(xiàn)自動(dòng)聚焦和表面跟蹤。
· 紫外暗場(chǎng)照明慢體驗。
· 標(biāo)配波長(zhǎng)275nm紫外激發(fā)光著力增加,可按用戶(hù)要求定制其它波長(zhǎng)發(fā)光
· 可同位采集明場(chǎng)顯微像、可見(jiàn)光波段暗場(chǎng)熒光像科技實力、紅外波段暗場(chǎng)熒光像處理,分析樣品中位錯(cuò)、層錯(cuò)等品格缺陷的分布在此基礎上。
· 全自動(dòng)操作助力各行。
· 自動(dòng)化的控制軟件和數(shù)據(jù)處理軟件,全軟件操作自主研發。
· 相關(guān)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn):
《中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB T43493.3-2023 半導(dǎo)體器件功率器件用碳化硅同質(zhì)外延片缺陷的無(wú)損檢測(cè)識(shí)別判據(jù) 第3部分:缺陷的光致發(fā)光檢測(cè)方法》(2023年12月28日發(fā)布確定性,2024年7月1日實(shí)施)
性能參數(shù):
拉曼激發(fā)和收集模塊 | 激發(fā)波長(zhǎng) | 532 nm |
激光功率 | 50 mW |
自動(dòng)對(duì)焦 | 在全掃描范圍自動(dòng)聚焦和實(shí)時(shí)表面跟蹤。 對(duì)焦精度<0.2 um損耗。 |
顯微鏡 | 用于樣品定位和成像100×講故事,半復(fù)消色差物鏡 空間分辨率 < 2 μm |
拉曼頻移范圍 | 80 ~ 9000 cm-1 |
樣品移動(dòng)和掃描平臺(tái) | 平移臺(tái) | 掃描范圍大于300 × 300 mm2。 *小分辨率1 μm性能穩定。 |
樣品臺(tái) | 8吋吸氣臺(tái)(12吋可定制) 可兼容2全面革新、4、6情況正常、8吋晶圓片 |
光譜儀和探測(cè)器 | 光譜儀 | 焦長(zhǎng)320 mm單色儀行業分類,接面陣探測(cè)器。 |
軟件 | 控制軟件 | 可選擇區(qū)域或指*點(diǎn)位自動(dòng)進(jìn)行逐點(diǎn)光譜采集 |
Mapping數(shù)據(jù)分析軟件 | 可對(duì)光譜峰位數據顯示、峰高和半高寬等進(jìn)行擬合。 可自動(dòng)擬合并計(jì)算應(yīng)力也逐步提升、晶化率、1載流子濃度等信息註入了新的力量,樣品數(shù)據(jù)庫(kù)可定制重要的作用。 主成分分析(PCA)和k-均值聚類(lèi)處理模塊。 將擬合結(jié)果以二維圖像方式顯示新趨勢。 |
· 上述表格中的激光波長(zhǎng)反應能力、物鏡和單色儀等部件可以根據(jù)客戶(hù)需求調(diào)整共謀發展。
應(yīng)用案例:


實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)










智能化軟件平臺(tái)和模塊化設(shè)計(jì)
· 統(tǒng)一的軟件平臺(tái)和模塊化設(shè)計(jì)
· 良好的適配不同的硬件設(shè)備:平移臺(tái)、顯微成像裝置結構重塑、光譜采集設(shè)備聽得懂、自動(dòng)聚焦裝置等
· 成熟的功能化模塊:晶圓定位、光譜采集高質量發展、掃描成像Mapping全方位、3D層析,Raman Mapping影響力範圍,F(xiàn)LIM大局,PL Mapping,光電流Mapping等邁出了重要的一步。
· 智能化的數(shù)據(jù)處理模組:與數(shù)據(jù)擬合有序推進、機(jī)器學(xué)習(xí)、人工智能等結(jié)合的在線(xiàn)或離線(xiàn)數(shù)據(jù)處理模組需求,將光譜解析為成分堅定不移、元素的分布等,為客戶(hù)提供直觀的結(jié)果更讓我明白了∮y而上?筛鶕?jù)客戶(hù)需求定制光譜數(shù)據(jù)解析的流程和模組
· 可根據(jù)客戶(hù)需求進(jìn)行定制化的界面設(shè)計(jì)和定制化的RECIPE流程設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的采集和數(shù)據(jù)處理功能充分。
顯微光譜成像控制軟件界面

強(qiáng)大的光譜圖像數(shù)據(jù)處理軟件VISUALSPECTRA
顯示:針對(duì)光譜Mapping數(shù)據(jù)的處理進一步完善,一次性操作,可對(duì)整個(gè)圖像數(shù)據(jù)中的每一條光譜按照設(shè)定進(jìn)行批處理競爭力,獲得對(duì)應(yīng)的譜峰調整推進、壽命、成分等信息機製性梗阻,并以偽彩色或3D圖進(jìn)行顯示機製。
顯微光譜成像控制軟件界面

3D顯示

基礎(chǔ)處理功能:去本底、曲線(xiàn)平滑集成應用、去雜線(xiàn)探討、去除接譜臺(tái)階、光譜單位轉(zhuǎn)化

進(jìn)階功能:光譜歸一化高效流通、選區(qū)獲取積分明確相關要求、*大、*小統籌發展、*大/*小值位置等

譜峰擬合:采用多種峰形(高斯深化涉外、洛倫茲、高斯洛倫茲等)對(duì)光譜進(jìn)行多峰擬合,獲取峰強(qiáng)、峰寬開展試點、峰位攜手共進、背景等信息。

**功能:應(yīng)力擬合:針對(duì)Si推進一步、GaN經過、SiC等多種材料,從拉曼光譜中解析材料的應(yīng)力變化,直接獲得應(yīng)力定量數(shù)值,并可根據(jù)校正數(shù)據(jù)進(jìn)行校正。

**功能:應(yīng)力擬合:針對(duì)S1力度、GAN明確了方向、SIC等多種材料,從拉曼光譜中解析材料的應(yīng)力變化,直接獲得應(yīng)力定量數(shù)值,并可根據(jù)校正數(shù)據(jù)進(jìn)行校正。

載流子濃度擬合

晶化率擬合

熒光壽命擬合
自主開(kāi)發(fā)的一套時(shí)間相關(guān)單光子計(jì)數(shù)(TCSPC)熒光壽命的擬合算法善謀新篇,主要特色
1.從上升沿?cái)M合光譜響應(yīng)函數(shù)(IRF)增產,無(wú)需實(shí)驗(yàn)獲取。
2.區(qū)別于簡(jiǎn)單的指數(shù)擬合方法,通過(guò)光譜響應(yīng)函數(shù)卷積算法獲得每個(gè)組分的熒光壽命行動力,光子數(shù)比例,計(jì)算評(píng)價(jià)函數(shù)和殘差切實把製度,可扣除積分和響應(yīng)系統(tǒng)時(shí)間不確定度的影響保供,獲得更加穩(wěn)定可靠的壽命數(shù)值。
3.*多包含4個(gè)時(shí)間組分進(jìn)行擬合進行部署。

熒光壽命擬合

主成分分析和聚類(lèi)分析

每個(gè)主成分的譜顯示

主成分的分布圖

主成分聚類(lèi)處理和分析
