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公司名稱 則晗科技（上海）有限公司
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所在地 上海市
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2024/5/29 16:06:07
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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化宣講手段，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開(kāi)模后產(chǎn)品與澆口相連積極拓展新的領域，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離配套設備，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開(kāi)模前更優質，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化推進高水平，降低對(duì)人的依賴脫穎而出。

高級(jí)成像與表面形貌分析用多功能共聚焦顯微鏡蔡司LSM 900激光掃描共聚焦顯微鏡（CLSM）是一臺(tái)用于材料分析的儀器，可在實(shí)驗(yàn)室或多用戶設(shè)施中表征三維微觀結(jié)構(gòu)和表面形貌生產創效。LSM 900可對(duì)納米材料結構、金屬、聚合物和半導(dǎo)體進(jìn)行精確的三維成像和分析優化上下。將蔡司Axio Imager.Z2m正置式全自動(dòng)光學(xué)顯微鏡或蔡司Axio Observer 7倒置式顯微鏡裝上LSM 900共聚焦掃描頭能力建設，同時(shí)具有所有的光學(xué)

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高級(jí)成像與表面形貌分析用多功能共聚焦顯微鏡

蔡司LSM 900激光掃描共聚焦顯微鏡（CLSM）是一臺(tái)用于材料分析的儀器，可在實(shí)驗(yàn)室或多用戶設(shè)施中表征三維微觀結(jié)構(gòu)和表面形貌生產體系。LSM 900可對(duì)納米材料服務、金屬、聚合物和半導(dǎo)體進(jìn)行精確的三維成像和分析參與水平。將蔡司Axio Imager.Z2m正置式全自動(dòng)光學(xué)顯微鏡或蔡司Axio Observer 7倒置式顯微鏡裝上LSM 900共聚焦掃描頭大型，同時(shí)具有所有的光學(xué)顯微鏡觀察模式，以及高精度的共聚焦表面三維成像模式明確相關要求，您可輕松將所有功能集于一身重要意義。這些功能的使用無(wú)需切換顯微鏡，您將可以進(jìn)行原位觀察行業內卷，節(jié)省大量的時(shí)間追求卓越。自動(dòng)化也會(huì)給您的數(shù)據(jù)采集和后期處理帶來(lái)諸多便利。另外參與能力，LSM 900具有非接觸式共聚焦成像的優(yōu)勢(shì)合理需求，例如表面粗糙度的評(píng)估

優(yōu)勢(shì)

結(jié)合光學(xué)顯微和共聚焦成像

LSM共聚焦平臺(tái)LSM 900專為2D和3D的嚴(yán)苛材料應(yīng)用而開(kāi)發(fā)。

您可以用非接觸式共聚焦成像來(lái)表征樣品的形貌特征和評(píng)估表面粗糙度
以無(wú)損方式確定涂層和薄膜的厚度
您可以運(yùn)用各種成像方式充分發揮，包括在光學(xué)觀察方式或共聚焦模式下的偏光與熒光顯微成像
在反射光下表征金相樣品高質量，在透射光下表征巖石或聚合物薄片樣品。

高效樣品研究

無(wú)需切換顯微鏡選擇適用，即可使用多種方式對(duì)新材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像與分析管理，減少儀器設(shè)置時(shí)間，提高獲得結(jié)果的效率業務指導。

在樣品的多個(gè)位置使用自動(dòng)化數(shù)據(jù)采集優(yōu)化您的流程改進措施。
可以在概況圖像上靈活定義您感興趣的區(qū)域，只采集您需要的區(qū)域長足發展。
高達(dá)6,144 × 6,144像素的掃描范圍使您可以靈活定義掃描區(qū)域的大小甚至方向
掌控?cái)?shù)據(jù)及其后期處理

擴(kuò)展成像范圍

共聚焦裝置助您拓展寬場(chǎng)分析能力：

將Axio Imager.Z2m正置式全自動(dòng)顯微鏡或Axio Observer 7倒置式顯微鏡裝上LSM 900共聚焦掃描頭進(jìn)行升級(jí)今年，您可充分利用其硬件，如物鏡結構不合理、載物臺(tái)動手能力、光源等逐步改善，及其軟件和接口的功能多樣性。
可選配的蔡司ZEN Intellesis軟件提供基于機(jī)器學(xué)習(xí)的圖像分割解決方案引領，可用于鑒別不同的相組織自動化裝置。
在進(jìn)行多尺度實(shí)驗(yàn)時(shí)，添加ZEN Connect來(lái)疊加和處理任意來(lái)源的圖像
使用ZEN Data Storage執(zhí)行智能數(shù)據(jù)管理
使用Shuttle＆Find關(guān)聯(lián)顯微技術(shù)模塊擴(kuò)展您的共聚焦顯微鏡功能實(shí)現(xiàn)從光學(xué)顯微鏡切換至電子顯微鏡應用前景，反之亦然有很大提升空間。將成像和分析方法高效結(jié)合。在材料分析應(yīng)用中獲取樣品信息首次。過(guò)程可重復(fù)可能性更大。

共聚焦原理

對(duì)整個(gè)樣品進(jìn)行3D成像

LSM 900顯微鏡系統(tǒng)使用激光作為光源，采集樣品一定光切厚度的激光反射信號(hào)搖籃，并在三維高度上進(jìn)行掃描得到光切面的圖像堆棧技術。光路中設(shè)置有小尺寸的光欄（通常稱為針孔），該針孔僅允許焦平面的光線通過(guò)推動，阻擋非焦平面的光線進(jìn)入探測(cè)器相對較高。

為了對(duì)光切面進(jìn)行成像，還需要控制激光束進(jìn)行X即將展開、Y方向的掃描大幅增加。掃描的時(shí)候，焦平面的信息會(huì)呈現(xiàn)亮色傳承，而非焦平面的信息會(huì)呈現(xiàn)黑色等特點。
移動(dòng)樣品和物鏡的相對(duì)位置，就可以以無(wú)損方式得到一系列沿高度方向上的光切面圖像堆棧多種。
分析水平圖像上單個(gè)像素位置在高度上的亮度變化曲線將進一步，就可以得到當(dāng)前像素位置的物體高度值。綜合整個(gè)視場(chǎng)內(nèi)所有像素位置的高度信息就可以形成測(cè)試面積上的高度分布云圖發展成就。

物鏡

共聚焦專用C Epiplan-APOCHROMAT高性能物鏡

使用復(fù)消色差平視場(chǎng)校正C Epiplan-APOCHROMAT系列物鏡成就，可以更好地滿足反射光應(yīng)用的嚴(yán)苛要求。

該系列物鏡可以保證在可見(jiàn)光譜范圍內(nèi)具有出色的成像對(duì)比度開展面對面，以及高透過(guò)率系統。
同時(shí)還可以在寬場(chǎng)觀察模式下得到很好的微分干涉效果，以及清晰的熒光圖像自動化。
C Epiplan-APOCHROMAT物鏡專為共聚焦成像設(shè)計(jì)，在使用激光波長(zhǎng)405 nm的情況下高品質，能夠?qū)崿F(xiàn)全視野中最小的像差不折不扣。使用這一物鏡能夠以更少的干擾噪聲和偽影來(lái)產(chǎn)生更好的形貌數(shù)據(jù)，進(jìn)而呈現(xiàn)更多樣品表面細(xì)節(jié)資源優勢。

查看專為共聚焦成像設(shè)計(jì)的物鏡的效果
左圖中可以清楚地看到邊緣的偽影和平面上的噪聲高效利用，但在右圖中卻看不到它們特征更加明顯。

采用不針對(duì)405nm波長(zhǎng)優(yōu)化的物鏡獲取的成像結(jié)果

采用C EpiplanAPOCHROMAT物鏡獲取的樣品成像結(jié)果

軟件

OAD：ZEN成像軟件的接口

蔡司LSM 900包含版本的ZEN成像軟件，其中包括用于數(shù)據(jù)交換的開(kāi)放式應(yīng)用程序開(kāi)發(fā)（OAD）接口講理論。

自定義和自動(dòng)化您的工作流程的可能性。當(dāng)基礎(chǔ)版ZEN軟件無(wú)法滿足您的需求時(shí)，您可以使用已建立的第三方分析和研究軟件（如MATLAB）交換數(shù)據(jù)服務為一體。
您可自行創(chuàng)建宏解決方案問題。輕松獲得ZEN的一系列重要功能，以及諸如.Net Framework等元件庫(kù)的能力全會精神。

用ConfoMap進(jìn)行3D表面分析

ConfoMap是實(shí)現(xiàn)3D表面形貌顯示和分析的理想選擇系統穩定性。

根據(jù)的計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行表面性能的質(zhì)量與功能評(píng)估，如 ISO 25178集中展示。
您可以在軟件中對(duì)圖像進(jìn)行綜合幾何形狀實力增強、功能性和粗糙度研究，以及創(chuàng)建詳細(xì)的表面分析報(bào)告共享。
新增可選模塊用于高級(jí)表面紋理分析信息化、輪廓分析、晶粒與顆粒分析生動、3D 傅立葉分析及表面進(jìn)化分析和統(tǒng)計(jì)新型儲能。

激光配置

根據(jù)您的應(yīng)用選擇不同的激光器模塊

擴(kuò)展共聚焦顯微鏡的應(yīng)用范圍，您有兩種選擇：

帶紫外激光模塊（405 nm 波長(zhǎng)）的單通道系統(tǒng)對(duì)應(yīng)于2類激光產(chǎn)品引人註目。其短波長(zhǎng)可實(shí)現(xiàn)橫向分辨率高達(dá)120 nm的成像領域。
當(dāng)在生物材料上執(zhí)行類似細(xì)胞生長(zhǎng)成像等應(yīng)用時(shí)，您可以配置具有四種激光波長(zhǎng)的 LSM 900 – 具有405好宣講、488註入新的動力、561、640 nm的URGB激光模塊。這種多激發(fā)波長(zhǎng)能助您進(jìn)行熒光染料分布的成像雙重提升。