國產(chǎn)ICP-AES光譜儀
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- 公司名稱 北京華科易通分析儀器有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地 北京市
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/3/18 20:36:37
- 訪問次數(shù) 613
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簡要描述: 華科易通國產(chǎn)ICP-AES光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器進行探討,廣泛應用于稀土、貴金屬服務水平、合金材料最新、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生處理方法、冶金重要作用、地質(zhì)、石油習慣、化工充足、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼的積極性、硅綠色化發展、硅鐵、鎢不久前、鉬等行業(yè)分析檢測用上了,可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析。是集光能力建設、機關註、電、計算機設計標準、分析技術于一體的產(chǎn)品開展,具有測試速度快、測量范圍寬發揮重要帶動作用、分析結(jié)果準確可靠等特點意向。
北京華科易通分析儀器有限公司,是電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研形式、生產(chǎn)置之不顧、銷售、技術服務于一體的高科技企業(yè)數字化。國產(chǎn)ICP-AES合作關系,是我公司在現(xiàn)有技術的基礎上,吸收國際技術成果研制開發(fā)的產(chǎn)品深刻內涵。
國產(chǎn)ICP-AES光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器傳遞,廣泛應用于稀土分析、貴金屬分析深入闡釋、合金材料相關性、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生物聯與互聯、冶金穩定、地質(zhì)、石油供給、化工等行業(yè)優勢與挑戰,以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼解決方案、硅趨勢、硅鐵、鎢上高質量、鉬等行業(yè)設備製造,出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。
它是集光攻堅克難、機、電顯示、計算機雙向互動、分析技術于一體的產(chǎn)品,具有測試速度快設計能力、測量范圍寬品牌、分析結(jié)果準確、可靠等特點更為一致。由于采用了計算機技術等形式,儀器實現(xiàn)了高度智能化,從分析處理到數(shù)據(jù)采集等環(huán)節(jié)都達到了目前水平研究與應用,是一種十分理想的分析儀器飛躍。
公司以一批多年積累的技術成果和實力雄厚的科研隊伍為后盾,以其豐富的工作經(jīng)驗和和完善熱情的服務為保障,竭誠為社會提供高精度自動化方案、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品緊密協作。
一、國產(chǎn)ICP-AES光譜儀器整機主要性能參數(shù):
1線上線下、 波長范圍:180-800nm
2發揮重要作用、 分辨率:在180-800nm全波段內(nèi)分辨率可達0.006nm
3、 波長示值誤差和重復性:波長示值誤差≤0.02nm數據顯示,
重復性≤0.003nm
4高質量、 掃描步距:0.0004nm
5 精密度:RSD≤1.50%;
6記得牢、 穩(wěn)定性:RSD≤2%
7註入了新的力量、 檢出限(即zui低能測量范圍):PPB級
8、 分析元素范圍:除C蓬勃發展、S等輕質(zhì)非金屬元素與部分放射性金屬元素外的所有元素
9特點、 線性范圍:7個數(shù)量級以上,且自吸效應極低
10重要性、分析速度:每分鐘掃描25個元素以上
11又進了一步、等級證書:國家計量器具形式許可
二、器各部件詳細參數(shù):
射頻發(fā)生器(RF)
(1)電路類型:電感反饋自激式振蕩電路多元化服務體系、同軸電纜輸出規劃、匹配調(diào)諧集中展示、取功率反饋信號重要組成部分,進行閉環(huán)自動控制
(2)工作頻率:40.68MHz ± 0.05%
(3)頻率穩(wěn)定性:≤0.1%
(4)輸出功率:800—1200W
(5)輸出功率穩(wěn)定性:≤0.3%
(6)電磁場泄漏射強度:距機身20cm 處,電場強度E:<2 V / m
進樣裝置
(1)輸出工作線圈:內(nèi)徑25mm 改造層面、3匝
(2)炬管:三同心型開拓創新,外徑20mm的石英炬管
(3)同軸型噴霧器:外徑6mm
(4)雙筒型霧室:外徑34mm
(5)觀測位置:縱向觀察高低和橫向觀察前后持續發展,可通過軟件直觀地調(diào)為
(6)氬氣流量計規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格:
1、等離子氣流量計:(100-1000)L/h (1.6-16L/min)
2促進善治、輔助氣流量計:(10-100)L/h (0.16-1.66L/min)
3擴大、載氣流量計:(10-100)L/h (0.16-1.66L/min)
4、載氣穩(wěn)壓閥:(0-0.4Mpa)L/h
5發揮效力、冷卻水:水溫:15-25℃ 流量>5L/min 水壓>0.1Mpa 冷卻水:電阻率>1MΩ
分光器
(1)光路:Czerny-Turner
(2)焦距:1000mm
(3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵新格局;刻線密度3600線/mm,刻線面積:80×110mm(或刻線密度2400線/mm安全鏈,刻線面積:80×110mm)
(4)線色散率倒數(shù):0.26nm/mm
(5)分辨率:≤0.006nm全波段
(6)掃描波長范圍: 180-500nm顯示,3600刻線/毫米;180-800nm進一步完善,2400刻線/毫米
(7)掃描步距:0.0004nm
(8)出射集聚、入射狹縫:20μm×25μm
(9)反射鏡規(guī)格:(78×105×16)mm
(10)透鏡:φ30競爭力,1:1成像
(11)反射鏡規(guī)格:凹型
(12)分光器恒溫裝置:26℃±1℃
測光裝置
(1)光電倍增管規(guī)格:R212UH或R928
(2)光電倍增管負高壓:200-1000V,自動調(diào)節(jié)發展基礎,穩(wěn)定性<0.05%
(3)光電倍增管電流測量范圍:10-4~10-9A
(4)信號采集為V/F交換:1mV對應100Hz
(5)采樣電路:使用國外高精密度運算放大器兩個角度入手,使儀器的靈敏度和精確度大大提高
(6)儀器數(shù)據(jù)采集:通過串口與電腦連接,從而簡化了電路使連接更加便捷
(7)測光方式:單同期、多元素順序測量
操作軟件:
(1)操作系統(tǒng):Windows XP 操作平臺
(2)測定波長數(shù):任意選擇
(3)分析速度:每分鐘25個元素以上
(4)數(shù)據(jù)庫:譜線庫11萬條以上
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