簡要描述： 稀土元素分析ICP單道掃描光譜儀作為一種大型精密無機(jī)分析儀器的發生，廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬影響、合金材料新的動力、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生發展契機、冶金廣泛關註、地質(zhì)、石油發力、化工優勢領先、商檢迎來新的篇章、環(huán)保以及釹鐵硼、硅推動並實現、硅鐵薄弱點、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測優化程度，可對待測樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析積極性。是集光、機(jī)不斷豐富、電實施體系、計(jì)算機(jī)、分析技術(shù)于一體的產(chǎn)品擴大公共數據，具有測試速度快深度、測量范圍寬、分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等特點(diǎn)更加堅強。

       稀土元素分析ICP單道掃描光譜儀作為一種大型精密無機(jī)分析儀器與時俱進，廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析初步建立、合金材料綜合運用、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生的方法、冶金實事求是、地質(zhì)、石油落到實處、化工等行業(yè)服務水平，以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼技術創新、硅處理方法、硅鐵、鎢持續向好、鉬等行業(yè)習慣，出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。

        它是集光進展情況、機(jī)的積極性、電、計(jì)算機(jī)至關重要、分析技術(shù)于一體的產(chǎn)品不久前，具有測試速度快、測量范圍寬、分析結(jié)果準(zhǔn)確能力建設、可靠等特點(diǎn)關註。由于采用了計(jì)算機(jī)技術(shù)，儀器實(shí)現(xiàn)了高度智能化設計標準，從分析處理到數(shù)據(jù)采集等環(huán)節(jié)都達(dá)到了目前水平開展，是一種十分理想的分析儀器互動互補。

公司以一批多年積累的技術(shù)成果和實(shí)力雄厚的科研隊(duì)伍為后盾發揮重要帶動作用，以其豐富的工作經(jīng)驗(yàn)和和完善熱情的服務(wù)為保障，竭誠為社會提供高精度深入實施、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品至關重要。

1.稀土元素分析ICP單道掃描光譜儀主要特點(diǎn)

• 優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng)，的控制系統(tǒng)：保證定位準(zhǔn)確效果，信背比優(yōu)良有所應；                                             
• 采用進(jìn)口的關(guān)鍵部件：確保儀器的精確度和靈敏度；
• 極小的基體效應(yīng)：99%的試樣不用分離基體合作關系；
• 測量范圍寬：超微量到常量的分析著力提升；
• 良好的測量精度:相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.50%；
• 穩(wěn)定性：相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤2.00% 傳遞；
• 分析速度快：每分鐘元素順序掃描zui快達(dá)25個(gè)以上融合；
• 分析元素之多：可分析72種金屬元素和部分非金屬元素；
• 可做定性或定量分析相關性；
• 便捷的分析軟件：基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件完成的事情，使操作更加簡便容易，軟件無需安裝可直接使用穩定，數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)提供多種功能改造層面，對輸出數(shù)據(jù)可任意選擇打印。

2.儀器組成及工作原理

,是單優勢與挑戰、多元素順序測量的分析測試儀器經驗分享。該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器趨勢、試樣引入系統(tǒng)有力扭轉、光電轉(zhuǎn)換、控制系統(tǒng)設備製造、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)發展需要、分析操作軟件組成。

等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生管理。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣顯示，炬管上部繞有紫銅負(fù)載線圈（內(nèi)通冷卻水）當(dāng)高頻發(fā)生器產(chǎn)生的高頻電流（工作頻率40.68MHz功率1kW左右）通過線圈時(shí)，其周圍產(chǎn)生交變磁場效率和安，使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子設計能力，在磁場作用下加速運(yùn)動與其它中性原子碰撞品牌，產(chǎn)生更多的電子和離子，在炬管內(nèi)形成渦流提供有力支撐，在電火花作用下形成等離子炬（即等離子體）應用，這種等離子體溫度可達(dá)8000K以上。待測水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進(jìn)入石英炬管中心通道品率。原子受到外界能量的作用下，使原子電離積極影響，即處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定自動化方案。從較高能級躍遷到基態(tài)，將釋放出能量越來越重要。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去線上線下。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上醒悟，分光后的待測元素特征譜線光強(qiáng)數據顯示，通過計(jì)算由步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)動光柵傳動機(jī)構(gòu)，準(zhǔn)確定位于出口狹縫處也逐步提升，光電倍增管將該譜線光強(qiáng)轉(zhuǎn)變?yōu)楣怆娏饔浀美?，再?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后，由計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理不可缺少，zui后由打印機(jī)打出分析結(jié)果蓬勃發展。

3.主要技術(shù)指標(biāo)

掃描范圍 ：光柵3600條刻線/mm,掃描范圍（190～500）nm

           光柵2400條刻線/mm,掃描范圍（190～800）nm

波長示值誤差：±0.03nm，重復(fù)性≤0.005nm積極回應。

zui小光譜帶寬：Mn 257.610nm重要性，譜線峰半高寬≤0.008nm。

重復(fù)性：相對標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD≤1.50%

穩(wěn)定性：相對標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD≤2.00%