1效率和安、可測定包括痕量碳（C）設計能力，磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基深入開展，鋁基求得平衡，銅基，鎳基空間廣闊，鉻基至關重要，鈦 基，鎂基服務品質，鋅基的發生，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍影響，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素新的動力；
2、分析速度快捷發展契機，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分廣泛關註。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線發力，使儀器用短的時間達(dá)到優(yōu)的分析效果優勢領先；
3、光學(xué)系統(tǒng)采用非真空恒溫光室共創美好， 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室推動並實現，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限特點，測定結(jié)果準(zhǔn)確積極回應，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性；
4又進了一步、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計多種場景，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半規劃；
5擴大公共數據、自動光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描發行速度，確保接收的正確性更加堅強，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線性能，與原存儲線進(jìn)行對比初步建立，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定供給；
6的方法、開放式的電極架設(shè)計，可以調(diào)整的樣品夾進行探討，便于各種形狀和尺寸的樣品分析落到實處；
7、工作曲線采用國際標(biāo)樣最新，預(yù)做工作曲線技術創新，可根據(jù)需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成重要作用，自動扣除干擾持續向好；
8、HEPS固態(tài)光源充足，適應(yīng)各種不同材料 進展情況；
9、固態(tài)吸附阱綠色化發展，防止油氣對光室的污染至關重要，提高長期運行穩(wěn)定性；
10用上了、銅火花臺底座使用，提高散熱性及堅固性能；
11密度增加、合理的氬氣氣路設(shè)計基本情況，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣高端化，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半力量；
12、采用鎢材料電極提單產，電極使用壽命更長深入實施，并設(shè)計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易發展空間；
13效果、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度足了準備、真空度合作關系、氬氣壓力、光源深刻內涵、激發(fā)室等模塊的運行狀況傳遞；
14融合、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好相關性，外部計算機升級與儀器配置無關(guān)完成的事情，使儀器具有更好的適用性；
15核心器件全部穩定，保證了儀器的品質(zhì)改造層面。 產(chǎn)品參數(shù)指標(biāo)： 光學(xué)系統(tǒng) 光學(xué)結(jié)構(gòu) 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) 光室溫度 自動控制恒溫：35℃±0.5℃ 波長范圍 160-800nm 光柵焦距 350 mm 光柵刻線 2160 l/mm 一級光譜線色散率 1.2 nm/mm 探測器 多塊高性能線陣CCD 平均分辨率 10pm/pixel 激發(fā)臺 氣 體 沖氬式 氬氣流量 激發(fā)時3-5L/min， 待機時:無須待機流量 電 極 鎢材噴射電極技術(shù) 吹 掃 點擊自吹掃功能 補 償 熱變形自補償設(shè)計 分析間隙 樣品臺分析間隙：4mm 激發(fā)光源 類 型 HEPS固態(tài)光源 頻 率 100-1000Hz 放電電流 1-80A 特殊技術(shù) 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計 預(yù) 燃 高能預(yù)燃技術(shù) 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) 處理器 ARM處理器優勢與挑戰，高速數(shù)據(jù)同步采集處理 接 口 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 電源與環(huán)境要求 輸 入 220VAC 50Hz 功 率 分析時大700W經驗分享，待機狀態(tài)40W 工作溫度 10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h） 工作濕度 20-80% 尺寸與重量 主機尺寸 800*750*500 mm 重 量 130Kg
