除了可以加工晶圓級尺寸的樣品，托托科技 自主研發(fā) 無掩模光刻機還能夠處理更大尺寸的樣品。例如設備可以支持超大幅面（2米）的微納加工廣泛應用，以滿足不同研究和工業(yè)需求關註度。

托托科技 自主研發(fā) 無掩模光刻機：

科研版-Academic 無掩模光刻機

高靈活性、高精度去完善、無掩模的優(yōu)勢橋梁作用，適用于科學研究

6 英寸加工幅面

最小特征尺寸可達0 . 4  μm

步進式光刻/掃描式光刻

高速版-Speed 無掩模光刻機

更快的加工速度、更強的設備性能求索，適用于小批量生產(chǎn)制造

8 英寸加工幅面

最小特征尺寸可達0.5 μm

掃描式光刻

教育版-Young 無掩模光刻機

桌面型無掩模光刻機讓人糾結，靈活小巧，非常適用于微電子穩定發展、集成電路等加工制造的實驗課程

2英寸加工幅面

最小特征尺寸可達1 . 5 μm

*以上所有產(chǎn)品的規(guī)格參數(shù)取決于個別工藝條件基石之一，并可能根據(jù)設備配置而有所不同，寫入速度取決于曝光面積能力建設。

更多解決方案

材料器件制備一站式解決方案

如果您的研究涉及厭水模樣、厭氧性質(zhì)的材料（如磁性氧化物、Micro-LED服務、OLED等）又需要進行光刻相關(guān)的實驗，我們可以為您提供手套箱版本的光刻機解決方案能力和水平。

特殊襯底光刻

光刻不僅適用于常規(guī)硅基襯底覆蓋，還可以在各種特殊襯底上進行，例如鉆石研究、光纖高效、甚至小的發(fā)動機葉片（曲面）等，為各個應用領域提供解決方案提高。

超大幅面光刻

除了可以加工晶圓級尺寸的樣品機構，托托科技 自主研發(fā) 無掩模光刻機還能夠處理更大尺寸的樣品。例如設備可以支持超大幅面（2米）的微納加工交流，以滿足不同研究和工業(yè)需求基礎。

托托科技是一家快速成長的技術(shù)驅(qū)動型企業(yè)，專注于精密光學儀器的研發(fā)制造還不大。公司目前擁有無掩模版光刻設備高產、磁學產(chǎn)品、多模態(tài)光電顯微鏡發揮作用、超高精度3D光刻產(chǎn)品良好、3D顯微鏡五個核心產(chǎn)品線，已經(jīng)形成了集設計銘記囑托、研發(fā)引領、制造、銷售及客戶咨詢服務為一體的高科技企業(yè)，致力于給客戶提供技術(shù)支持占，以技術(shù)和細致設計造就品質(zhì)高質量，以耐心服務和企業(yè)擔當贏得良好口碑。