托托科技 高精度 無掩模光刻機無論是在科學研究發揮效力、定制化生產(chǎn)、快速原型制造明顯，還是在電子器件安全鏈、生物醫(yī)藥、光學元件創新為先、微機械等眾多領域真正做到，我們的無掩模光刻機都能提供解決方案科普活動。
應用方向：二維材料
托托科技自主研發(fā)的“指引光”和“直接繪圖”功能在感興趣的二維材料上直接繪制電極圖案，靈活高效強化意識。
應用方向：微流控
無掩模光刻機可用于制作高深寬比（10:1）結(jié)構(gòu)充足，在微流控芯片的制造中具有高精度、高靈活性的積極性，廣泛應用于單細胞分析綠色化發展、傳感器等領域。
應用方向：MEMS
無掩模光刻技術(shù)在MEMS領域應用廣泛不久前，可高精度制造微米級圖案用上了，通過多層套刻的方式進行復雜結(jié)構(gòu)的加工。
應用方向：微透鏡
通過灰度光刻的方式可以精確控制表面形貌從而生成復雜的衍射結(jié)構(gòu)能力建設，如光柵關註、菲涅爾透鏡、微透鏡等無障礙。
應用方向：光學衍射器件
灰度光刻在光學調(diào)制器件中的應用通過精確控制光刻強度連日來，制造出高度精細的光學微結(jié)構(gòu)，用于實現(xiàn)光波的調(diào)制與傳輸特性優(yōu)化善於監督。
應用方向：浮雕結(jié)構(gòu)
灰度光刻在防偽浮雕結(jié)構(gòu)中的應用通過精細調(diào)控光照強度集成技術，實現(xiàn)高精度的三維微結(jié)構(gòu)，增強防偽標識的復雜性和難以復制性更合理。
應用方向：超表面
光刻工藝在超表面方向的應用通過精確加工微納米級結(jié)構(gòu)適應能力，實現(xiàn)對光波的精細操控和特定波長、極化等光學性質(zhì)的調(diào)制各方面。
應用方向：量子光學
光刻工藝在量子光學光波導方向的應用通過精密刻蝕微納尺度的光波導結(jié)構(gòu)防控，實現(xiàn)對量子態(tài)的傳輸和操控，促進量子信息處理與傳輸技術(shù)的發(fā)展適應性。
應用方向：掩模版制造
高速（可達1200 mm2/min）的托托科技 高精度 無掩模光刻機適用于小批量堅實基礎、定制化掩模版制備，減少對外部依賴重要作用，縮短設計迭代周期等地。
