托托科技 無掩模光刻機(jī)方式之一，以其革命性的技術(shù)革新全面闡釋，為微電子、集成電路等制造領(lǐng)域帶來了靈活性和高效率。無論是在科學(xué)研究引人註目、定制化生產(chǎn)領域、快速原型制造，還是在電子器件好宣講、生物醫(yī)藥註入新的動力、光學(xué)元件、微機(jī)械等眾多領(lǐng)域，我們的無掩模光刻機(jī)都能提供解決方案雙重提升。
激光直寫光刻技術(shù)與DMD無掩模光刻技術(shù)
激光直寫技術(shù)通過激光束直接在材料表面進(jìn)行高精度加工，而DMD無掩模技術(shù)通過數(shù)字微鏡陣列投影光束進(jìn)行圖案化加工事關全面，適用于大面積光刻表現明顯更佳。
DMD無掩模光刻技術(shù)路線介紹
基本原理：DMD技術(shù)利用數(shù)字微鏡裝置（Digital Micromirror Device）來控制微鏡的角度，從而通過投影系統(tǒng)在材料表面快速形成圖像或光刻圖案 技術節能。這些微鏡根據(jù)電信號(hào)的控制會(huì)精確調(diào)節(jié)反射角度指導，將激光或光源投射到特定位置。
系統(tǒng)組成：基于DMD的無掩模光刻系統(tǒng)通常由光源模組國際要求、勻光模組流動性、DMD模組、投影模組重要部署、運(yùn)動(dòng)臺(tái)模組和軟件等幾大部分構(gòu)成具體而言，這些模組高效、精準(zhǔn)的協(xié)同工作智慧與合力，實(shí)現(xiàn)了高分辨率圖案的快速無掩模光刻喜愛。
工作流程：上位機(jī)的發(fā)送圖形數(shù)據(jù)到DMD模組，DMD顯示對(duì)應(yīng)的圖形開放要求，經(jīng)由DMD反射的光攜帶著圖形信息發力，并經(jīng)過一系列光學(xué)元件后照射到基片上，實(shí)現(xiàn)了圖形的轉(zhuǎn)移迎來新的篇章。高精度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的協(xié)同工作，確保不同曝光區(qū)域的精準(zhǔn)拼接, 最終實(shí)現(xiàn)大型推動並實現、復(fù)雜圖案的動(dòng)態(tài)曝光薄弱點。
托托科技 無掩模光刻機(jī)核心功能
靈活設(shè)計(jì)無需掩模版
與傳統(tǒng)的有掩模光刻相比，無掩模光刻機(jī)更加靈活便捷優化程度，省去了制版的時(shí)間和金錢成本積極性，幫助您快速驗(yàn)證想法
加工精度可達(dá)400 nm
加工精度1 μm可以滿足大多數(shù)加工需求，針對(duì)精度要求更高的用戶不斷豐富，我們提供加工精度可達(dá)400 nm的產(chǎn)品供您選擇
速度高達(dá)1200 mm2/min
對(duì)于大尺寸樣品的加工來說實施體系，效率變得尤為重要，我們將為您供高速高精度的設(shè)備來滿足您的需求
加工幅面可達(dá)4 m2
如果您是有超大幅面加工需求的用戶各有優勢，我們可提供加工幅面達(dá)4 m2 的產(chǎn)品來滿足您的需求
灰度光刻可達(dá)4096階
4096階的灰度能力效果較好，能夠精準(zhǔn)地在光刻材料上構(gòu)建出具有高度復(fù)雜且細(xì)膩層次變化的微觀結(jié)構(gòu)或圖案重要的意義，為微納制造領(lǐng)域帶來工藝精度與豐富的設(shè)計(jì)可能性
無掩模光刻機(jī)特色功能
直接繪圖：直接繪圖為您提供靈活便捷的手段，以此來快速驗(yàn)證您的想法
精準(zhǔn)套刻：由綠光作為指引光為您提供光刻前的對(duì)準(zhǔn)預(yù)覽等多個領域，以此來實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)套刻
陣列光刻：陣列光刻為您提供快速確認(rèn)工藝參數(shù)的手段再獲，以此來幫您節(jié)約時(shí)間
主動(dòng)對(duì)焦：主動(dòng)對(duì)焦為您提供光刻前的實(shí)時(shí)對(duì)準(zhǔn)，以此來確保每次光刻聚焦清
