移動端
直播推薦
回放
回放
X射線光電子能譜 (XPS) ，是一種表面分析技術(shù)異常狀況，主要用來表征材料表面元素及其化學(xué)狀態(tài)研究。利用X射線光子激發(fā)出物質(zhì)表面原子內(nèi)層電子或價電子并進(jìn)行能量分析而獲得的一種能譜。
XPS不僅能探測樣品表面的化學(xué)組成應用創新，還可確定除H和He以外周期表中所有元素化學(xué)狀態(tài)提高，且靈敏度高，同時實驗過程中對樣品表面輻照損傷小改善，故在化學(xué)空白區、材料科學(xué)及表面科學(xué)研究中被廣泛應(yīng)用，其主要用途有：
1. 表面定性與定量分析信息化，可得到小于10um 空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊形勢。
2. 維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學(xué)態(tài)的深度分析(角分辨方式、氬離子或團(tuán)簇離子刻蝕方式)取得明顯成效。
3. 線掃描或面掃描以得到線或面上的元素或化學(xué)態(tài)分布約定管轄。
4. 成像功能。
5. 可進(jìn)行樣品的原位處理 AES：(1)可進(jìn)行樣品表面的微區(qū)選點分析(包括點分析創新的技術、線分析和面分析)發揮；(2)可進(jìn)行深度分析適合： 納米薄膜材料、微電子材料快速增長、催化劑長足發展、摩擦化學(xué)、高分子材料的表面和界面研究穩步前行。
傳統(tǒng)X射線光電子能譜的檢測需在超高真空或高真空環(huán)境下進(jìn)行結構不合理，無法獲得樣品表面實時動態(tài)的現(xiàn)場原位變化信息。
動態(tài)現(xiàn)場原位X射線光電子能譜(NAP-XPS)能夠打破這一技術(shù)壁壘和限制，可以在接近常壓的氣氛和不同加熱作用中意見征詢，盡可能真實還原樣品在反應(yīng)狀態(tài)下其表面元素化學(xué)狀態(tài)及原子價態(tài)的動態(tài)現(xiàn)場原位變化過程提升。
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品的必然要求，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載研究成果、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的完善好，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用大面積，并注明“來源：儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者問題分析，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任培養。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息更加完善，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé)形式，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體支撐作用、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時日漸深入，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任綜合措施。
- 如涉及作品內(nèi)容可靠保障、版權(quán)等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系設計標準，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利多種。
浙公網(wǎng)安備 33010602002722號
第四屆全國光譜大會
展會城市：株洲市展會時間：2025-05-08