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OTF-1200X-S-HPCVD 坩堝（樣品臺）可移動型1200℃管式爐

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 合肥科晶材料技術(shù)有限公司
品牌
型號 OTF-1200X-S-HPCVD
所在地 合肥市
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2017/1/5 10:04:52
訪問次數(shù) 445

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促銷詳情

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促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價促銷

模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度產能提升；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連適應性，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前總之，消除后續(xù)工序面向，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴研學體驗。

OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動（靠步進(jìn)電機控制）的小型開啟式管式爐建設項目。爐管直徑為50mm,設(shè)備zui高工作溫度為1200℃。
設(shè)備特點：坩堝通過一步進(jìn)電機控制爐管落實落細，按照設(shè)定程序移動相結合，同時坩堝后端安裝一熱電偶（隨坩堝儀器移動），可實時監(jiān)測樣品的溫度製高點項目，意味著可通過移動坩堝的位置為產業發展，在爐體中準(zhǔn)確找到實驗所需要的溫度，使得實驗準(zhǔn)確度更高有所增加，重復(fù)性更強各項要求。此款設(shè)備可用于多種實驗

詳細(xì)信息在線詢價

OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動（靠步進(jìn)電機控制）的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設(shè)備zui高工作溫度為1200℃越來越重要的位置。
設(shè)備特點：坩堝通過一步進(jìn)電機控制爐管新技術，按照設(shè)定程序移動，同時坩堝后端安裝一熱電偶（隨坩堝儀器移動)順滑地配合，可實時監(jiān)測樣品的溫度深入，意味著可通過移動坩堝的位置，在爐體中準(zhǔn)確找到實驗所需要的溫度前沿技術，使得實驗準(zhǔn)確度更高全會精神，重復(fù)性更強系統穩定性。此款設(shè)備可用于多種實驗，比如HPCVD（hybrid physical chemical deposition）集中展示，快速熱蒸發(fā)實力增強，也可用于水平布里奇曼（Bridgman）法來長晶體。

技術(shù)參數(shù)

高溫爐部分

爐體設(shè)計為開啟式宣講手段，以便于更換爐管
工作電源：208 - 240 VAC, 50/60Hz
zui大功率為：2KW
zui高工作溫度：1200℃（<1hr)
連續(xù)工作溫度：1100℃
加熱區(qū)長度：200mm
恒溫區(qū)長度：60mm(+/-1℃ @ 1000 ℃ ) 注：由于測量手段及外部環(huán)境的影響重要工具，測量結(jié)果可能會有偏差，此參數(shù)僅供參考不作為該設(shè)備的技術(shù)指標(biāo)配套設備。您購買產(chǎn)品需要準(zhǔn)確的恒溫區(qū)數(shù)據(jù)，請與我公司銷售人員
爐管：高純石英管相對開放，尺寸50mm O.D x 44mm I.D x 450mm L)（點擊圖片查看詳細(xì)資料）

溫度控制系統(tǒng)

采用PID30段程序化控溫推進高水平，其控溫精度為+/-1℃
控溫儀表操作視頻
設(shè)有過熱和斷偶保護(hù)
熱電偶采用K型熱電偶

真空密封

采用KF結(jié)構(gòu)密封法蘭，硅膠密封圈密封
法蘭上安裝有一機械壓力表
右端法蘭與一個真空不銹鋼波紋管連接（不銹鋼波紋管zui大伸縮幅度為150mm)
真空度：10-2Torr(用機械泵抽） 10-5Torr(用分子泵抽）

坩堝移動機構(gòu)&PLC控制

一個直徑為1/4＂的歐米伽鎧裝熱電偶（K型）拓展應用，通過法蘭伸入到爐管中生產創效，并可隨坩堝移動，可實時監(jiān)測樣品的實際溫度管理。
通過步進(jìn)電機移動爐管內(nèi)的坩堝（樣品臺）優化上下，zui大行程為100mm，移動精度為1mm
通過觸摸屏設(shè)定坩堝一定的距離和目標(biāo)位置模樣，坩堝移動速度為180mm/min(更精確的移動速度生產體系，可與本公司定制，需額外收費）
可觀察下圖很重要，了解坩堝與熱電偶的安裝方法

zui大加熱速率和冷卻速率

可通過移動樣品到已預(yù)加熱的爐體中來得到zui大的加熱速率能力和水平，也可將樣品迅速移除高溫的爐體，來得到zui大的降溫速率

zui大加熱速率

10℃/sec (150℃ - 250℃);
7℃/sec (250℃ - 350℃);
4℃/sec (350℃ - 500℃);
3℃/sec (500℃ - 550℃);
2℃/sec (550℃ - 650℃);
1℃/sec (650℃ - 800℃);
0.5℃/sec (800℃ - 1000℃);

zui大降溫速率

10℃/sec (950℃ - 900℃);
7℃/sec (900℃ - 850℃);
4℃/sec (850℃ - 750℃);
2℃/sec (750℃ - 600℃);
1.5℃/sec (600℃ - 500℃);
1℃/sec (500℃ - 400℃);
0.5℃/sec (400℃ - 300℃);

可選配件

可選購手動擋板閥（圖1）
防腐型數(shù)顯真空計（圖4）
快速連接法蘭異常狀況，以方便于放置樣品（圖2）
多路質(zhì)量流量計控制的混氣系統(tǒng)研究，用于CVD和DVD實驗（圖5）

尺寸

質(zhì)保

一年質(zhì)保期，終生維護(hù)（不含加熱元件應用創新、爐管和密封圈）

質(zhì)量認(rèn)證

CE認(rèn)證
所有電器元件（>24V）都通過UL / MET / CSA認(rèn)證
若客戶出認(rèn)證費用提高，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證

注意事項

爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa
由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時的特性，氣瓶上必須安裝減壓閥交流，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全
當(dāng)爐體溫度高于1000℃時共同，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)充分發揮，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài)
進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM充分發揮，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊
石英管的長時間使用溫度＜1100℃
對于樣品加熱的實驗選擇適用，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用管理。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)業務指導，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa改進措施，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂長足發展，法蘭飛出等）

應(yīng)用

此款設(shè)備可用于多種實驗今年，以下列出了幾種實驗方法
RTE（快速熱蒸發(fā)）：蒸發(fā)料放在坩堝中，放入到爐體中心結構不合理，基片放在樣品臺上動手能力，樣品臺與熱電偶相連接，然后將樣品臺移動到理想的位置（此位置溫度是實驗所需要的溫度）
HPCVD（混合物理化學(xué)沉積）：與RTE相似意見征詢，但需配混氣系統(tǒng)提升，對反應(yīng)氣體混合并控制流量，同時也需設(shè)定蒸發(fā)料的位置（確定蒸發(fā)料的蒸發(fā)溫度）
水平布里奇曼（Bridgman）法來長晶體：將樣品和籽晶放入到坩堝中的必然要求，并將坩堝放入到爐體中心位置研究成果，然后設(shè)定坩堝移動速度，慢慢移動坩堝