多樣品分析平臺(tái)
宏觀文化價值、微觀和納米尺度的測量可以在同一個(gè)平臺(tái)上進(jìn)行
簡單易用
全自動(dòng)操作形式，在幾分鐘內(nèi)即可開始測量，而不是幾小時(shí)不斷完善！
真正的共聚焦
高空間分辨率數字化，自動(dòng)樣品臺(tái)，全顯微鏡可視化基礎上。
高收集效率
頂部和側(cè)向拉曼光譜檢測都可以獲得高分辨和高通量測量同區(qū)域和針尖增強(qiáng)光譜測量（TERS和TEPL)
高光譜分辨率
高光譜分辨能力各領域，多光柵自動(dòng)切換，寬光譜范圍的拉曼和光致發(fā)光分析融合。
高空間分辨率
針尖增強(qiáng)的納米級(jí)光譜分辨率（優(yōu)于10nm）
豐富的光學(xué)光譜（拉曼和光致發(fā)光）
多技術(shù)/多環(huán)境
結(jié)合TERS/TEPL化學(xué)成像的多模式SPM技術(shù)包括AFM深入闡釋、導(dǎo)電和電學(xué)模式（cAFM、KPFM）、STM物聯與互聯、液池和電化學(xué)環(huán)境穩定。一個(gè)工作站和強(qiáng)大的軟件即可對(duì)兩臺(tái)儀器進(jìn)行控制，SPM和光譜儀可以同時(shí)或獨(dú)立操作供給。
堅(jiān)固性/穩(wěn)定性
高共振頻率AFM掃描器優勢與挑戰，遠(yuǎn)離噪音干擾！高性能表現(xiàn)投入力度，無需主動(dòng)隔振系統(tǒng)創造。
配置
SmartSPM掃描器和基座
閉環(huán)平板掃描器： 100 µm x 100 µm x 15 µm (±10 %)
掃描器非線性：XY≤0.05 %; Z≤0.05 %
噪聲水平：XY≤0.1 nm RMS（200 Hz帶寬，電容傳感器打開）貢獻法治；XY≤0.02 nm RMS（100 Hz帶寬設備製造，電容傳感器關(guān)閉）；Z<0.04 nm="" rms="" （1000="">
高頻掃描器：XY≥7 kHz; Z≥ 15 kHz
X, Y, Z自動(dòng)趨近：XYZ數(shù)字閉環(huán)控制攻堅克難，Z向馬達(dá)趨近距離18mm
樣品尺寸：40 mm x 50 mm x 15 mm
樣品定位：自動(dòng)樣品臺(tái)范圍：5 mm x 5 mm
定位精度：1µm
AFM測試頭
激光波長：1300nm（光譜檢測器無干擾）
激光準(zhǔn)直：全自動(dòng)懸臂—光電二極管激光準(zhǔn)直
探針通道：為外部操作和探針提供自由通道
SPM測量模式
標(biāo)準(zhǔn)模式：接觸模式管理、半接觸模式、非接觸模式雙向互動、相位成像模式效率和安、側(cè)向力模式（LFM）、力調(diào)制模式品牌、磁力顯微鏡模式（MFM）深入開展、開爾文探針模式（表面電勢，SKM等形式，KPFM）技術的開發、掃描電容模式、靜電力顯微鏡模式（EFM）飛躍、力曲線測量更高效、壓電響應(yīng)模式（PFM）、納米蝕刻重要部署、納米操縱
升級(jí)模式：溶液環(huán)境接觸模式具體而言、溶液環(huán)境半接觸模式、導(dǎo)電力顯微鏡模式智慧與合力、STM模式發揮重要作用、光電流成像模式、伏安特性曲線測量等
光譜模式
共聚焦拉曼數據顯示、熒光和光致發(fā)光光譜和成像
針尖增強(qiáng)拉曼光譜（AFM去突破，STM等）
針尖增強(qiáng)熒光
近場光學(xué)顯微鏡和光譜(NSOM/SNOM)
導(dǎo)電力AFM（選購）
電流范圍：100fA~10µA;三檔量程自動(dòng)切換（1 nA, 100 nA 和 10 µA）
光路耦合通道
頂部和側(cè)向能夠同時(shí)使用消色差物鏡：從頂部或側(cè)向可用100X，NA0.7物鏡達到；可同時(shí)使用20倍和100倍
長期光譜激光穩(wěn)定對(duì)準(zhǔn)的閉環(huán)壓電物鏡掃描器：20µm x 20µm x 15µm；
分辨率：1nm
光譜儀
全自動(dòng)緊湊型XploRA Plus顯微光譜儀，可獨(dú)立使用顯微拉曼光譜儀
波長范圍：75cm-1至4000 cm-1
光柵：四光柵自動(dòng)切換(600, 1200, 1800 and 2400 g/mm)
自動(dòng)化：全自動(dòng)蓬勃發展，軟件控制操作
檢測器
全光譜范圍CCD和EMCCD檢測器特點。
光源
典型波長：532nm、638nm重要性、785nm又進了一步；其它波長可根據(jù)需求提供
自動(dòng)化：全自動(dòng)，軟件控制操作
軟件
集成軟件包多元化服務體系，包括全功能SPM規劃、光譜儀和數(shù)據(jù)采集控制、光譜和SPM數(shù)據(jù)分析和處理套件深度，包括光譜擬合帶動擴大、去卷積和濾波，可選模塊包括單變量和多變量分析套件（PCA開拓創新、MCR持續發展、HCA、DCA）促進善治，顆粒檢測和光譜搜索功能擴大。
典型應(yīng)用
石墨烯納米帶的TERS表征
光刻技術(shù)誘導(dǎo)的石墨烯損傷的納米尺度表征
本應(yīng)用報(bào)告介紹了對(duì)電子束光刻法制造的石墨烯納米帶（GNRs）的TERS表征。TERS可實(shí)現(xiàn)的化學(xué)納米尺度分辨率揭示了GNRs邊緣的無定形碳的存在發揮效力，并定位了有機(jī)殘留物新格局。TERS可以被認(rèn)為是表征納米石墨烯的一個(gè)有價(jià)值的工具，這是開發(fā)基于石墨烯的納米設(shè)備的一個(gè)重要步驟安全鏈。
