一方案、公司介紹日本Crestec公司在東京成立于1995年，我們交付了EB光刻系統(tǒng)了解情況，遍布50多個客戶深入。我們也提供EB代工服務(wù)。部分客戶包括：湖南大學(xué)（中國）重要的、上海應(yīng)用物理研究所（中國）開展研究、西安交通大學(xué)（中國）、香港城市大學(xué)（香港）相互融合、工業(yè)技術(shù)研究院 (ITRI)（中國臺灣）首要任務、產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所 (AIST) （日本）、東

 一更加完善、公司介紹

日本Crestec公司在東京成立于1995年形式，我們交付了EB光刻系統(tǒng)，遍布50多個客戶支撐作用。我們也提供EB代工服務(wù)日漸深入。

部分客戶包括：

湖南大學(xué)（中國）、上海應(yīng)用物理研究所（中國）同時、西安交通大學(xué)（中國）互動式宣講、香港城市大學(xué)（香港）、工業(yè)技術(shù)研究院 (ITRI)（中國臺灣）模式、產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所 (AIST) （日本）自動化、東京大學(xué)（日本）、豐田技術(shù)研究所 （日本）通過活化、豐橋工業(yè)大學(xué)（日本）落地生根、東北大學(xué)（日本）、三重大學(xué)（日本）健康發展、大阪大學(xué)（日本）有效保障、東京工業(yè)大學(xué)（日本）、理工大學(xué)（PTU-日本）長效機製、富山縣立大學(xué)（日本）講實踐、加州大學(xué)伯克利分校（美國）、Rubio Pharma y Asociados and RD Research & Technology（墨西哥）奮戰不懈、劍橋大學(xué)（英國）市場開拓、巴伊蘭大學(xué)（以色列）措施、阿卜杜拉國王科技大學(xué)（沙特阿拉伯）、莫斯科物理技術(shù)學(xué)院（俄羅斯）要落實好、薩拉托夫國立大學(xué)（俄羅斯）緊密相關、ICFO – 光子科學(xué)研究所（西班牙）、馬德里理工大學(xué)（西班牙）先進技術、CNR 萊切（意大利）培訓、卡坦扎羅大希臘大學(xué)（意大利）、海得拉巴大學(xué)（印度）

二宣講手段、日本CRESTEC電子束光刻系統(tǒng)（EBL）

納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是方法之一重要工具。日本CRESTEC公司為21世紀(jì)納米科技提供 的電子束納米光刻（EBL）系統(tǒng)，或稱電子束直寫（EBD）配套設備、電子束爆光系統(tǒng)非常激烈。 


型號包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列引人註目、8000TF系列領域、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列最小線寬可達8nm探索創新，最小束斑直徑2nm帶來全新智能，套刻精度 20nm(mean+2σ)，拼接精度 20nm(mean+2σ)新產品。

技術(shù)參數(shù)：
1.最小線寬：小于10nm（8nm available) 
2.加速電壓：5-50kV 
3.電子束直徑：小于2nm 
4.套刻精度：20nm(mean+2σ) 
5.拼接精度：20nm(mean+2σ) 
6.加工晶圓尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option) 
7.描電鏡分辨率：小于2nm

主要特點：
1.采用高亮度和高穩(wěn)定性的TFE電子槍 
2.出色的電子束偏轉(zhuǎn)控制技術(shù) 
3.采用場尺寸調(diào)制技術(shù)橋梁作用，電子束定位分辨率（address size)可達0.0012nm 
4.采用軸對稱圖形書寫技術(shù)長遠所需，圖形偏角分辨率可達0.01mrad 
5.應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，如微納器件加工讓人糾結，Si/GaAs 兼容工藝規模，研究用掩膜制造，納 米加工（例如單電子器件基石之一、量子器件制作等）聯動，高頻電子器件中的混合光刻（Mix & Match），圖形線寬和圖形位移測量等共同努力。