曝光光源采用進(jìn)口紫外LED及光源整形模塊，熱量小文化價值，光源穩(wěn)定性好;◆采用技術(shù)-積木錯(cuò)位蠅眼透鏡消衍射和線條陡直增強(qiáng)技術(shù)形式，曝光圖形質(zhì)量好，光刻分辨力高;采用i線(365 nm)紫外曝光光源和的光學(xué)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高均勻照明不斷完善，光源聚光角小足了準備、平行性好;◆采用創(chuàng)的CCD圖像底面對(duì)準(zhǔn)實(shí)現(xiàn)雙面對(duì)準(zhǔn)單曝光頭正面曝光對(duì)準(zhǔn)功能;◆采用新穎的高精度、多自由度掩模一樣片精密對(duì)準(zhǔn)工件臺(tái)結(jié)構(gòu)認為，掩模與樣片對(duì)準(zhǔn)過(guò)程直觀系統，套刻對(duì)準(zhǔn)速度快、精度高;◆樣片的放置采用推拉式基準(zhǔn)平板重要意義、真空吸附式交流等，操作方便;◆配備雙目雙視顯微鏡和CCD圖像對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，采用22寸寬屏波晶顯示器規劃，可同時(shí)觀察實(shí)時(shí)對(duì)準(zhǔn)過(guò)程也可存儲(chǔ)記錄曝光結(jié)果;◆曝光參數(shù)設(shè)定采用計(jì)算機(jī)控制提高，智能化過(guò)程操作，菜單界面友好;◆支持真空接觸曝光進入當下、硬接觸曝光紮實、壓力接觸曝光、接近式曝光四種曝光功能;關(guān)鍵器件采用進(jìn)口國(guó)際品牌產(chǎn)品新體系，整機(jī)可靠性高;

一投入力度、公司介紹

光電技術(shù)研究所始建于1970年，坐落在四川省成都市南郊不難發現，是在西南地區(qū)大的研究所貢獻法治，定位于科研基地型研究所之一。

微光學(xué)與微電子光學(xué)裝備技術(shù)研究是光電技術(shù)研究所的重點(diǎn)發(fā)展學(xué)科之一發展需要，設(shè)有“微電子專用設(shè)備研制總體研究室”與“做細(xì)加工光學(xué)技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室”攻堅克難。五十多年來(lái)，一直致力于微電子光學(xué)與微細(xì)加工光學(xué)裝備的技術(shù)攻關(guān)與研制顯示，不僅擁有一支總體設(shè)計(jì)水平高雙向互動，光、機(jī)設計能力、電配套品牌，經(jīng)驗(yàn)豐富的科研隊(duì)伍，還有一支實(shí)力雄厚的試制加工更為一致、工藝和測(cè)試力量紮實做，為研發(fā)生產(chǎn)和拓展微電子技術(shù)裝備定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)空間廣闊。曾先后園滿完成了國(guó)家科技重大專項(xiàng)、國(guó)家973提供深度撮合服務、國(guó)家863、自然科學(xué)基金技術發展、國(guó)的多項(xiàng)重大科技項(xiàng)目的攻關(guān)與研制集聚效應，在我國(guó)微電子裝備的研制與微細(xì)加工技術(shù)攻關(guān)與創(chuàng)新等方面，取得了包括國(guó)家科技進(jìn)步獎(jiǎng)在內(nèi)的多項(xiàng)豐碩成果重要手段。目前互動講，在知識(shí)創(chuàng)新工程機(jī)制的激勵(lì)下，一支以中青年博士像一棵樹、碩士為主體的攻關(guān)與研發(fā)技術(shù)骨干隊(duì)伍正在充分發(fā)揮技術(shù)帶頭人和創(chuàng)新過程中、創(chuàng)業(yè)人才的作用，在發(fā)展我國(guó)微電子裝備技術(shù)與研發(fā)中做出新的貢獻(xiàn)能運用。

近年創(chuàng)新研發(fā)的具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的URE2000型系列單雙面外光刻機(jī)達到、無(wú)模數(shù)字光機(jī)、納米壓印光刻機(jī)不可缺少、投影光刻機(jī)等特色的微細(xì)加工光學(xué)裝備蓬勃發展，以其突出的功能、可掌地品質(zhì)積極回應、的技術(shù)和優(yōu)質(zhì)的服務(wù)重要性，受到國(guó)內(nèi)外眾多用戶的青睞,在微細(xì)加工技術(shù)科學(xué)領(lǐng)域受到廣泛好評(píng)。面對(duì)新的發(fā)展,我們將以“團(tuán)結(jié)多種場景、誠(chéng)信多元化服務體系、進(jìn)取、創(chuàng)新”之理念擴大公共數據，開拓進(jìn)取力創(chuàng)輝煌深度，歡迎各界朋友精誠(chéng)合作，攜手共進(jìn)更加堅強，協(xié)力發(fā)展與時俱進，共創(chuàng)未來(lái)。

二初步建立、URE-2000系列紫外光刻機(jī)技術(shù)指標(biāo)

l  光源類型： LED光源

l  曝光面積：160 mm×160 mm

l  曝光波長(zhǎng)：365 nm：≥30 mW/cm2綜合運用，光強(qiáng)數(shù)字連續(xù)可調(diào)

l  分辨力：1 μm

l  對(duì)準(zhǔn)精度：±1 μm（單面），±2 mm（雙面的方法，片厚0.8mm）

l  掩模尺寸： 2.5英寸實事求是、3英寸、4英寸落到實處、5英寸服務水平、7英寸

l  樣片尺寸： 樣片尺寸：直徑f10mm-- f150mm(各種不規(guī)則片)最新，厚度可適應(yīng)0.1mm--2mm

l  曝光方式：定時(shí)（倒計(jì)時(shí)方式0.1s-999.9s任意設(shè)定）

l  調(diào)平接觸壓力通過(guò)傳感器保證重復(fù)

l  數(shù)字設(shè)定對(duì)準(zhǔn)間隙和曝光間隙

l  正面雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡：既可通過(guò)目鏡目視對(duì)準(zhǔn)，也可通過(guò)CCD+顯示器對(duì)準(zhǔn)規則製定，光學(xué)合像製造業，光學(xué)倍數(shù)400倍，光學(xué)+電子放大800倍關規定，物鏡三對(duì)：4倍發展基礎、10倍、20倍建強保護，目鏡三對(duì)：10倍同期、16倍、20倍

l  底面面對(duì)準(zhǔn)：采用雙顯微物鏡+CCD+采集卡+計(jì)算機(jī)合像使命責任，物鏡軸距范圍10mm-140mm

l  具備真空接觸曝光效果、硬接觸曝光、壓力接觸曝光合規意識，以及接近式曝光四種功能

l  照明不均勻性：±2%（Ф100 mm 范圍）密度增加，±3%（Ф150 mm 范圍）

l  掩模相對(duì)于樣片運(yùn)動(dòng)行程：

 X：優(yōu)于±5mm;   Y：優(yōu)于±5mm;  q：優(yōu)于±6°

l  光源平行性：≤2.5°

2．外形尺寸：約1400mm（長(zhǎng)）′1200mm(寬) ′2000mm（高）