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ICP-7911 ICP-AES

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簡要描述:ICP-AES特點:1必然趨勢、射頻發(fā)生器的高壓供電回路促進善治,采用的電子技術(shù),淘汰了笨重的升壓變壓器和高頻阻流圈多樣性,采用功率閉環(huán)反饋技術(shù)發揮效力,控制精度于0.1% 2、全自動點火 氣路智能控制明顯,實現(xiàn)軟件點火服務水平,更方便3.安全冷卻水保護、氬氣保護技術創新、過壓處理方法、過流、滅弧保護更安全4.輸出功率自動匹配調(diào)諧持續向好,功率參數(shù)軟件程序設(shè)定5.分光器內(nèi)充氬氣習慣,使波長在180nm的硫和189nm的Sn得到很靈敏的效果

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詳細(xì)說明:

ICP-AES組成及工作原理

ICP光譜儀是多元素順序測量的分析測試儀器。 該儀器由掃描分光器進展情況、射頻發(fā)生器的積極性、試樣引入系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換至關重要、控制系統(tǒng)不久前、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成提升行動。等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生能力建設。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣,炬管上部繞有紫銅負(fù)載線圈<內(nèi)通冷卻水>當(dāng)高頻發(fā)生器產(chǎn)生的高頻電流(工作頻率40MHz功率1.2KW左右)通過線圈時研究進展,其周圍產(chǎn)生交變磁場創新內容,使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子,在磁場作用下加速運動與其它中性原子碰撞廣泛關註,產(chǎn)生更多的電子和離子善於監督,在炬管內(nèi)形成渦流,在電火花作用下形成等離子炬(即等離子體)就能壓製,這種等離子體溫度可達(dá)10000K以上更合理。待測水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進入石英炬管中心通道適應能力。原子在受到外界能量的作用下電離,但處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定各方面,從較高能級躍遷到基態(tài)時防控,將釋放出巨能量,這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去著力提升。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜深刻內涵。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上,計算通過控制步進電機轉(zhuǎn)動光柵,傳動機構(gòu)將分光后的待測元素特征譜線光強準(zhǔn)確定位于出口狹縫處融合,光電倍增管將該譜線光強轉(zhuǎn)變?yōu)殡娏魃钊腙U釋,再?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后,由計算機進行數(shù)據(jù)處理完成的事情,zui后由打印機打出分析結(jié)果物聯與互聯。

二、ICP-AES技術(shù)指標(biāo)

1.射頻發(fā)生器(RF

(1) 電路類型:自激振蕩電路改造層面,全自動點火供給,所有功能實現(xiàn)電腦軟件控制(點火、熄火經驗分享、功率等參數(shù)設(shè)置)解決方案;實時功率控制;自動匹配調(diào)諧有力扭轉;光室恒溫上高質量;

(2) 工作頻率:40.68MHZ±0.05%

(3) 頻率穩(wěn)定性:<0.1%

(4) 輸出功率:7001600w

(5) 輸出功率穩(wěn)定性:≤0.3%

(6) 電磁場泄漏輻射強度:距機身300mm 電場強度E:<2V/m

2.進樣裝置:

(1) 輸出工作線圈內(nèi)徑25mm3

(2) 炬管:外徑20mm的石英炬管

(3) 同軸型噴霧器外徑6mm

(4) 雙筒形霧室外徑35mm

(5) 氬氣流量計規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格:

①廣度和深度、 等離子體流量計(100-1000L/h 深入交流;(1.6-16L/min)

②、 輔助氣流量計(6-60L/h 加強宣傳;(0.1-1L/min)

③臺上與臺下、 載氣流量計(6-60L/h (0.1-1L/min)

④在此基礎上、 載氣穩(wěn)壓閥(0-0.4MPa

儀器內(nèi)設(shè)氬氣二次穩(wěn)壓閥(0.3MPa

3.測光裝置:

(1) 光電倍增管規(guī)格: R212UH

(2) 光電倍增管負(fù)高壓:200-1000V 助力各行,穩(wěn)定性<0.05%

(3) 光電倍增管電流測量范圍:10-12 -10-4A

(4) 信號采集為V/F交換:1mV對應(yīng)100Hz

4.分光器:
(1) 光路: Czerny-Turner
(2) 焦距: 1000mm
(3) 光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵,刻線密度3600/mm提供有力支撐,

刻線面積: 80×110mm應用,線色散率倒數(shù):0.26nm
(4) 波長范圍:190-500nm
(5) 分辨率: 0.008nm
(6) 掃描波長范圍3600/mm 掃描波長范圍:190-500nm
(7) 步進電機驅(qū)動zui步距:0.0006nm
(8) 入射狹縫:20µm 出射狹縫:25µm
(9) 發(fā)射鏡規(guī)格:(78 × 105 × 16mm
(10) 透鏡ф3011成像

5.應(yīng)用行業(yè)分類

1品率、金屬類

鋼鐵:包括碳素鋼、鑄鐵不斷發展、合金鋼積極影響、高純鐵、鐵合金、硅鐵越來越重要、錳鐵線上線下、釩鐵、鐵 礦 石醒悟,鉛的冶煉等數據顯示。

2、有色金屬分析:

純銅也逐步提升,純鋁和合金中的雜質(zhì)元素分析記得牢。

貴金屬的純度分析:AuAg重要的作用、Pt更多可能性、PdIr足夠的實力、Rh緊迫性、OsRu更適合。

3高效、環(huán)境檢測類

水質(zhì)分析:礦泉水、自來水要素配置改革、河水體系、海水、污水核心技術體系、廢水等開拓創新。

食品分析:包括食品、飲料等應用提升。

土壤成份分析:生物和植物樣品的分析主動性。

4、稀土材料和稀土永磁類

稀土元素全分離發展的關鍵,此儀器高分辨率非常適合稀土元素的分析道路。

稀土永磁材料中對釹鐵硼材料的配分和成份的分析。

5真諦所在、地質(zhì)礦物的分析

精選礦的分析

普查找礦分析

6指導、食品醫(yī)藥分析

食品中有益、有害元素的分析充分、藥材中的微量元素分析

三進一步完善、整機技術(shù)指標(biāo)整機技術(shù)指標(biāo):

1.測量波長范圍:

180-500nm 3600L/mm光柵

180-800nm 2400 L/mm光柵

2.測量精度(重復(fù)性):平均相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD1%

3.測量穩(wěn)定性:平均相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD2

4.檢出下限:亞PPb

四、安裝條件安裝條件

1競爭力、儀器正常工作條件:實驗室內(nèi)清潔調整推進、干燥狀況、無灰塵、無振動機製。室溫保持 22℃±3

2全過程、房間:15平米左右為宜,配有標(biāo)準(zhǔn)溶液試劑柜探討,電腦桌不負眾望、電腦椅,空調(diào)1.52匹調解製度。

3精準調控、電源:220V22A創新內容,使用4平方的電線機遇與挑戰。

4、接地:為了安全和儀器的穩(wěn)定善於監督,必須有高頻接地集成技術,用300×300×3mm的紫銅板埋于地 下1.5米深處,用寬30×0.5mm的紫銅帶接到主機的機殼上更合理。

5適應能力、排風(fēng):要求在主機上方安裝排風(fēng)筒,外接煙囪并用排風(fēng)扇將ICP燃燒后的廢氣排到室 外各方面。

6解決方案、氬氣:可使用普通氬氣99.99%即可

五、保修:

北京中曄儀元科技有限將提供12個月的保修期, 自簽字驗收之日起計算善謀新篇,但不超 過發(fā)貨之日起15個月. 在保修期期內(nèi)增產,北京中曄儀元科技有限免費維修,由于非甲方 人為因素造成儀器故障及損壞方法,即由乙方免費負(fù)責(zé)解決(消耗品除外)行動力;

售后服務(wù):

在收到用戶的要求維修書面通知的3時內(nèi)切實把製度,北京中曄儀元科技有限的技術(shù)人員做 出響應(yīng)如果需要趕赴用戶工作現(xiàn)場保供,技術(shù)人員將在收到書面通知的2個工作日內(nèi)到達(dá)用戶工 作地。




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