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電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀

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簡要描述: 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器提升行動,廣泛應(yīng)用于稀土能力建設、貴金屬關註、合金材料、電子產(chǎn)品無障礙、醫(yī)藥衛(wèi)生連日來、冶金、地質(zhì)認為、石油系統、化工、商檢重要意義、環(huán)保以及釹鐵硼交流等、硅、硅鐵規劃、鎢提高、鉬等行業(yè)普通和元素分析實驗室 ,可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析進入當下。是集光紮實、機、電新體系、計算機進行培訓、分析技術(shù)于一體的新技術(shù)產(chǎn)品,具有測試速度快長效機製、測量范圍寬法治力量、分析結(jié)果準確可靠等特點。

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北京華科易通分析儀器有限公司分享,是電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商共享。它是集科研、生產(chǎn)方式之一、銷售解決方案、技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。HK-8100型等離子體發(fā)射光譜儀有力扭轉,是我公司在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上上高質量,吸收新技術(shù)成果研制開發(fā)的新產(chǎn)品。

電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀作為一個分析儀器應(yīng)用范圍很廣廣度和深度。它的特點是具有ppb級別的檢測能力深入交流,5-6個數(shù)量級的檢測濃度范圍,并且可以批量處理多種元素加強宣傳。隨著ICP的廣泛使用臺上與臺下,人們對縮短分析時間和改善復(fù)雜基體樣品檢測能力的需求日益增加。

它是集光、機集聚效應、電集成、計算機、分析技術(shù)于一體的產(chǎn)品互動講,具有測試速度快穩定性、測量范圍寬、分析結(jié)果準確過程中、可靠等特點去突破。由于采用了計算機技術(shù),儀器實現(xiàn)了高度智能化重要部署,從分析處理到數(shù)據(jù)采集等環(huán)節(jié)都達到了目前水平具體而言,是一種十分理想的分析儀器工具。

公司以一批多年積累的技術(shù)成果和實力雄厚的科研隊伍為后盾智慧與合力,以其豐富的工作經(jīng)驗和和完善熱情的服務(wù)為保障,竭誠為社會提供高精度重要的角色、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品開放要求。

1.主要特點

  • 優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng),的控制系統(tǒng):保證定位準確平臺建設,信背比優(yōu)良服務機製;采用進口的關(guān)鍵部件:確保儀器的精確度和靈敏度;
  • 極小的基體效應(yīng):99%的試樣不用分離基體使用;
  • 測量范圍寬:超微量到常量的分析大幅拓展;
  • 良好的測量精度:相對標(biāo)準偏差RSD≤1.50%;
  • 穩(wěn)定性:相對標(biāo)準偏差RSD≤2.00% 更加堅強;
  • 分析速度快:每分鐘元素順序掃描zui快達25個以上緊迫性;
  • 分析元素之多:可分析72種金屬元素和部分非金屬元素;
  • 可做定性或定量分析更適合;
  • 便捷的分析軟件:基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件高效,使操作更加簡便容易,軟件無需安裝可直接使用要素配置改革,數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)提供多種功能體系,對輸出數(shù)據(jù)可任意選擇打印。

2.組成及工作原理

HK-8100型等離子體發(fā)射光譜儀,是單帶動產業發展、多元素順序測量的分析測試儀器責任製。該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器倍增效應、試樣引入系統(tǒng)促進善治、光電轉(zhuǎn)換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)發揮效力、分析操作軟件組成新格局。

等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣安全鏈,炬管上部繞有紫銅負載線圈(內(nèi)通冷卻水)當(dāng)高頻發(fā)生器產(chǎn)生的高頻電流(工作頻率40.68MHz功率1kW左右)通過線圈時顯示,其周圍產(chǎn)生交變磁場,使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子真正做到,在磁場作用下加速運動與其它中性原子碰撞科普活動,產(chǎn)生更多的電子和離子,在炬管內(nèi)形成渦流強化意識,在電火花作用下形成等離子炬(即等離子體)長期間,這種等離子體溫度可達8000K以上。待測水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進入石英炬管中心通道現場。原子受到外界能量的作用下高端化,使原子電離,即處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定我有所應。從較高能級躍遷到基態(tài)提單產,將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去至關重要。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜發展空間。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上,分光后的待測元素特征譜線光強應用的因素之一,通過計算由步進電機轉(zhuǎn)動光柵傳動機構(gòu)解決,準確定位于出口狹縫處,光電倍增管將該譜線光強轉(zhuǎn)變?yōu)楣怆娏鞲异侗O督,再?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后幅度,由計算機進行數(shù)據(jù)處理,zui后由打印機打出分析結(jié)果更合理。

3.主要技術(shù)指標(biāo)

掃描范圍 :光柵3600條刻線/mm,掃描范圍(190~500)nm

           光柵2400條刻線/mm,掃描范圍(190~800)nm

波長示值誤差:±0.03nm適應能力,重復(fù)性≤0.005nm。

zui小光譜帶寬:Mn 257.610nm各方面,譜線峰半高寬≤0.008nm防控。

重復(fù)性:相對標(biāo)準偏差 RSD≤1.50%

穩(wěn)定性:相對標(biāo)準偏差 RSD≤2.00%


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