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污水重金屬分析等離子體光譜儀

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簡要描述: 污水重金屬分析等離子體光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器深度,廣泛應用于稀土分析帶動擴大、貴金屬分析、合金材料開拓創新、電子產品持續發展、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金促進善治、地質擴大、石油、化工等行業(yè)實事求是,以及商檢進行探討、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅服務水平、硅鐵、鎢技術創新、鉬等行業(yè)處理方法,出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。

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北京華科易通分析儀器有限公司持續向好,是電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商習慣。它是集科研、生產進展情況、銷售的積極性、技術服務于一體的高科技企業(yè)。HK-8100污水重金屬分析等離子體光譜儀至關重要,是我公司在現有技術的基礎上不久前,吸收國際技術成果研制開發(fā)的產品。

污水重金屬分析等離子體光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器提升行動,廣泛應用于稀土分析能力建設、貴金屬分析、合金材料研究進展、電子產品無障礙、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金快速融入、地質認為、石油、化工等行業(yè)增強,以及商檢更合理、環(huán)保等部門和釹鐵硼適應能力、硅、硅鐵有所應、鎢足了準備、鉬等行業(yè),出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析著力提升。

是集光深刻內涵、機、電融合、計算機深入闡釋、分析技術于一體的高技術產品,具有測試速度快完成的事情、測量范圍寬物聯與互聯、分析結果準確、可靠等特點改造層面。由于采用了計算機技術供給,儀器實現了高度智能化,從分析處理到數據采集等環(huán)節(jié)都達到了目前水平經驗分享,是一種十分理想的分析儀器解決方案。

公司以一批多年積累的技術成果和實力雄厚的科研隊伍為后盾,以其豐富的工作經驗和和完善熱情的服務為保障有力扭轉,竭誠為社會提供高精度上高質量、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產品。

2.主要特點

  • 優(yōu)良的光學系統(tǒng)廣度和深度,的控制系統(tǒng):保證定位準確深入交流,信背比優(yōu)良;                                               
  • 采用進口的關鍵部件:確保儀器的精確度和靈敏度加強宣傳;
  • 極小的基體效應:99%的試樣不用分離基體臺上與臺下;
  • 測量范圍寬:超微量到常量的分析;
  • 良好的測量精度:相對標準偏差RSD≤1.50%設計能力;
  • 穩(wěn)定性:相對標準偏差RSD≤2.00% 品牌;
  • 分析速度快:每分鐘元素順序掃描zui快達20個以上;
  • 分析元素之多:可分析72種金屬元素和部分非金屬元素更為一致;
  • 檢出限低:(下表為部分元素檢出限單位 mg/L)等形式;
  • 可做定性或定量分析;
  • 便捷的分析軟件:基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件品率,使操作更加簡便容易相貫通,軟件無需安裝可直接使用,數據處理系統(tǒng)提供多種功能積極影響,對輸出數據可任意選擇打印自動化方案。
  • 儀器組成及工作原理

    HK-8100型等離子體發(fā)射光譜儀,是單緊密協作、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器線上線下、射頻發(fā)生器發揮重要作用、試樣引入系統(tǒng)、光電轉換數據顯示、控制系統(tǒng)高質量、數據處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成記得牢。

    等離子體是在三重同心石英炬管中產生註入了新的力量。炬管內分別以切向通入氬氣,炬管上部繞有紫銅負載線圈(內通冷卻水)當高頻發(fā)生器產生的高頻電流(工作頻率40.68MHz功率1kW左右)通過線圈時更多可能性,其周圍產生交變磁場去創新,使少量氬氣電離產生電子和離子,在磁場作用下加速運動與其它中性原子碰撞緊迫性,產生更多的電子和離子結構,在炬管內形成渦流,在電火花作用下形成等離子炬(即等離子體)高效,這種等離子體溫度可達8000K以上規劃。待測水溶液經噴霧器形成氣溶膠進入石英炬管中心通道。原子受到外界能量的作用下深度,使原子電離,即處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定核心技術體系。從較高能級躍遷到基態(tài)開拓創新,將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去必然趨勢。不同元素產生不同的特征光譜促進善治。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上,分光后的待測元素特征譜線光強多樣性,通過計算由步進電機轉動光柵傳動機構發揮效力,準確定位于出口狹縫處,光電倍增管將該譜線光強轉變?yōu)楣怆娏髡嬷B所在,再經電路處理?/span>V/F轉換后指導,由計算機進行數據處理,zui后由打印機打出分析結果充分。

    4.主要技術指標

    掃描范圍 :光柵3600條刻線/mm,掃描范圍(190500nm

              光柵2400條刻線/mm,掃描范圍(190800nm

    波長示值誤差:±0.03nm進一步完善,重復性≤0.005nm

    zui小光譜帶寬:Mn 257.610nm競爭力,譜線峰半高寬≤0.008nm調整推進。

    重復性:相對標準偏差 RSD1.50%

    穩(wěn)定性:相對標準偏差 RSD2.00%


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