Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀組成部分，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能影響，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求的過程中，也可用于X-射線能譜及波譜分析發展契機，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動電腦控制促進進步，自動完成抽真空發力，鍍膜，放氣等全過程迎來新的篇章，一鍵操作共創美好。采用當(dāng)下流行的觸摸屏控制，簡單方便薄弱點。

主要技術(shù)參數(shù)

• 可任選離子濺射模式覆蓋範圍、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式積極性，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）

• 設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式奮勇向前，可控制碳膜厚度

• 可選石英膜厚檢測器，控制鍍膜厚度實施體系，精度達(dá)0.1nm

• 全自動程序控制組建，自動完成抽真空，鍍膜效果較好，放氣等過程

• 觸摸屏控制重要的意義，簡單方便

• 真空度≤7×10 -3 mbar

• 濺射電流：0-150mA可調(diào)

• 方形樣品倉設(shè)計(jì)持續，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）

• 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm