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Gatan PECS II 685 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)-電鏡制樣設備

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Gatan PECS II 685 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)-電鏡制樣設備
采用兩個寬束氬離子束對樣品表面進行拋光,去除損失層連日來,從而得到高質量的樣品快速融入,用于在SEM、光鏡或者掃描電子探針上進行成像系統、EDS增強,EBSD,CL交流等,EBIC或者其他分析更加廣闊,另外將這兩支離子槍對準靶材濺射,可用來對樣品做導電金屬膜沉積處理數字化,以防止樣品在電鏡中發(fā)生荷電效應方便。

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Gatan PECS II 685 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)-電鏡制樣設備

產(chǎn)品介紹

品牌: GATAN

名稱型號:精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685

制造商: 美國GATAN公司

經(jīng)銷商:歐波同有限公司

 產(chǎn)品功能介紹

Gatan公司的精密刻蝕鍍膜儀 (PECS) II 是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設備。對于同一個樣品各領域,可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜應用領域。

品牌介紹

美國Gatan公司成立于1964年并于70年代末進入中國市場。Gatan公司以其產(chǎn)品的高性能及技術的*性在電鏡界享有*聲譽進行培訓。

作為世界領前的設計和制造用于增強和拓展電子顯微鏡功能的附件廠商發展機遇,其產(chǎn)品涵蓋了從樣品制備到成像長效機製、分析等所有步驟的需求。產(chǎn)品應用范圍包括材料科學穩定、生命科學改造層面、地球物理學、電子學優勢與挑戰,能源科學等領域經驗分享, 客戶范圍涵蓋的科研院所,高校趨勢,各類檢測機構及大型工業(yè)企業(yè)實驗室有力扭轉,并且在科學研究領域得到了廣泛認同。

經(jīng)銷商介紹

歐波同有限公司是中國領前的微納米技術服務供應商一站式服務,是一家以外資企業(yè)作為投資背景的*廣度和深度,總部位于香港,分別在北京引領作用、上海加強宣傳、遼寧、山東等地設有分公司和辦事處用的舒心。作為蔡司電子顯微鏡技術發展、Gatan掃描電子顯微鏡制樣設備及附屬分析設備在中國地區(qū)重要的戰(zhàn)略合作伙伴,公司秉承“打造國內(nèi)具影響力的儀器銷售品牌”的經(jīng)營理念深入開展,與蔡司更為一致,Gatan品牌強強聯(lián)合,正在為數(shù)以萬計的中國用戶提供高品質的產(chǎn)品與技術服務技術的開發。

產(chǎn)品主要技術特點:

精密刻蝕鍍膜儀 (PECS) II研究與應用,采用兩個寬束氬離子束對樣品表面進行拋光,去除損失層更高效,從而得到高質量的樣品全面協議,用于在SEM、光鏡或者掃描電子探針上進行成像具體而言、EDS工具,EBSDCL喜愛,EBIC或者其他分析重要的角色,另外將這兩支離子槍對準靶材濺射,可用來對樣品做導電金屬膜沉積處理向好態勢,以防止樣品在電鏡中發(fā)生荷電效應平臺建設。

這款儀器被設計為不破壞真空,不將樣品新鮮表面暴露在大氣中,即可對拋光樣品進行處理重要的作用。樣品的裝卸是通過一個專門設計的裝樣工具在真空交換艙中完成更多可能性。

兩支具有更大電壓范圍的小型潘寧離子槍,可提供快速柔和的拋光效果足夠的實力。低至100eV的離子束提供更柔和的拋削效果緊迫性,用于樣品的拋光。低能聚焦電極使得離子束的直徑在幾乎整個加速電壓范圍內(nèi)都保持一致更適合。每個離子槍都能準確獨立地進行對中高效。在儀器運行過程中,離子槍的角度可隨時進行調整擴大公共數據。離子槍的氣流可在觸摸屏上通過手動方式或者自動方式進行調整深度, 用于優(yōu)化離子槍的工作電流。

PECS II樣品臺采用液氮制冷方式核心技術體系。可以有效的保護樣品持續發展,避免離子束熱損傷必然趨勢,消除可能的假象。

集成的10英寸彩色觸摸屏計算機可對PECS II系統(tǒng)的所有操作參數(shù)進行*控制擴大。此界面不僅可以設定所有參數(shù)并能夠監(jiān)控拋光過程多樣性。所有的操作參數(shù)還可以存為配方,調用配方可獲得高精度重復實驗新格局。

渦輪分子泵搭配兩級隔膜泵保證了超潔凈環(huán)境明顯。通過Gatan的樣品裝卸工具能實現(xiàn)快速樣品交換(< 1min),這樣就能保證換樣過程中加工艙室始終處在高真空狀態(tài)顯示。

 

Gatan PECS II 685 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)-電鏡制樣設備主要技術參數(shù):

離子源

*離子槍兩支配有稀土磁鐵的潘寧離子槍創新為先,高性能無耗材

*拋光角度±10°, 每支離子槍可獨立調節(jié)

離子束能量100 eV 8.0 keV

離子束流密度10 mA/cm2 峰值

離子束直徑可用氣體流量計或放電電壓來調節(jié)

樣品臺

樣品大小:大直徑 32mm科普活動, 大高度 15mm

樣品裝載: 對于截面樣品拋光采用 Ilion II 專項的樣品擋板創新延展,二次再加工位置精確。

樣品拋光及鍍膜功能:兼具有平面拋光長期間、截面拋光及濺射鍍膜功能基本情況,靶材數(shù):2

靶材切換:無需破壞真空,可直接切換

樣品旋轉:1 6 rpm 可調

束流調制:角度可調的單束調制或雙束調制

真空系統(tǒng)

干泵系統(tǒng)80 L/s 的渦輪分子泵配有兩級隔膜泵

壓力5 x 10-6 torr 基本壓力

8 x 10-5 torr 工作壓力

真空規(guī)冷陰極型高端化,用于主樣品室力量;固體型,用于前級機械泵

*樣品空氣鎖Whisperlok技術不負眾望,無需破壞主樣品室真空即可裝卸樣品高效流通,樣品交換時間 < 1 min

用戶界面

*10 英寸觸摸屏操作簡單,且能夠*控制所有參數(shù)和配方式操作

*操作界面語言:提供中文、英文等多種選擇

 

產(chǎn)品主要應用領域:

EBSD樣品制備

截面樣品制備

金屬材料(合金有效性,鍍層)

石油地質巖石礦物

光電材料

化工高分子材料

新能源電池材料


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