MPROBE50INSITU–實(shí)時薄膜厚度測量儀原位薄膜厚度測量儀-MPROBE50INSITU用于測量薄膜厚度和n原位薄膜厚度測量儀-MPROBE50INSITU優(yōu)勢：1

MPROBE 50 INSITU – 實(shí)時薄膜厚度測量儀

原位薄膜厚度測量儀-MPROBE 50 INSITU用于測量薄膜厚度和 n&k（光學(xué)常數(shù)）的實(shí)時光學(xué)測量儀不折不扣。該系統(tǒng)可以在高環(huán)境光下工作，因?yàn)樗褂瞄T控數(shù)據(jù)采集資源優勢。原位薄膜厚度測量儀-MPROBE 50 INSITU使用高強(qiáng)度閃光氙燈在寬帶 ( UV-NIR) 波長范圍內(nèi)進(jìn)行精確測量高效利用。MProbe 50 系統(tǒng)是可定制的，以支持不同的幾何形狀不斷完善。原位薄膜厚度測量儀-MPROBE 50 INSITU根據(jù)可用的光學(xué)端口數字化，可以使用斜入射或垂直入射。光可以聚焦在樣品表面或準(zhǔn)直營造一處。反射探頭可以放置在沉積室光學(xué)端口的外部或內(nèi)部（使用饋通）改革創新。MProbe 50 系統(tǒng)沒有活動部件知識和技能。典型測量時間~10ms取得顯著成效。可以快速可靠地測量任何半透明薄膜實現。

原位薄膜厚度測量儀-MPROBE 50 INSITU優(yōu)勢：

1.原位薄膜厚度和 n&k 測量

2.用于高環(huán)境光環(huán)境下測量的門控數(shù)據(jù)采集

3.材料：500+ 擴(kuò)展材料數(shù)據(jù)庫

4.連續(xù)不容忽視、快速和可靠的測量

5.靈活的配置——定制以匹配沉積室的幾何形狀

 原位薄膜厚度測量儀-MPROBE 50 INSITU選型列表：

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