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光刻機MODEL 800MBA

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美國OAI成立至今已有35年歷史技術發展,在光源制造和測量方面一直處領(lǐng)域品牌。
OAI光源以工作穩(wěn)定,出光效率高更為一致,高均勻性和散射角小著稱等形式。且可提供20inch以上的大面積光源。 OAI光功率計在工業(yè)上有廣泛應(yīng)用研究與應用,包括NIKON飛躍,CANON,ASM等光刻機制造商均使用OAI光功率計全面協議。
OAI也生產(chǎn)光刻機重要部署,尤其是OAI MODEL 800系列雙面曝光機,在世界范圍內(nèi)有著非常廣泛的應(yīng)用工具。
OAI MODEL 800MBA
雙面對準(zhǔn)曝光機
曝光模式 接近線上線下、軟/硬接觸、真空接觸
掩膜尺寸大9"x9"
大適合200mm晶圓曝光


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