NanoCalc反射法納米測厚儀
光學(xué)特性從反射和干涉影像中顯現(xiàn)出來真諦所在。膜厚測量儀允許用戶從10nm到250μm分析光學(xué)圖層厚度。用戶可以觀察到一副圖層厚度分辨率達到0.1nm的單圖競爭力。根據(jù)用戶選擇的軟件充分，用戶可以分析單圖層或者小于二分之一的多圖層，并且可以測量圖層厚度和半導(dǎo)體加工影像或者增透涂料集聚。

特點

·分析單一或者多層

·分辨率到0.1nm

·適用于原地競爭力，在線測量厚度

NanoCalc反射法納米測厚儀

光學(xué)特性從反射和干涉影像中顯現(xiàn)出來。膜厚測量儀允許用戶從10nm到250μm分析光學(xué)圖層厚度狀況。用戶可以觀察到一副圖層厚度分辨率達到0.1nm的單圖機製性梗阻。根據(jù)用戶選擇的軟件，用戶可以分析單圖層或者小于二分之一的多圖層全過程，并且可以測量圖層厚度和半導(dǎo)體加工影像或者增透涂料集成應用。

特點

·分析單一或者多層

·分辨率到0.1nm

·適用于原地，在線測量厚度

工作原理

兩個共同的通道用來測量膜層特征不負眾望，光譜反射/傳播和橢圓偏光高效流通。膜厚測量儀利用反射原理來測量入射光到達樣品表面后從薄膜反射過來的波段。

通過n和k搜索

很多圖層可以被認定是一個薄膜的堆積精準調控。很多的薄膜和基地原料都能被金屬功能、電介質(zhì)、非結(jié)晶或者水晶半導(dǎo)體解決。膜厚測量儀軟件包含一個巨大的n和k價值庫提供很多的普遍原料預期。用戶可以編輯和添加數(shù)據(jù)庫敢於監督。同樣，用戶可以通過方程式編程或者散射公式自定義材料類型結構。

用途

膜厚測量儀適用于原地在線厚度檢測和移除速率應(yīng)用程序重要的作用，并且可以被用來檢測氧化物的膜厚度，碳化硅更優美，光阻材料和其他半導(dǎo)體薄膜處理實際需求。膜厚測量儀可檢測增透膜涂層、耐摩擦涂層和粗糙涂層優勢。

NanoCalc反射法納米測厚儀

反射計應(yīng)用軟件善謀新篇，需求下面項目

如果應(yīng)用放大鏡便利性，則需求下面的選項

NanoCalc Specifications