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- 公司名稱 杭州精兢檢測儀器有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地 杭州市
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時間 2025/1/17 8:08:19
- 訪問次數(shù) 39
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產(chǎn)品概述1、CCD/CMOS全譜光譜儀制造技術通道不受限制單產提升;2傳遞、升級多基體方便,無須變動增加硬件行動力;3提供有力支撐、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時間段分析保供,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性自行開發;4、體積小責任、重量輕應用情況,移動安裝方便;5應用前景、高集成度有很大提升空間、高可靠性運行好、高穩(wěn)定性、性價比高可能性更大;主要特點1部署安排、可測定各種有色金屬的各種元素,適用于多種金屬基體,如:鋁基技術、銅基推廣開來、鋅基
產(chǎn)品概述 |
1、CCD/CMOS全譜光譜儀制造技術通道不受限制相對較高;
2資源配置、升級多基體方便,無須變動增加硬件相關;
3大力發展、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時間段分析生產效率,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性產能提升;
4、體積小保持穩定、重量輕總之, 移動安裝方便;
5支撐作用、高集成度研學體驗、高可靠性、高穩(wěn)定性最為突出、性價比高落實落細;
主要特點 |
1、可測定各種有色金屬的各種元素,適用于多種金屬基體高效化,如:鋁基製高點項目、銅基、鋅基範圍和領域。全譜技術覆蓋了全元素分析范圍有所增加,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;
2更高要求、分析速度快捷估算,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料的可能性,通過設置預燃時間及標線不要畏懼,使儀器用短的時間達到優(yōu)的分析效果;
3問題、光學系統(tǒng)采用恒溫光室逐漸顯現,激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入光室全會精神,實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限拓展基地,測定結果準確集中展示,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性佳;
4不合理波動、特殊的光室結構設計宣講手段,體積小、重量輕積極拓展新的領域;
5、自動光路校準更優質,光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描相對開放,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作脫穎而出。儀器自動識別特定譜線拓展應用,與原存儲線進行對比,確定漂移位置結構,找出分析線當前的像素位置進行測定管理;
6、開放式的電極架設計能力建設,可以調(diào)整的樣品夾模樣,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
7服務、工作曲線采用國際標樣很重要,預做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴展范圍覆蓋,每條曲線由多達幾十塊標樣激發(fā)生成異常狀況,自動扣除干擾;
8高效、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源鍛造,適應各種不同材料 ;
9持續創新、銅火花臺底座改善,提高散熱性及堅固性能創新為先;
10開展攻關合作、合理的氬氣氣路設計確定性,使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短活動上,為用戶節(jié)省氬氣善於監督,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;
11去完善、采用鎢材料電極高效利用,電極使用壽命更長,并設計了電極自吹掃功能設計,清潔電極更加容易業務指導;
12、高性能DSP及ARM處理器就此掀開,具有高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度長足發展、真空度、氬氣壓力穩步前行、光源結構不合理、激發(fā)室等模塊的運行狀況;
13逐步改善、與計算機之間采用以太網(wǎng)連接意見征詢,抗干擾性能好,外部計算機升級與儀器配置無關大大提高,使儀器具有很好的適用性的必然要求;
14、核心器件全部取得了一定進展,保證了儀器的品質(zhì)完善好。
產(chǎn)品應用 |
CX-9000全譜直讀光譜儀是我公司引進歐洲技術、采用的CCD/CMOS光譜儀技術開發(fā)的專門針對有色金屬材料分析的產(chǎn)品積極參與。
該產(chǎn)品廣泛應用于冶金問題分析、鑄造、機械技術、汽車制造推廣開來、航空航天、兵器示範推廣、金屬加工等領域的生產(chǎn)工藝控制堅持好、爐前化驗、中心實驗室成品檢驗大幅增加。
CX-9000全譜直讀光譜儀體積小特性、穩(wěn)定性好、檢測限低等特點、分析速度快建言直達、運行成本低、操作維護方便將進一步,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇充分發揮。
CX-9000直讀光譜儀 | ||
光學系統(tǒng) | 光學結構 | 平場型光學系統(tǒng) |
光室溫度 | 自動控制恒溫:35℃±0.5℃ | |
波長范圍 | 200-500nm | |
光柵焦距 | 350 mm | |
光譜寬度 | 25.4mm | |
光柵刻線 | 2160 l/mm | |
一級光譜線色散率 | 1.2 nm/mm | |
探測器 | 多塊高性能線陣CCD | |
平均分辨率 | 10pm/pixel | |
激發(fā)臺 | 氣體 | 氬氣 |
氬氣流量 | 激發(fā)時3-5L/min,待機時:無須待機流量 | |
電極 | 鎢材噴射電極技術 | |
吹掃 | 點擊自吹掃功能 | |
補償 | 熱變形自補償設計 | |
分析間隙 | 樣品臺分析間隙:4mm | |
激發(fā)光源 | 類型 | HEPS固態(tài)光源 |
頻率 | 100-1000Hz | |
放電電流 | 1-80A | |
特殊技術 | 放電參數(shù)優(yōu)化設計 | |
預燃 | 高能預燃技術 | |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) | 處理器 | ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
接口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 | |
電源與環(huán)境要求 | 輸入 | 220VAC/50Hz |
功率 | 分析時700W重要方式,待機狀態(tài)40W | |
工作溫度 | 10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h) | |
工作濕度 | 20-80% |
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