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CX-9600立式直讀光譜分析儀

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產(chǎn)品概述CX-9600直讀光譜分析儀(L)優(yōu)勢(shì):1的必然要求、全譜光譜儀制造技術(shù)、通道不受限制

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產(chǎn)品概述


CX-9600直讀光譜分析儀(L優(yōu)勢(shì)
1取得了一定進展、全譜光譜儀制造技術(shù)完善好、通道不受限制 ;
2積極參與、國(guó)內(nèi)能生產(chǎn)真空CCD/CMOS全譜技術(shù)光譜儀的制造商問題分析;
3、基體范圍內(nèi)通道改變交流研討、增加不需費(fèi)用
4更加完善、升級(jí)多基體方便,無須變動(dòng)增加硬件 相對較高;
5資源配置、同一樣品不同的時(shí)間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 相關;
6、體積小豐富內涵、重量輕生產效率, 移動(dòng)安裝方便 ;

7適應性、高集成度節點、高可靠性、高穩(wěn)定性 落地生根;


CX-9600直讀光譜分析儀(L主要特點(diǎn):
1、可測(cè)定包括痕量碳(C),磷(P,硫(S)元素,適用于多種金屬基體相對開放,如:鐵基的特性,鋁基,銅基講實踐,鎳基數字技術,鉻基,鈦 基市場開拓,鎂基措施,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍緊密相關,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素不容忽視;
2、分析速度快捷服務體系,20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分說服力。針對(duì)不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線問題,使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果逐漸顯現;
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室系統穩定性, 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室拓展基地,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限實力增強,測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確體系流動性,重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性好;
4帶來全新智能、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)實現了超越,使真空室容積更小
5、自動(dòng)光路校準(zhǔn)去完善,光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描橋梁作用,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作求索。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線讓人糾結,與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比,確定漂移位置穩定發展,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定基石之一;
6、開放式的電極架設(shè)計(jì)增持能力,可以調(diào)整的樣品夾共同努力,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
7追求卓越、工作曲線采用國(guó)際標(biāo)樣逐漸完善,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍覆蓋,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成異常狀況,自動(dòng)扣除干擾;
8高效、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源鍛造,適應(yīng)各種不同材料 競爭激烈;
9、固態(tài)吸附阱改善,防止油氣對(duì)光室的污染空白區,提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性;
10信息化、銅火花臺(tái)底座形勢,提高散熱性及堅(jiān)固性能;
11取得明顯成效、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)約定管轄,使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短,為用戶節(jié)省氬氣創新的技術;
12發揮、采用鎢材料電極,電極使用壽命更長(zhǎng)快速增長,并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能開放以來,清潔電極更加容易;
13高質量、高性能DSPARM處理器提供了有力支撐,具有高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度、真空度前景、氬氣壓力進一步意見、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況共享應用;
14的必然要求、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好取得了一定進展,外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性大面積;
15積極參與、核心器件全部,保證了儀器品質(zhì)培養。



光學(xué)系統(tǒng)

光學(xué)結(jié)構(gòu)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

光室溫度

自動(dòng)控制恒溫:35℃±0.5

波長(zhǎng)范圍

160-800nm

光柵焦距

350 mm

光柵刻線

3600 l/mm

光譜線色散率

1.2 nm/mm

探測(cè)器

多塊高性能線陣CCD

平均分辨率

10pm/pixel

激發(fā)臺(tái)

 

沖氬式

氬氣流量

激發(fā)時(shí)3-5L/min交流研討, 待機(jī)時(shí):無須待機(jī)流量

 

鎢材噴射電極技術(shù)

 

點(diǎn)擊自吹掃功能

補(bǔ) 

熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì)

分析間隙

樣品臺(tái)分析間隙:4mm

激發(fā)光源

 

HEPS數(shù)字化固態(tài)光源

 

100-1000Hz

放電電流

1-80A

特殊技術(shù)

放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)

預(yù) 

高能預(yù)燃技術(shù)

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

處理器

ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理

 

基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸

電源與環(huán)境要求

 

220VAC 50Hz

 

分析時(shí)700W方案,待機(jī)狀態(tài)40W

工作溫度

10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5/h

工作濕度

20-80%

尺寸與重量

主機(jī)尺寸

800*750*500 mm

 

120Kg



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