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W5型全譜直讀光譜分析儀

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W5型全譜直讀光譜儀擁有可快速的對金屬材料樣品進行元素測定

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         W5型全譜直讀光譜儀擁有可快速的對金屬材料樣品進行元素測定上高質量。光學(xué)系統(tǒng)采用CMOS檢測器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素攻堅克難,它都能準確管理、可靠的分析。公司在行業(yè)內(nèi)擁有光譜多年的生產(chǎn)經(jīng)驗積累雙向互動,針對不同材料效率和安、不同要求,設(shè)計了這款全新的品牌、更具性價比的全譜直讀光譜儀深入開展,可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監(jiān)控等形式、材料牌號識別技術的開發、材料研究和開發(fā)的應(yīng)用。

黑科技一:性能的光學(xué)系統(tǒng)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)凹面光柵飛躍,全譜覆蓋更高效,滿足客戶對全元素檢測的需求。

直射式光學(xué)技術(shù)及采用MgF材料制作的光學(xué)器件重要部署,保證紫外區(qū)域的性能具體而言。

高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng),較低的暗電流智慧與合力,較好的檢出限喜愛,較高的穩(wěn)定性,較強的靈敏度開放要求,滿足N的分析要求向好態勢。

黑科技二:智能數(shù)字激發(fā)光源
 
全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù),帶來分析性能服務機製。

緊湊的設(shè)計及半導(dǎo)體控制技術(shù)註入了新的力量,使得光源具有較好的穩(wěn)定性、更強的可靠性更多可能性。

高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整特點,充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求重要性。

黑科技三:智能樣品激發(fā)臺設(shè)計

激發(fā)臺直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)

開放式樣品臺又進了一步,滿足大樣品測試要求。

變換電極可對小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品分析有較好的性能

視頻識別技術(shù)多元化服務體系,確保樣品臺激發(fā)安全規劃,可監(jiān)測樣品臺的全景。

黑科技四:智能集成氣路模塊

智能氬氣流設(shè)計及粉塵收集清理裝置

氬氣噴射技術(shù)深度,有效消除激發(fā)過程中等離子體的飄移帶動擴大,確保CCD檢測器能夠觀測高溫區(qū)域光信號核心技術體系,提高精度和穩(wěn)定性。

激發(fā)后持續發展,脈沖式氬氣吹掃必然趨勢,提高粉塵去除效果,提升儀器的短期和長期穩(wěn)定性擴大。

黑科技五:智能真空測量和控制

真空系統(tǒng)程控多樣性,在保證真空度的同時減少真空泵的運行時間,

雙級設(shè)置新格局,在儀器不運行的情況下明顯,開啟待機真空運行狀態(tài)。

多級真空隔離措施及增加濾油裝置顯示,保障光學(xué)元器件在可靠的環(huán)境中工作創新為先。

黑科技六:透鏡清理裝置

不銹鋼真空球閥,在清理透鏡時有良好的隔離效果科普活動。

單板式透鏡設(shè)計創新延展,拆裝方便。

交叉機械裝置長期間,在未解除隔離的情況有效保護光學(xué)系統(tǒng)基本情況。

黑科技七:計算機及讀出系統(tǒng)

計算機與手機(或PAD)可同步顯示,方便面板操作綠色化發展。

高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)及FPGA至關重要、DSPARM技術(shù)使命責任,進行數(shù)據(jù)采集效果。

以太網(wǎng)和TCP/IP協(xié)議,數(shù)據(jù)傳輸高速合規意識、可靠密度增加。

數(shù)據(jù)可遠程傳輸,全面實現(xiàn)網(wǎng)絡(luò)化創新內容。實時方便對儀器運行狀態(tài)的監(jiān)測和控制機遇與挑戰。

數(shù)據(jù)可進行云打印。

黑科技八:專用的光譜分析軟件

光譜儀制作標準的專用光譜儀軟件善於監督,操作界面人性化集成技術,功能標準化。

儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析方法和的解決方案更合理。

可根據(jù)用戶的材料要求適應能力,可現(xiàn)場延長標準曲線的測量上、下限各方面。

其它黑科技:

自動光路校準

低氬氣消耗

通用可調(diào)樣品適配器

基體擴展功能

標準化參數(shù)修改

控樣修正功能

安全防控、開放的便捷設(shè)計

結(jié)果實時顯示成效與經驗,可為用戶定制打印報告功能

軟件快速診斷

界面操作簡單    

可靠的工廠校準功能

技術(shù)參數(shù):

項目

指標

檢測基體

鐵基、銅基堅實基礎、鋁基稍有不慎、鎳基、鈷基等地、鎂基最為顯著、鈦基、鋅基物聯與互聯、鉛基穩定、錫基、銀基供給、錳基優勢與挑戰、鉻基等13個基體

光學(xué)系統(tǒng)

帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

波長范圍

165~580nm(可安裝上下限檢測器擴大波長范圍)

光柵焦距

400mm

探測器

高分辯率多CMOS圖像傳感器

光源類型

DDD數(shù)字激發(fā)光源,高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS

放電頻率

100-1000Hz

放電電流

400A

檢測時間

依據(jù)樣品類型而定解決方案,一般在25s左右

電極類型

鎢材噴射電極

分析間隙

樣品臺分析間隙:3.4mm

真空系統(tǒng)

真空軟件自動控制趨勢、監(jiān)測

光室恒溫

34℃,溫度自動監(jiān)測

氬氣純度

99.999%

氬氣壓力

0.5MPa

工作電源

AC220V 50/60Hz 

儀器尺寸

860*680*438mm

儀器重量

100kg



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