TY-9000型全譜直讀光譜儀采用標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù)貢獻法治，采用全數(shù)字化技術(shù)設備製造，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù)，采用真空光室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源攻堅克難、CMOS檢測器管理，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能雙向互動、較低檢出線效率和安、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性

        TY-9000型全譜直讀光譜儀采用標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字化技術(shù)品牌，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù)深入開展，采用真空光室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源、CMOS檢測器等形式，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)技術的開發，使儀器具有較高的性能、較低檢出線飛躍、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性更高效。

  應(yīng)用領(lǐng)域：冶金、鑄造重要部署、機械具體而言、科研、商檢、汽車喜愛、石化重要的角色、造船、電力向好態勢、航空平臺建設、核電、金屬和有色冶

煉共創美好、加工和回收工業(yè)中的各種分析推動並實現。

檢測基體：鐵基薄弱點、銅基覆蓋範圍、鋁基、鎳基積極性、鈷基又進了一步、鎂基、鈦基多元化服務體系、鋅基規劃、鉛基、錫基深度、銀基帶動擴大。

主要技術(shù)參數(shù)：光學(xué)系統(tǒng)：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)；

              波長范圍：170nm~580nm

              焦距：400mm

              探測器：高性能CCD陣列

              光源類型：數(shù)字光源開拓創新，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）

              放電頻率：100-1000Hz

              放電電流：400A

              工作電源：220VAC 50/60Hz

              儀器尺寸：720*860*500

              儀器重量：約100kg（不含真空系統(tǒng)）

              檢測時間：依據(jù)樣品類型而定持續發展，一般25S左右

              電極：鎢材噴射電 

              光學(xué)恒溫：34℃± 0.3℃

              氬氣要求：99.999％

              氬氣進口壓力：0.5MPa

              氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min

              工作溫度：10℃～35℃

              工作濕度：20％～85％

              分析間隙：真空軟件自動控制、監(jiān)測

 技術(shù)特點：

1促進善治、高性能光學(xué)系統(tǒng)

《1》光學(xué)系統(tǒng)激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光學(xué)室擴大，實現(xiàn)光路  直通，有效的降低光路損耗發揮效力；

《2》高性能光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計及采用高精度的光學(xué)元件可精確測定非金屬元素中C新格局、P、S安全鏈、N以及各種元素含量顯示；  

《3》測定結(jié)果準確，重現(xiàn)及長期穩(wěn)定性真正做到。

2科普活動、自動光路校準

《1》自動光路校準，光學(xué)系統(tǒng)自動進行譜線掃描習慣，確保接收的正確性充足，免除繁瑣的波峰掃描工作；

《2》儀器自動識別特定譜線與原存儲線進行對比的積極性，確定漂移位置綠色化發展，找出分析線當前的像素位置進行測定至關重要。

3、單板式透鏡設(shè)計

《1》真空光學(xué)系統(tǒng)采用的入射窗與真空隔離用上了，可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進行操作提升行動，光學(xué)透鏡采用單板式透鏡結(jié)構(gòu)，日常清洗維護方便快捷關註。

《2》在日常工作中儀器無需維護研究進展，也沒有消耗品及更換零部件。

4機遇與挑戰、真空室一體化

《1》的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計廣泛關註，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半集成技術。

《2》真空室一體化設(shè)計及高精密的加工就能壓製，使真空保持的更加持久。

5適應能力、真空防返油技術(shù)

《1》多級隔離的真空防返油技術(shù)更優美，采用真空壓緊、擋板閥保證真空泵不工作時間真空光室與真空隔離防控。

《2》中間增加了真空濾油裝置成效與經驗，確保真空泵中油不進入真空室，保障CCD檢測器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作堅實基礎。

6稍有不慎、開放式激發(fā)臺

《1》開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設(shè)計，以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析深入闡釋。

《2》配合使用小樣品夾具相關性，線材分析可達到1.5mm。

7物聯與互聯、噴射電極技術(shù)：

《1》采用的噴射電極技術(shù)穩定，使用鎢材料電極，在激發(fā)狀態(tài)下供給，電極周圍會形成氬氣噴射氣流優勢與挑戰，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度解決方案。

《2》配上氬氣氣路設(shè)計趨勢，大大降低了氬氣使用量，也降低客戶使用成本上高質量。

8一站式服務、集成氣路模塊

《1》激發(fā)臺采用散熱性能好的合金材料制作，不僅堅固、耐用而且清潔方便引領作用。

《2》供氣系統(tǒng)采用集成氣路模塊加強宣傳，電極自吹掃功能，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境用的舒心。

9在此基礎上、全數(shù)字化激發(fā)光源：

《1》全數(shù)字激發(fā)光源，采用的等離子激發(fā)光源前來體驗，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品自主研發。

《2》全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出更加廣闊。

《3》滿足各種不同材料的激發(fā)要求損耗。

10、高速數(shù)據(jù)采集：

《1》儀器采用高性能CCD器件不斷發展，紫外鍍膜技術(shù)及高性能FPGA積極影響、ＤＳＰ及ＡＲＭ處理器自動化方案。
《２》具有高速數(shù)據(jù)采集分析功能緊密協作，并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度線上線下、氬氣壓力發揮重要作用、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)數據顯示。

11高質量、以太數(shù)據(jù)傳輸：

《１》計算機和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議，避免電磁干擾記得牢，光纖老化的弊端註入了新的力量，同時計算機和打印機外置，方便升級和更換更多可能性。

《2》完備的網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)去創新。

《3》可以遠程監(jiān)控儀器狀態(tài)，多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)緊迫性。

12結構、預(yù)制工作曲線：

《1》根據(jù)元素和材質(zhì)對應(yīng)的分析程序而稍有差異，激發(fā)和測試參數(shù)儀器出廠時已經(jīng)調(diào)節(jié)好高效，根據(jù)分析程序可自動選擇測試條件溝通協調。

《2》長期以來工廠積累了大量的經(jīng)驗以及全面的標樣庫，儀器出廠時工廠預(yù)制工作曲線體系，使用戶拿到儀器后可投入使用保障性。

《3》技術(shù)規(guī)格中附有分析范圍（并可根據(jù)用戶提供標樣免費繪制或延長工作曲線）。

13、分析速度快捷：

《1》分析速度快捷十分落實，為客戶節(jié)約了寶貴的時間應用提升，20秒內(nèi)可測完所有通道的元素成分。

《2》針對不同的分析材料創造性，通過設(shè)置預(yù)燃時間及測量時間發展的關鍵，使儀器短時間達到分析效果。

14規模設備、多基體分析

《1》光路設(shè)計采用羅欄園結(jié)構(gòu)真諦所在，CCD上下交替排列，保證接收全部的譜線競爭力，不增加硬件設(shè)施充分，即可實現(xiàn)多基體分析。

《2》便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素集聚。

《3》相比光電倍（PMT）光譜儀可大大減低使用成本及使用范圍競爭力。

15逐步改善、軟件多國語言

《1》儀器操作軟件兼容于Windows系統(tǒng)合作關系，同時可以根據(jù)客戶需求配備各種語言版本生動。
《2》軟件操作簡單還不大，即使沒有任何光譜儀知識及操作經(jīng)驗的人員只需經(jīng)過簡單的知識培訓(xùn)即可上手使用問題分析。