ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺(tái)進一步，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，用專門的顆粒圖像分析軟件對(duì)顆粒圖像進(jìn)行分析強大的功能。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法，將目標(biāo)顆粒與背景分離解決方案，分析出各種測(cè)量參數(shù)優勢，并通過顯示器和打印機(jī)輸出。

一增產、結(jié)構(gòu)原理

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀工作原理是通過專用高分辨率CCD線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺(tái)便利性，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，用專門的顆粒圖像分析軟件對(duì)顆粒圖像進(jìn)行分析行動力。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法提供有力支撐，將目標(biāo)顆粒與背景分離，分析出各種測(cè)量參數(shù)保供，并通過顯示器和打印機(jī)輸出自行開發。

該儀器具有超大測(cè)量范圍及高分辨率，同時(shí)具有直觀、可視應用情況、準(zhǔn)確保護好、操作簡(jiǎn)單、測(cè)量參數(shù)全面等特點(diǎn)表現。能夠同時(shí)測(cè)量顆粒粒度特點、形狀及表面顏色的新型顆粒分析儀器。

二結論、產(chǎn)品介紹

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀可以直接對(duì)透明貼劑中析出的晶體進(jìn)行掃描和諧共生，按照規(guī)定掃描范圍進(jìn)行掃描一定的面積，將其中的晶體識(shí)別出來并做數(shù)量統(tǒng)計(jì)適應性強。軟件可以內(nèi)置公式得出晶體出現(xiàn)率技術交流。

三、性能指標(biāo)

1.測(cè)量范圍：1μm ～ 100mm

2.圖像分辨率：900萬像素

3.光學(xué)平臺(tái)：100mm * 120mm

4 背景光源：反射光