測(cè)量表面形貌的新標(biāo)準(zhǔn)

隨著材料不斷趨向平坦化可能性更大、薄膜化及結(jié)構(gòu)的微細(xì)化，人們開始要求比傳統(tǒng)的普通SPM（掃描探針顯微鏡）搖籃、觸針式粗糙度測(cè)量?jī)x及激光顯微鏡等產(chǎn)品更高的測(cè)量精度技術。相比較利用光干涉原理的白光干涉掃描顯微鏡，納米尺度3D光學(xué)干涉測(cè)量系統(tǒng)VS1800推動，使用更方便相對較高，測(cè)量精度跟高，測(cè)量范圍更大信息。此外相關，傳統(tǒng)的采用線粗的測(cè)量方式仍存在“測(cè)量位置導(dǎo)致的結(jié)果偏差”和“掃描方向?qū)е碌慕Y(jié)果偏差”等重大課題。VS1800的解決對(duì)策是通過(guò)參照國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO25178規(guī)定的表面形貌評(píng)估方法來(lái)計(jì)算參數(shù)傳承，建立測(cè)量表面形貌的新標(biāo)準(zhǔn)等特點，從而受到了各界的關(guān)注。

■與普通測(cè)量?jī)x器比較

原子力顯微鏡的納米尺度3D探針測(cè)量系統(tǒng)AFM5500M同樣可實(shí)現(xiàn)高度的分辨率為0.1nm以下多種，與此相比將進一步，納米尺度3D光學(xué)干涉測(cè)量系統(tǒng)VS1800的一大特點(diǎn)在于面內(nèi)方向的測(cè)量范圍更大。發(fā)揮兩種測(cè)量系統(tǒng)各自的優(yōu)點(diǎn)發展成就，根據(jù)需求選擇的測(cè)量系統(tǒng)有利于生產(chǎn)率的提高成就。

優(yōu)點(diǎn)

1. 高分辨率、大范圍
   采用的算法開展面對面，實(shí)現(xiàn)垂直方向分辨率0.01 nm（Phase模式下）系統。由于無(wú)需依賴于物鏡的倍率即可實(shí)現(xiàn)較高的垂直方向分辨率，即使是大范圍（測(cè)量視野6.4 mm × 6.4 mm）的情況下進一步提升，也能測(cè)量納米尺度的粗糙度空間廣闊、高差。

   Wafer研磨表面形貌（表面粗糙度Sa 0.58 nm）

2. 測(cè)量數(shù)據(jù)的重現(xiàn)性高
   高度測(cè)量使用干涉條紋改革創新，將Z驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生的影響控制在最小程度知識和技能，從而實(shí)現(xiàn)測(cè)量重現(xiàn)性誤差低于0.1%（Phase模式下）。

3. 高速測(cè)量
   通過(guò)以平面捕捉樣品高效利用，不對(duì)X特征更加明顯、Y方向進(jìn)行掃描估算，從而實(shí)現(xiàn)高速測(cè)量講理論，并且由于采用非接觸方式的可能性，測(cè)量時(shí)能夠保證不會(huì)給樣品帶來(lái)?yè)p傷。

4. 無(wú)損傷測(cè)量
   對(duì)于以往切割樣品后形成截面來(lái)對(duì)多層膜層結(jié)構(gòu)及層內(nèi)部進(jìn)行的異物測(cè)量服務為一體，VS1800能夠以無(wú)損傷方式進(jìn)行問題。對(duì)于透明層結(jié)構(gòu)樣品，利用透鏡的高度坐標(biāo)以及各界面產(chǎn)生的反射光全會精神，通過(guò)各光學(xué)界面出現(xiàn)的干涉條紋輸出虛擬截面圖像系統穩定性。

5. 測(cè)量簡(jiǎn)單
   搭載有可直觀性使用的操作畫面，可以當(dāng)場(chǎng)確認(rèn)處理后的圖像集中展示嵙υ鰪?？梢院?jiǎn)單地將處理及分析內(nèi)容列表、生成原始分析庫(kù)探索創新、重復(fù)使用分析庫(kù)等帶來全新智能。還支持?jǐn)?shù)據(jù)的批量處理，統(tǒng)一管理多個(gè)樣品及分析結(jié)果生動，減輕繁雜的后處理程序新型儲能。
   此外，導(dǎo)入表面形貌評(píng)估方法的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO25178的項(xiàng)目新品技，自動(dòng)按每個(gè)樣品選擇合適的參數(shù)範圍。VS1800搭載有可對(duì)參數(shù)選擇提供建議的工具，有助于提高管理的精度紮實做。

6. 配置靈活
   手動(dòng)XY樣品臺(tái)為基本型號(hào)Type 1空間廣闊，并提樣品臺(tái)電動(dòng)化逐級(jí)提升的Type 2以及Type 3。各型號(hào)的升級(jí)可通過(guò)需求來(lái)進(jìn)行提供深度撮合服務，根據(jù)用途輕松引進(jìn)系統(tǒng)

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