GD-Profiler 2是一款可進(jìn)行超快鍍層分析的理想工具相互配合，非常適合于導(dǎo)體（和/或）非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析慢體驗。可分析70多種元素智能化，其中包括C了解情況、H、O技術研究、N和Cl重要的。一次測(cè)試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度姿勢、鍍層均一性及表面/界面等信息和諧共生。
GD-Profiler 2可分析幾納米到200微米的深度，深度分辨率小于1納米適應性強。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源技術交流，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。此外拓展，還采用了多項(xiàng)技術(shù)創造更多，如高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器（HDD）可測(cè)試ppm-99%的濃度范圍，Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。主要應(yīng)用領(lǐng)域包括鍍鋅鋼板工藝技術、彩涂板效率、新型半導(dǎo)體材料、LED晶片近年來、硬盤(pán)講道理、有機(jī)鍍層、鋰電池技術先進、玻璃更多的合作機會、陶瓷等等。
技術(shù)參數(shù)
1認為、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置服務好、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高反應能力、濺射束斑極為平坦共謀發展、等離子體穩(wěn)定時(shí)間極短，表面信息無(wú)任何失真結構重塑。
2聽得懂、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜高質量發展。
3全方位、Polyscan多道（同時(shí)）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm-800nm越來越重要的位置，可測(cè)試遠(yuǎn)紫外元素C新技術、H共同學習、O順滑地配合、N和Cl。
4效高、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有光通量前沿技術，因而擁有快速的光效率和靈敏度。
5性能、高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器（HDD）可快速多種方式、高靈敏的檢測(cè)ppm-99%含量的元素。動(dòng)態(tài)范圍為5×1010技術創新。
6深入交流研討、寬大的樣品室方便各類(lèi)樣品的加載。
7廣泛應用、Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測(cè)報(bào)告關註度。
8、HORIBA的單色儀（選配）可極大地提高儀器靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個(gè)元素的同步測(cè)試敢於挑戰，稱(chēng)為n+1不斷創新。
9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)提供了遵循。
