GDA 750 HP輝光光譜儀對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題深化涉外，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法體系。采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂層，如玻璃開展試點，陶瓷攜手共進，釉質(zhì)和油漆涂層。

GDA 750 HP輝光光譜儀在金屬分析領(lǐng)域中推進一步，輝光放電分析是濃度分析和表面分析的手段大部分。表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制解決方案。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分的特性。 
對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法基礎。采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂層提供堅實支撐，如玻璃，陶瓷高產，釉質(zhì)和油漆涂層信息化技術。 

輝光光譜儀主要特點：
1.涂（鍍）層材料和均相材料化學(xué)成分的分析，痕量和微量合金元素的檢測和測量
2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價
3.測定被分析表面層內(nèi)部的相/相比
4.軟件基于Windows 2000環(huán)境良好，日常分析功能采用易用的軟件界面逐步顯現，使用戶能很快地熟悉儀器的使用
5.具有許多適于用戶的軟件功能選項，如顯示輸出引領、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式

GDA750輝光光譜儀可以配備60個以上的分析通道自動化裝置，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂（鍍）層的深度可測量至200µm應用前景。表面分析和獲得的分辨率達1個原子層有很大提升空間。分析軟件具有強大功能并且靈活易用；化學(xué)成分可以與其他特性首次，如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時測定可能性更大。 
通過比較涂（鍍）層工藝過程（CVD，PVD）前后的表面特性搖籃，確保生產(chǎn)工藝過程*化和zui大程度地避免廢品浪費技術。GDA750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學(xué)成分），為復(fù)雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線推動。 
采用可選的射頻輝光放電光源技術研究，GDA750可用于分析非導(dǎo)電性材料，如陶瓷開展研究，玻璃和油漆涂層姿勢。