品牌：恩科優(yōu)（N&Q）
型號：NXQ400-8
產(chǎn)地：美國
恩科優(yōu)光刻機分為半自動和全自動兩大系列效果。其中，N&Q4000系列光刻機是以半自動系統(tǒng)為主合規意識。該系統(tǒng)*的操作性密度增加，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)創新內容，現(xiàn)代的接近式和接觸式光刻及超高的性價比機遇與挑戰，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國各地眾多企業(yè)、研發(fā)中心善於監督、研究所和高校采用集成技術，并成為他們光刻系統(tǒng)的；
二更合理、技術(shù)參數(shù)：
1適應能力、芯片尺寸：5mm~200mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片（支持對不規(guī)則碎片的特殊卡盤設(shè)計）；
2各方面、曝光波長：350nm-450nm（其它波長可選配）防控；
3、汞燈功率：350W/500W（其它功率可選配）適應性；
4堅實基礎、分辨率：優(yōu)于0.5um；
5重要作用、曝光模式：支持接近式曝光等地，各種接觸式（真空接觸最為顯著、軟接觸、硬接觸等）曝光規定；
6穩定、出射光強范圍：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；
7供給、支持恒定光強或恒定功率模式優勢與挑戰；
8、曝光時間：0.1~999.9s解決方案；
9趨勢、對準(zhǔn)精度：雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監(jiān)視器，對準(zhǔn)精度可達(dá)到0.4微米內(nèi)上高質量；
10一站式服務、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器)；
11著力增加、光強均勻性Uniformity：
<±1% over 2” 區(qū)域智能化；
<±2% over 4” 區(qū)域；
<±3% over 6” 區(qū)域處理；
12建設、雙面光刻：具備背面紅外對準(zhǔn)（IR BSA）和光學(xué)背面對準(zhǔn)（OBS BSA），雙面對準(zhǔn)精度≤2μm助力各行；
13前來體驗、電源：高靈敏度光強可控電源。
可選型號：
NXQ400-6
NXQ400-8
NXQ800-6
NXQ8006 Sapphire
NXQ800-8
三確定性、產(chǎn)品特點：
可選支持單面對準(zhǔn)和雙面對準(zhǔn)設(shè)計更加廣闊；
高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場顯微鏡鏡頭（基于無限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計）；雙頭高清全彩物鏡（單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇）講故事；
高清彩色雙顯示屏非常完善；
全新氣動軸承導(dǎo)軌設(shè)計，高精準(zhǔn)全面革新，低磨損作用，無需售后維護的；
具有自動執(zhí)行楔形誤差補償線上線下，并在找平后自動定位功能發揮重要作用；
操作簡易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面數據顯示；
操控手柄調(diào)控模式的設(shè)計高質量；
采用LED穿透物鏡照明技術(shù)，具有對準(zhǔn)亮度；
采用基于無限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu)註入了新的力量；
抗衍射反射的高效光學(xué)光路設(shè)計重要的作用；
帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器；
全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度去創新；
設(shè)備穩(wěn)定性足夠的實力，耐用性超高；
