TC-Wafer是將高精度溫度傳感器鑲嵌在晶圓表面銘記囑托，對晶圓表面的溫度進行實時測量。通過晶圓的測溫點了解特定位置晶圓的真實溫度自動化裝置，以及晶圓整體的溫度分布示範，同還可以監(jiān)控半導體設備控溫過程中晶圓發(fā)生的溫度變化，獲得升溫有很大提升空間、降溫以及恒溫過程期間的溫度溫度數(shù)據(jù)運行好，從而了解半導體設備的溫度均勻度。
TC-Wafer晶圓測溫系統(tǒng) 真空腔體溫度監(jiān)控

TC-Wafer晶圓測溫系統(tǒng) 真空腔體溫度監(jiān)控

一可能性更大、【晶圓測溫的重要性】

       在晶圓制造過程中部署安排，溫度的均衡與控制對于保證晶體生長、薄膜沉積和離子注入等工藝的穩(wěn)定性至關重要技術。晶圓測溫技術能夠實時監(jiān)測晶圓表面的溫度分布推廣開來，確保整個晶圓上各處的溫度保持一致推動，從而避免不均勻性引發(fā)的問題。

      TC-Wafer采用*的溫度傳感技術資源配置，能夠以高精度測量晶圓表面溫度信息。這對于芯片制造過程中的溫度控制至關重要，有助于提高生產效率和產品質量大力發展。

系統(tǒng)配備了多個溫度傳感器豐富內涵，可同時監(jiān)測晶圓不同位置的溫度變化。這種多點監(jiān)測的能力有助于發(fā)現(xiàn)溫度梯度產能提升，優(yōu)化生產過程并減少不均勻性適應性。

二、【產品用途】

       TC-Wafer是將高精度溫度傳感器鑲嵌在晶圓表面總之，對晶圓表面的溫度進行實時測量面向。通過晶圓的測溫點了解特定位置晶圓的真實溫度，以及晶圓整體的溫度分布研學體驗，同還可以監(jiān)控半導體設備控溫過程中晶圓發(fā)生的溫度變化建設項目，獲得升溫、降溫以及恒溫過程期間的溫度溫度數(shù)據(jù)落實落細，從而了解半導體設備的溫度均勻度相結合。

三、【產品特點】

- 傳輸通道數(shù)量可定制;

- 優(yōu)異的軟件功能製高點項目，可用圖形及顏色顯示溫度分布狀況;

- 數(shù)據(jù)可儲存調用;

- 可提供溫度曲線圖為產業發展，方便直觀的看到溫度變化趨勢

- 真空環(huán)境下，溫度傳感器保持高精度和良好的穩(wěn)定性

四資源優勢、【應用行業(yè)】

TC-Wafer晶圓測溫系統(tǒng)應用于許多行業(yè)高效利用，包括快速熱處理 (RTP)、快速熱退火 (RTA)估算、曝光后烘烤 (PEB)講理論、化學氣相沉積 (CVD)、物理氣相沉積 (PVD)不要畏懼、ION 等應用注入服務為一體、太陽能電池和許多其他熱驅動工藝。智測電子具有高精度溫度測量與控制技術和經驗逐漸顯現，支持產品定制全會精神。

TC-Wafer晶圓測溫系統(tǒng) 真空腔體溫度監(jiān)控