μMLA是桌面式激光直寫的新技術(shù)開放要求，在科研微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用領(lǐng)域中是一臺(tái)適合入門級(jí)的工具向好態勢。μMLA具有靈活性和可定制性，可支持小至毫米大小范圍的樣品服務機製。

μMLA原理：

利用強(qiáng)度可變的激光束對(duì)基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光貢獻力量，顯影后便在抗蝕層表面形成要求的圖形。

μMLA具有以下優(yōu)點(diǎn)：

? 分辨率高

? 無(wú)掩模光刻

? 靈活性與可定制性

? 可以設(shè)定多樣的實(shí)驗(yàn)條件

主要功能

? 光柵掃描曝光

? 快速曝光復(fù)雜的圖形

? 灰度光刻

技術(shù)能力

? 基板尺寸：從5毫米到5英寸

? 特征尺寸：低至0.6 µm

? 寫入速度（4 µm分辨率）：200 mm 2 / min

? 實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)

? 正面對(duì)準(zhǔn)

? 易于使用的操作軟件

? 2種可用的光學(xué)設(shè)置

? 曝光模塊選擇：光柵和/或矢量掃描

? 可變分辨率

? 繪畫模式

? 波長(zhǎng)（光柵掃描）：390 nm或365 nm曝光波長(zhǎng)

? 波長(zhǎng)（矢量掃描）：405 nm和/或375 nm

? 廣角攝像機(jī)大幅拓展，用于對(duì)準(zhǔn)和檢查

應(yīng)用

半導(dǎo)體芯片發行速度、微機(jī)電、微流體與時俱進、微光學(xué)性能、掩模版及其他有微納米結(jié)構(gòu)需求的領(lǐng)域。