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薄膜厚度測量系統(tǒng)TF200

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產(chǎn)品簡介:TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)利用薄膜干涉光學(xué)原理新品技,對(duì)薄膜進(jìn)行厚度測量及分析範圍。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線紮實做。TF200根據(jù)反射回來的干涉光空間廣闊,用反復(fù)校準(zhǔn)的算法快速反演計(jì)算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm提供深度撮合服務,可同時(shí)完成多層膜厚的測試。對(duì)于100nm以上的薄膜,還可以測量nk值各有優勢。

產(chǎn)品型號(hào)

TF200-VIS

TF200-EXR

TF200-DUV

TF200-XNIR

主要特點(diǎn)

快速自然條件、準(zhǔn)確、無損的過程中、靈活發展契機、易用、性價(jià)比高

應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體(SiO2/SiNx促進進步、光刻膠發力、MEMSSOI等)

LCD/TFT/PDP(液晶盒厚迎來新的篇章、聚亞酰胺ITO)

LED (SiO2共創美好、光刻膠ITO等)

觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等)

汽車(防霧層、Hard Coating DLC等)

醫(yī)學(xué)(聚對(duì)二甲苯涂層球囊/壁厚藥膜等)

 

波長范圍

380-1050nm

380-1700nm

190-1100nm

900-1700nm

厚度范圍

50nm-40um

50nm-300um

1nm-30um

10um-3mm

準(zhǔn)確度(取決于材料0.4%2nm之間取較大者)

2nm

2nm

1nm

10nm

精度

0.2nm

0.2nm

0.2nm

3nm

入射角

90°

90°

90°

90°

樣品材料

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

測量模式

反射/透射

反射/透射

反射/透射

反射/透射

光斑尺寸(可選微光斑附件薄弱點。

2mm

2mm

2mm

2mm

是否能在線

掃描選擇

XY可選

XY可選

XY可選

XY可選


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