SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)是由日本AGUS生產(chǎn)的桌面型ALD原子層沉積設(shè)備實施體系，可搭載2路前驅(qū)體。適用于4英寸（φ 100mm）基片的沉積各有優勢，并可搭載粉末樣品架和手套箱效果較好。

SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)

SAL-1000Series是由日本AGUS生產(chǎn)的桌面型ALD原子層沉積設(shè)備，可搭載2路前驅(qū)體持續。適用于4英寸（φ 100mm）基片的沉積等多個領域，并可搭載粉末樣品架和手套箱。

SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)具備如下特點(diǎn)：

1.良好的成膜性能產品和服務，膜厚均勻性高提供了有力支撐，≤3%

· 對(duì)于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性前景；

· 膜厚可準(zhǔn)確控制達(dá)一個(gè)原子層；

· 大面積制程可達(dá)到無孔洞薄膜（Pin Hole free）

· *的重復(fù)性及穩(wěn)定性

· 材料缺陷密度低

· 可成長(zhǎng)非晶型或結(jié)晶薄膜（選擇溫度）

2.優(yōu)異的真空性能增幅最大，真空度≤5Pa

3.觸控操作共享應用，簡(jiǎn)單易用；

·觸摸屏使用戶可以輕松設(shè)置配方或沉積過程標準，并檢查每個(gè)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)示範推廣。

·可進(jìn)行自動(dòng)沉積，并在沉積完成后自動(dòng)完成N₂排放。

·手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動(dòng)完成大幅增加。

4.配件豐富特性，可滿足多種試驗(yàn)需求：

基底旋轉(zhuǎn)架、粉末樣品配件等特點、手套箱建言直達、臭氧發(fā)生器、尾氣處理設(shè)備至關重要、200℃前驅(qū)體的加熱器不久前，干式真空泵等；

粉末沉積配件：傾斜框架可調(diào)整的角度為0 ~ 45°提升行動，更便于粉末成膜能力建設。單次可對(duì)5cm³的粉體進(jìn)行表面沉積；