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三離子束切割儀 Leica EM TIC 3X

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我也要出現(xiàn)在這里

幾乎任何材質(zhì)樣品都可獲得高質(zhì)量截面異常狀況,在沒有任何變形或損傷的情況下揭開樣品內(nèi)部真實結(jié)構(gòu)信息,在使用徠卡EM TIC3X之前高效,這類工作從未變得如此之簡單應用創新。徠卡EM TIC 3X三離子束切割儀適宜處理軟/硬復合、帶有孔縫結(jié)構(gòu)機構、熱敏感性的特性、脆性及非均質(zhì)樣品,獲得樣品截面基礎,從而進行掃描電子顯微鏡(SEM)提供堅實支撐,微區(qū)分析(EDS,WDS高產,Auger信息化技術,EBSD)及原子力顯微鏡或掃描探針顯微鏡(AFM,SPM)檢測良好。三離子束(分別獨立控制)逐步顯現,冷凍樣品臺及多樣品臺,確保離子束對樣品處理高效單產提升,切割區(qū)域?qū)捛疑顐鬟f,從而獲得高質(zhì)量截面切割結(jié)果試驗。

詳細信息 在線詢價

三離子束技術(shù)

三離子束部件垂直于樣品側(cè)表面勞動精神,因此在進行離子束轟擊時樣品(固定在樣品托上)不需要做擺動運動以減少投影/遮擋效應(yīng)開展攻關合作,這又保證有效的熱傳導,減少樣品在處理過程中受熱變形預下達。
技術(shù)
三離子束匯聚于擋板邊緣的中點的有效手段,形成一個100°轟擊扇面,切向暴露于擋板上方的樣品(樣品上端高出擋板約20-100μm)方案,直到轟擊到達樣品內(nèi)部目標區(qū)域關鍵技術。新型設(shè)計的離子槍可產(chǎn)生的離子束研磨速率達到300μm/h (Si10 kV,3.0 mA深入,50μm切割高度)技術研究。徠卡*的三離子束系統(tǒng),可獲得優(yōu)異的高質(zhì)量切割截面開展研究,并且速率高姿勢,切割面寬且深,這可大大節(jié)約工作時間培養。通過這一*技術(shù)可獲得高質(zhì)量切割截面交流研討,區(qū)域尺寸可達>4×1mm

Leica EM TIC 3X - 設(shè)計和操作方面的創(chuàng)新性特點

高通量,提高成本收益
??可獲得高質(zhì)量切割截面形式,區(qū)域尺寸可達>4×1mm
??多樣品臺設(shè)計可一次運行容納三個樣品
??離子研磨速率高建設應用,Si材料300μm/h,50μm切割高度日漸深入,可滿足實驗室高通量要求
??可容 納 大 樣 品 尺 寸 為50×50×10mm
??可使用的樣品載臺多種多樣簡單易用動力,高精度
??可簡易準確地完成將樣品安裝到載臺上以及調(diào)節(jié)與擋板相對位置的校準工作
??通過觸摸屏進行簡單操控,不需要特別的操作技巧
??樣品處理過程可實時監(jiān)控互動式宣講,可以通過體視鏡或HD-TV攝像頭觀察
?? LED照明生產效率,便于觀察樣品和位置校準
??內(nèi)置式,解耦合設(shè)計的真空泵系統(tǒng)適應性,提供一個無振動的觀察視野
??可在制備好的平整的切割截面上可再進行襯度增強作用節點,即離子束刻蝕處理。
??通過USB即可進行參數(shù)和程序的上傳或下載
??幾乎適用于任何材質(zhì)樣品
??使用冷凍樣品臺落地生根,擋板和樣品溫度可降至–150°C
多種多樣的樣品載臺

幾乎適合于各式尺寸樣品的特點,并適合于廣泛用途。如用一個樣品托有效保障,就可以完成前機械預制備(徠卡EM TXP)至離子束切割(徠卡EM TIC 3X)大數據,以及SEM鏡檢,然后再放入樣品存儲盒中以備后續(xù)檢測講實踐。
襯度增強

在離子束切割之后數字技術,無需取下樣品,用同樣的樣品載臺還可對樣品進行襯度 增強作用市場開拓,可以強化樣品內(nèi)不同相之前的拓撲結(jié)構(gòu)(如晶界)
高精度

現(xiàn)在措施,樣品中越來越小的細節(jié)結(jié)構(gòu)正逐步受到人們的關(guān)注大大縮短。而通過切割獲得截面,如獲得很小的TSVia孔結(jié)構(gòu)緊密相關,已經(jīng)變得輕而易舉更默契了。所有樣品臺都設(shè)計達到±2μm的樣品位置校準精度。不僅樣品臺的控制精度可以實現(xiàn)如此精確的目標定位校準工作培訓,觀察系統(tǒng)也可觀察小約3μm大小的樣品細節(jié)不合理波動,以便進行精確的目標定位。為幫助定位時更好地觀察樣品分析,4分割LED環(huán)形光源或LED同軸照明提供很大幫助表示,幫助使用者從體視鏡或HD-TV攝像頭中獲得清晰的圖像。
由于將真空泵內(nèi)置于儀器內(nèi)部非常激烈,因此不需要再單獨騰出一個空間拓展基地。得益于真空泵的解耦合設(shè)計,在樣品制備過程中實力增強,觀察視野不會受到真空泵產(chǎn)生的振動干擾體系流動性。

廣州領(lǐng)拓儀器科技有限公司

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