P-17是第八代臺(tái)式探針輪廓儀參與能力，是40多年的表面量測(cè)經(jīng)驗(yàn)的結(jié)晶合理需求。該系統(tǒng)業(yè)界，支持對(duì)臺(tái)階高度充分發揮、粗糙度高質量、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測(cè)量，其掃描可達(dá)200mm而無(wú)需圖像拼接選擇適用。

該系統(tǒng)結(jié)合了UltraLite®傳感器管理、恒力控制和超平掃描平臺(tái)，因而具備出色的測(cè)量穩(wěn)定性業務指導。 通過(guò)點(diǎn)擊式平臺(tái)控制改進措施、頂視和側(cè)視光學(xué)系統(tǒng)以及帶光學(xué)變焦的高分辨率相機(jī)等功能，程序設(shè)置簡(jiǎn)便快速長足發展。 P-17具備用于量化表面形貌的各種濾鏡今年、調(diào)平和分析算法，可以支持2D或3D測(cè)量實施體系。 并通過(guò)圖案識(shí)別組建、排序和特征檢測(cè)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量。

二發揮、功能

設(shè)備特點(diǎn)

臺(tái)階高度：幾納米至1000μm

微力恒力控制：0.03至50mg

樣品全直徑掃描顯著，無(wú)需圖像拼接

視頻：500萬(wàn)像素高分辨率彩色攝像機(jī)

圓弧校正：消除由于探針的弧形運(yùn)動(dòng)引起的誤差

軟件：簡(jiǎn)單易用的軟件界面

生產(chǎn)能力：通過(guò)測(cè)序、圖案識(shí)別和SECS/GEM實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化

主要應(yīng)用

臺(tái)階高度：2D和3D臺(tái)階高度

紋理：2D和3D粗糙度和波紋度

形狀：2D和3D翹曲和形狀

應(yīng)力：2D和3D薄膜應(yīng)力

缺陷復(fù)檢：2D和3D缺陷表面形貌

工業(yè)應(yīng)用

半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體

LED：發(fā)光二極管

太陽(yáng)能

MEMS：微機(jī)電系統(tǒng)

數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

汽車(chē)

醫(yī)療設(shè)備

三開放以來、應(yīng)用案例

臺(tái)階高度

P-17可以提供納米級(jí)到1000μm的2D和3D臺(tái)階高度的測(cè)量占。 這使其能夠量化在蝕刻高質量，濺射，SIMS激發創作，沉積前景，旋涂，CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料增幅最大。P-17具有恒力控制功能共享應用，無(wú)論臺(tái)階高度如何都可以動(dòng)態(tài)調(diào)整并施加相同的微力。這保證了良好的測(cè)量穩(wěn)定性并且能夠精確測(cè)量諸如光刻膠等軟性材料標準。

紋理：粗糙度和波紋度

P-17提供2D和3D紋理測(cè)量并量化樣品的粗糙度和波紋度示範推廣。軟件濾鏡功能將測(cè)量值分為粗糙度和波紋度部分，并計(jì)算諸如均方根（RMS）粗糙度之類的參數(shù)即將展開。

外形：翹曲和形狀

P-17可以測(cè)量表面的2D形狀或翹曲大幅增加。這包括對(duì)晶圓翹曲的測(cè)量，例如半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中的多層沉積期間由于層與層的不匹配是導(dǎo)致這種翹曲的原因傳承。P-17還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑等特點。

應(yīng)力：2D和3D薄膜應(yīng)力

P-17能夠測(cè)量在生產(chǎn)包含多個(gè)工藝層的半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件期間所產(chǎn)生的應(yīng)力。使用應(yīng)力卡盤(pán)將樣品支撐在中性位置并精確測(cè)量樣品翹曲多種。 然后通過(guò)應(yīng)用Stoney方程將進一步，利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來(lái)計(jì)算應(yīng)力。2D應(yīng)力通過(guò)在直徑達(dá)200mm的樣品上通過(guò)單次掃描測(cè)量發展成就，無(wú)需圖像拼接成就。3D應(yīng)力的測(cè)量采用多個(gè)2D掃描，并結(jié)合θ平臺(tái)在掃描之間的旋轉(zhuǎn)對(duì)整個(gè)樣品表面進(jìn)行測(cè)量互動式宣講。

缺陷復(fù)檢

缺陷復(fù)查用于測(cè)量如劃痕深度之類的缺陷形貌效高性。 缺陷檢測(cè)設(shè)備找出缺陷并將其位置坐標(biāo)寫(xiě)入KLARF文件。 “缺陷復(fù)檢”功能讀取KLARF文件自動化、對(duì)準(zhǔn)樣本互動互補，并允許用戶選擇缺陷進(jìn)行2D或3D測(cè)量。