P-17是第八代臺式探針輪廓儀結構重塑，是40多年的表面量測經(jīng)驗的結(jié)晶。該系統(tǒng)業(yè)界應用優勢，支持對臺階高度高質量發展、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測量高效節能，其掃描可達(dá)200mm而無需圖像拼接重要平臺。
該系統(tǒng)結(jié)合了UltraLite®傳感器、恒力控制和超平掃描平臺核心技術，因而具備出色的測量穩(wěn)定性應用提升。 通過點擊式平臺控制、頂視和側(cè)視光學(xué)系統(tǒng)以及帶光學(xué)變焦的高分辨率相機(jī)等功能創造性，程序設(shè)置簡便快速發展的關鍵。 P-17具備用于量化表面形貌的各種濾鏡、調(diào)平和分析算法規模設備，可以支持2D或3D測量真諦所在。 并通過圖案識別指導、排序和特征檢測實現(xiàn)全自動測量。
二充分、功能
設(shè)備特點
臺階高度：幾納米至1000μm
微力恒力控制：0.03至50mg
樣品全直徑掃描進一步完善，無需圖像拼接
視頻：500萬像素高分辨率彩色攝像機(jī)
圓弧校正：消除由于探針的弧形運(yùn)動引起的誤差
軟件：簡單易用的軟件界面
生產(chǎn)能力：通過測序、圖案識別和SECS/GEM實現(xiàn)全自動化
主要應(yīng)用
臺階高度：2D和3D臺階高度
紋理：2D和3D粗糙度和波紋度
形狀：2D和3D翹曲和形狀
應(yīng)力：2D和3D薄膜應(yīng)力
缺陷復(fù)檢：2D和3D缺陷表面形貌
工業(yè)應(yīng)用
半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體
LED：發(fā)光二極管
太陽能
MEMS：微機(jī)電系統(tǒng)
數(shù)據(jù)存儲
汽車
醫(yī)療設(shè)備
三競爭力、應(yīng)用案例
臺階高度
P-17可以提供納米級到1000μm的2D和3D臺階高度的測量調整推進。 這使其能夠量化在蝕刻，濺射機製性梗阻，SIMS不斷創新，沉積，旋涂提供了遵循，CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料參與水平。P-17具有恒力控制功能，無論臺階高度如何都可以動態(tài)調(diào)整并施加相同的微力服務效率。這保證了良好的測量穩(wěn)定性并且能夠精確測量諸如光刻膠等軟性材料明確相關要求。
紋理：粗糙度和波紋度
P-17提供2D和3D紋理測量并量化樣品的粗糙度和波紋度。軟件濾鏡功能將測量值分為粗糙度和波紋度部分統籌發展，并計算諸如均方根（RMS）粗糙度之類的參數(shù)深化涉外。
外形：翹曲和形狀
P-17可以測量表面的2D形狀或翹曲。這包括對晶圓翹曲的測量創新科技，例如半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中的多層沉積期間由于層與層的不匹配是導(dǎo)致這種翹曲的原因服務延伸。P-17還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。
應(yīng)力：2D和3D薄膜應(yīng)力
P-17能夠測量在生產(chǎn)包含多個工藝層的半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件期間所產(chǎn)生的應(yīng)力具有重要意義。使用應(yīng)力卡盤將樣品支撐在中性位置并精確測量樣品翹曲進一步。 然后通過應(yīng)用Stoney方程，利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來計算應(yīng)力強大的功能。2D應(yīng)力通過在直徑達(dá)200mm的樣品上通過單次掃描測量實際需求，無需圖像拼接。3D應(yīng)力的測量采用多個2D掃描優勢，并結(jié)合θ平臺在掃描之間的旋轉(zhuǎn)對整個樣品表面進(jìn)行測量善謀新篇。
缺陷復(fù)檢
缺陷復(fù)查用于測量如劃痕深度之類的缺陷形貌。 缺陷檢測設(shè)備找出缺陷并將其位置坐標(biāo)寫入KLARF文件便利性。 “缺陷復(fù)檢”功能讀取KLARF文件方法、對準(zhǔn)樣本，并允許用戶選擇缺陷進(jìn)行2D或3D測量提供有力支撐。
