KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術實現(xiàn)薄膜厚度的精確測量環境，其測量范圍從nm-mm，可實現(xiàn)如光刻膠、氧化物相對簡便、硅或者其他半導體膜重要組成部分、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量合作，被廣泛應用于半導體勃勃生機、微電子、生物醫(yī)學等領域極致用戶體驗。Filmetrics具有F10-HC提供有力支撐、F20、F32建議、F40品率、F50、F60-t等多款產(chǎn)品不斷發展，可測量從幾mm到450mm大小的樣品積極影響，薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。Filmetrics F10-RT以真空鍍膜為設計目標集成，只要單擊鼠標即可獲得反射和透射光譜重要手段。 不需要費時改變硬件配置，F(xiàn)10-RT-UV 僅需要透過單擊鼠標就能夠同時收集反射與透射光譜穩定性，不到一秒鐘的時間像一棵樹，陣列的光譜儀就可以快速的收集到資料。另外去突破，F(xiàn)ilmetrics 的Autobaseline 設計可以減少十倍以上的基準校準的參數(shù)讀取時間能運用。只需傳統(tǒng)價格的一小部分，用戶就能進行低/分析智能設備、確定 FWHM 并進行顏色分析不可缺少。可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力特點。測量結果能被快速地導出和打印提高鍛煉。

一、 主要功能

l 主要應用

同步測量薄膜的反射率和穿透率

? 空間色彩系統(tǒng)的色彩分析

? 多層薄膜分析能力

? 膜厚和參數(shù)解算模塊

l 技術能力

光譜波長范圍：380-1050 nm

厚度測量范圍：15nm-70μm

測量n&k小厚度：100 nm

準確度：取較大值凝聚力量，2nm或0.4%

精度：0.1nm

穩(wěn)定性：0.07nm

光斑大杏兴嵘?。?mm

二、 應用

半導體制造：光刻膠新的力量、氧化物先進水平、氮化物

液晶顯示器：液晶間隙、聚酰亞胺保護膜全面展示、納米銦錫金屬氧化物

生物醫(yī)療原件：聚合物/聚對二甲苯涂層重要平臺、生物膜/氣泡球厚度深刻認識、藥物涂層支架

微機電系統(tǒng)：硅膜、氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡

光學鍍膜：硬鍍膜應用提升、增透鍍膜主動性、Filters濾光