光刻機/紫外曝光機 /電子束刻蝕系統(tǒng)是所有進口設(shè)備中性能價格比較高的型號記得牢，達到歐美品牌的對準精度，CCD顯示屏對準更為方便重要的作用，液晶觸摸屏操作更多可能性，采用歐司朗紫外燈，壽命長足夠的實力。

光刻機/紫外曝光機 /電子束刻蝕系統(tǒng)

儀器簡介：

原產(chǎn)國: 韓國緊迫性，能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：KCMA-100更適合；
又名：掩模對準曝光機高效，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)要素配置改革，光刻機體系，紫外曝光機等；
ECOPIA為領(lǐng)前的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商核心技術體系，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)開拓創新，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子必然趨勢、生物器件和納米科技領(lǐng)域促進善治；該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力多樣性；并且其設(shè)備被眾多*企業(yè)道路、研發(fā)中心、研究所和高校所采用真諦所在；以優(yōu)質(zhì)的技術(shù)指導、*的工藝和良好的服務(wù)競爭力，贏得了用戶的青睞。

光刻機/紫外曝光機 /電子束刻蝕系統(tǒng)是所有進口設(shè)備中性能價格比較高的型號進一步完善，達到歐美品牌的對準精度集聚，CCD顯示屏對準更為方便，液晶觸摸屏操作調整推進，采用歐司朗紫外燈狀況，壽命長。整機效果皮實耐用機製，正常使用3年內(nèi)不會出問題Ｈ^程。?br />目前探討，上海藍光已采用該公司全自動型光刻機做LED量化生產(chǎn)不負眾望，證明其品質(zhì)達到LED產(chǎn)業(yè)標準要求！調解製度！而且已經(jīng)成功提供圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻工藝設(shè)備.

主要特點：
- 光源強度可控精準調控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)創新內容；
- 系統(tǒng)控制：手動機遇與挑戰、半自動和全自動控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式善於監督；
- 真空吸盤范圍可調(diào)集成技術；
- 專項技術(shù)：可雙面對準，可雙面光刻更合理，具有IR和CCD模式
- 兩個CCD顯微鏡系統(tǒng)適應能力，大放大1000倍，顯示屏直接調(diào)節(jié)各方面，比傳統(tǒng)目鏡對準更方便快捷防控，易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做適應性；
- 具有楔形補償功能堅實基礎；

技術(shù)參數(shù)：
- 基片尺寸：4、6方法、8行動力、12、25英寸切實把製度，其他尺寸可定制保供；
- 光束均勻性：<±3%；
- 曝光時間可調(diào)范圍：0.1 to 999.9秒進行部署；
- 對準精度：0.6-1微米
- 分辨率：1微米責任；
- 光束輸出強度：15-25mW/cm2應用情況；